-
公开(公告)号：KR1020070057373A
公开(公告)日：2007-06-07
申请号：KR1020050116758
申请日：2005-12-02
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/027
Abstract: Semiconductor photo spinner equipment is provided to reduce a time required for measuring a thickness of photoresist formed on a wafer which is rotated by a spin chuck in real time. A spin coater applies photoresist onto a waver, and a baking unit bakes the photoresist applied on the spin coater. A wafer edge exposing unit has a spin chuck(214) rotating the wafer with the photoresist baked by the baking unit, and an exposing part(212) exposing an edge of the wafer rotated by the spin chuck. A thickness measuring unit(270) is provided on one side of the wafer edge exposing unit to measure a thickness of the photoresist formed on the water rotated by the spin chuck.
Abstract translation: 提供半导体光电旋转设备以减少测量由旋转卡盘实时旋转的晶片上形成的光致抗蚀剂所需的时间。 旋转涂布机将光致抗蚀剂施加到摇摆器上，并且烘烤单元将施加在旋涂机上的光致抗蚀剂烘烤。 晶片边缘曝光单元具有旋转卡盘（214），其旋转晶片与由烘焙单元烘烤的光致抗蚀剂;以及曝光部分（212），暴露由旋转卡盘旋转的晶片的边缘。 厚度测量单元（270）设置在晶片边缘曝光单元的一侧，以测量由旋转卡盘旋转的水上形成的光刻胶的厚度。
-
公开(公告)号：KR1020070071510A
公开(公告)日：2007-07-04
申请号：KR1020050135023
申请日：2005-12-30
Applicant: 삼성전자주식회사
Inventor： 박연학
IPC: H01L21/027
Abstract: A baking unit and an exposing apparatus having the same are provided to prevent change of a photoresist layer on a wafer when a discharge of the wafer is delayed by a baking unit for baking the wafer on which an exposing process is performed to discharge it. A pre-alignment unit aligns a flat zone of a wafer(W) where a photoresist layer is applied. An exposing unit irradiates light onto the wafer to selectively expose the photoresist layer. A baking unit(100) includes a chuck(110), a baking plate(120), and a driving unit(130). The baking unit discharges the exposed wafer. The chuck supports the wafer. The baking plate elevates along the chuck and bakes the wafer. The driving unit elevates the baking plate so that the baking plate is adjacent to the wafer in order to bake the wafer. The driving unit drops the baking plate so that the baking plate is separated from the baked wafer.
Abstract translation: 提供一种烘焙单元和具有该烘烤单元的曝光设备，以防止当晶片的放电被烘焙单元延迟时，晶片上的光致抗蚀剂层发生变化，烘焙单元用于烘烤执行曝光处理的晶片以将其排出。 预对准单元对准施加有光致抗蚀剂层的晶片（W）的平坦区域。 曝光单元将光照射到晶片上以选择性地曝光光致抗蚀剂层。 烘烤单元（100）包括卡盘（110），烘烤板（120）和驱动单元（130）。 烘烤单元对暴露的晶片进行放电。 卡盘支撑晶片。 烘烤板沿着卡盘升高并烘烤晶片。 驱动单元提升烘烤板，使得烘烤板与晶片相邻以便烘烤晶片。 驱动单元将烘烤板放下，使烘烤板与烘烤的晶片分离。
-
公开(公告)号：KR1020070036237A
公开(公告)日：2007-04-03
申请号：KR1020050091002
申请日：2005-09-29
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/304
Abstract: 스테이지 상에 잔류하는 오염물을 스테이지 손상 없이 제거하는 스테이지와 스테이지 세정 방법, 이를 갖는 노광 장치에 있어서, 스테이지는 플레이트와, 상기 플레이트와 연결되어 상기 플레이트 상부면에 잔류하는 오염물을 나노 파티클로 분해시키기 위하여 열을 제공하는 가열부를 포함한다. 상기 플레이트 상부면 상에 오염물 유무를 체크한 후, 오염물이 잔류하는 경우 가열부를 이용하여 상기 오염물을 노광 공정에 영향을 미치지 않는 나노 크기의 파티클로 분해시켜 상기 오염물을 플레이트로부터 제거한다. 이로써, 상기 오염물을 제거하는 시간을 단축할 수 있으며, 오염물이 제거되는 동안 스테이지의 이동이 없어 이동에 의한 손상을 미연에 방지할 수 있다.
-
公开(公告)号：KR100170321B1
公开(公告)日：1999-03-30
申请号：KR1019950022549
申请日：1995-07-27
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: G10L13/00
Abstract: 본 발명은 음성신호 발생방법 및 그에 적합한 장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 소정의 음성데이타를 샘플링하여 메모리 소자에 저장한후 제어신호에 따라 상기 음성데이타를 합성하거나 편집하거나 혹은 음성레벨을 변화시켜 출력하는 음성신호 발생방법 및 장치에 관한 것이다.
본 발명에 의한 음성신호 발생방법은 소정의 음성데이타를 샘플링하여 메모리소자에 저장한후 제어신호에 따라 상기 음성데이타를 합성하거나 편집 혹은 음성레벨 및 시간간격을 변화시킴으로써, 다양한 음성신호를 발생할 수 있다.
따라서, 본 발명에 의한 음성신호 발생장치는 메모리소자에 기록된 음성데이타를 다양하게 변화시켜 음성신호를 발생함으로써, 음성신호 발생장치장치의 크기를 줄일 수 있다.-
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR1020080059795A
公开(公告)日：2008-07-01
申请号：KR1020060133519
申请日：2006-12-26
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/304
Abstract: A coating solution nozzle structure for a semiconductor manufacturing apparatus is provided to improve a yield by minimizing contamination happening during a photoresist coating process. A coating solution nozzle(2) has an opened tip which is received with a coating solution from a supply line and is used for coating an upper surface of a target. A contamination removing unit(32) is provided at an outside of the coating solution nozzle to spray a cleaning solution which removes a contamination source adhered on the opened tip. The contamination removing unit has a cleaning solution supply pipe(L2) and a control valve(35) supplying the cleaning solution to the cleaning solution supply pipe at constant pressure.
Abstract translation: 提供了一种用于半导体制造装置的涂布溶液喷嘴结构，以通过最小化光致抗蚀剂涂覆过程中发生的污染来提高产量。 涂布溶液喷嘴（2）具有开口的尖端，其从供给管线接收涂覆溶液并用于涂覆目标的上表面。 在涂布液喷嘴的外侧设置有污染去除单元（32），以喷射除去附着在打开的顶端上的污染源的清洁溶液。 污物去除单元具有清洁溶液供给管（L2）和控制阀（35），其以恒定的压力将清洗液供给清洗液供给管。
-
公开(公告)号：KR1019970005023A
公开(公告)日：1997-01-29
申请号：KR1019950022549
申请日：1995-07-27
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: G10L13/00
Abstract: 본 발명은 음성신호 발생방법 및 그에 적합한 장치에 관한 것으로, 본 발명에 의한 방법은 음성신호를 발생시키기 위한 소정의 제어신호를 생성하는 제1단계; 제1단계에서 생성된 제어신호를 따라서 소정의 음성데이타를 선택하고, 선택된 음성데이타를 복수개의 채널을 통하여 전송하는 제2단계; 및 제2단계에서 전송된 음성데이타를 혼합하여 출력하는 제3단계로 이루어진다.
본 발명에 의한 장치는 여러가지 음성데이타가 디지탈적으로 코딩되어 기록된 메모리소자; 소정의 제어신호에 따라서 메모리소자에 기록된 소정의 음성데이타를 디코딩하고, 이득을 제어하며, 디지탈 데이타를 아날로그 데이타로 변화하여 음성신호를 출력하는 복수개의 채널; 복수개의 채널에서 전송되는 각각의 음성신호를 혼합하는 혼합기; 및 메모리소자와 복수개의 채널과, 혼합기를 제어하기 위한 소정의 제어신호를 생성하는 마이크로프로세서를 포함한다.
따라서, 본 발명은 메모리소자에 저장된 음성데이타를 합성하거나 편집 혹은 음성레벨 및 시간간격을 변화시킴으로써, 다양한 음성신호를 발생할 수 있다.-
公开(公告)号：KR1020070050538A
公开(公告)日：2007-05-16
申请号：KR1020050107846
申请日：2005-11-11
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: G03F7/20
Abstract: 반도체 장치의 제조 공정에서 두 개 이상의 스테이지를 갖는 노광 장치를 사용하여 반도체 기판에 대한 노광 공정을 수행하는 기판 노광 방법에 있어서, 상기 기판의 고유 번호를 판독하고, 상기 판독된 고유 번호에 따라 상기 스테이지들 중에서 하나를 선택한 후에 상기 선택된 스테이지 상으로 상기 기판을 로딩하고 상기 선택된 스테이지 상에 로딩된 기판에 대하여 노광 공정을 수행한다. 따라서, 기판에 대한 노광 공정을 일부 또는 전부를 병행할 시에, 공정 오차가 중첩되는 것을 용이하게 개선시킬 수 있다.
-
公开(公告)号：KR1020070018170A
公开(公告)日：2007-02-14
申请号：KR1020050072575
申请日：2005-08-09
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/027
CPC classification number: H01L21/0273 , H01L21/324
Abstract: 기판에 균일한 열 에너지를 전달할 수 있는 베이크 장치는, 웨이퍼를 가열하기 위한 히터와 상기 히터 상에 배치되어 상기 히터로부터 상기 웨이퍼로 열 에너지를 전달하며, 상기 열 에너지에 의해 상기 웨이퍼의 표면을 따라 플렉시블하게 변형되는 플레이트를 제공한다. 따라서, 기판 전 영역을 균일한 온도로 베이크 하여, 기판 상에 포토레지스트 막 또는 패턴을 균일하게 형성한다.
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
10
records
(took 0.017 seconds)
