-
公开(公告)号：KR1020090078546A
公开(公告)日：2009-07-20
申请号：KR1020080004430
申请日：2008-01-15
Applicant: 삼성전자주식회사
CPC classification number: H04W52/0212 , H04L67/327 , H04W52/0229 , Y02D70/142 , Y02D70/146 , H04L65/4061 , Y02D70/00
Abstract: A method and an apparatus for reducing power consumption of a wireless network device, and a computer readable medium thereof are provided to enable a wireless portable terminal using an IP based wireless network to connect to an internet network all the time, thereby making communication possible and maximally maintain a sleep state. A packet is received. It is determined whether to transmit the received packet to a host(260) based on a set reference through a state of the host and the host. A state of the host is determined through state information of the host. If the host is in a sleep state, it is determined whether to transmit the received packet according to the set reference.
Abstract translation: 提供一种用于降低无线网络设备的功耗的方法和装置及其计算机可读介质，以使得能够使用基于IP的无线网络的无线便携式终端始终连接到因特网，从而使通信成为可能，并且 最大限度地保持睡眠状态。 收到数据包。 基于通过主机和主机的状态的设置的参考来确定是否将接收到的分组发送到主机（260）。 通过主机的状态信息确定主机的状态。 如果主机处于睡眠状态，则确定是否根据设置的参考来发送接收到的分组。
-
公开(公告)号：KR100363090B1
公开(公告)日：2002-11-30
申请号：KR1020000030036
申请日：2000-06-01
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/027
Abstract: 개구부용 포토마스크에 발생한 불투명 결함의 수리 방법에 관해 개시한다. 본 발명에 따른 포토마스크 결함의 수리 방법은 전-식각 단계에 의해 결함의 두께를 낮춘 후, 광투과부 영역내의 전-식각된 결함이 형성되어 있는 영역을 제외한 영역에만 선택적으로 보정막을 형성한 다음 보정막 및 전-식각된 결함을 동시에 식각하여 불투명 결함을 수리한다. 본 발명의 수리 방법에 따르면, 포토마스크의 불투명 결함을 높은 정확도로 수리할 수 있다.
-
公开(公告)号：KR1020020082580A
公开(公告)日：2002-10-31
申请号：KR1020010022068
申请日：2001-04-24
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/3065
CPC classification number: H01J37/32724 , G03F1/80 , H01J37/32009 , H01J2237/2001
Abstract: PURPOSE: A plasma etching chamber and a method for fabricating a photo mask using the same are provided to form a pattern of a shielding layer having a uniform CD(Critical Dimension) distribution on all areas of a photo mask substrate by improving a structure of the plasma etching chamber. CONSTITUTION: A plasma etching chamber(10) is formed with a chamber wall(12), a TCP(Transformer Coupled Plasma) coil(14) installed on an upper portion of the chamber wall(12), and the first power source(16) for applying RF power to the TCP coil(14). An electrode(30) is installed on a bottom portion of the inside of the chamber wall(12). The electrode(30) is used for supporting a photo mask substrate(20). The electrode(30) has a support side(32) for supporting the photo mask substrate(20) and an upper side(34) for surrounding the support side(32) around the support side(32). A sidewall(36) is extended between the upper side(34) and the support side(32). The support side(32) has a steppe portion. The second power source(18) is connected with a lower portion of the chamber wall(12). A heat transfer element(40) is installed around an edge of the support side(32). The heat transfer element(40) is connected with a heater(50).
Abstract translation: 目的：提供等离子体蚀刻室和使用其的光掩模的制造方法，以通过改善光掩模基板的结构来形成具有均匀的CD（临界尺寸）分布的屏蔽层的图案 等离子体蚀刻室。 构造：等离子体蚀刻室（10）形成有室壁（12），安装在室壁（12）的上部的TCP（变压耦合等离子体）线圈（14））和第一电源（16） ），用于向所述TCP线圈（14）施加RF功率。 电极（30）安装在室壁（12）内部的底部。 电极（30）用于支撑光掩模基板（20）。 电极（30）具有用于支撑光掩模基板（20）的支撑侧（32）和围绕支撑侧（32）围绕支撑侧（32）的上侧（34）。 侧壁（36）在上侧（34）和支撑侧（32）之间延伸。 支撑侧（32）具有草原部分。 第二电源（18）与室壁（12）的下部连接。 传热元件（40）安装在支撑侧（32）的边缘周围。 传热元件（40）与加热器（50）连接。
-
公开(公告)号：KR1019970022505A
公开(公告)日：1997-05-28
申请号：KR1019950034993
申请日：1995-10-11
Applicant: 삼성전자주식회사
Inventor： 김진민
Abstract: 본 발명은 웨이퍼에 패턴을 전사하기 위하여 기판 상에 차광성 물질로 형성되는 패턴이 물리적인 접촉에 의하어 손상되지 않도록 한 포토 마스크 제조 방법에 관한 것이다.
본 발명은, 기판 상에 포토케지스트 패턴을 형성하는 단계; 상기 포토레지스트 패턴을 식각 마스크로 하여 노출된 상기 기판을 건식 식각하여 소정 깊이의 홈을 형성하는 단계; 상기 포토레지스트 패턴을 스트리핑하는 단계; 상기 기판 상의 전면에 차광성 물질층을 형성시키는 단계: 및 상기 차광성 물질층을 화학 및 물리적 폴리싱 (Chemical Mechanical Polishing) 방법으로 식각하여 상기 홈에만 상기 차광성 물질이 남도록 하는 기판상 차광성 물질 패턴을 형성하는 단계; 를 포함함을 특징으로 한다.
본 발명에 의하면, 포토 마스크의 기판 상에 형성된 패턴이 물리적인 접수에 의하여 손상되지 않으므로 생산성 및 수온을 향상시킬 수 있고, 초미세패턴의 전사에 용이한 포토마스크를 제조할 수 있는 효과가 있다.-
公开(公告)号：KR1019950015578A
公开(公告)日：1995-06-17
申请号：KR1019930025137
申请日：1993-11-24
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/027
Abstract: 위상 시프트막의 결함 (defect)을 직접 레이저를 사용하여 리페어하는 위상 반전 마스크의 제조 방법을 개시한다. 투명한 기관상에 시프트막과 차광층을 형성하고 상기 차광층의 소정부위를 부분식각하여 사이에 개구부를 갖는 차광층 패턴을 형성한다. 다음에 상기 차광층 패턴의 개구부 아래에 형성된 상기 시프트 막을 부분 식각하여 홈 구조의 시프트 막 패턴을 형성하고 상기 시프트 막패턴 형성시 상기 시프트 막 패턴의 홈구조안에 발생되는 잔사결함을 레이저로 직접 리페어한다. 본 발명은 시프트 마스크 막을 SOG등의 다결절 물질을 사용하고, 시프트 막의 잔사결함을 직접 레이저로 리페어 함으로써 공정의 단순화를 이룰 수 있으며 웨이퍼상에 패턴을 정확하고 정밀하게 형성할 수 있다.
-
Patent Agency Ranking6.发明公开
公开(公告)号：KR1020090115287A
公开(公告)日：2009-11-05
申请号：KR1020080041051
申请日：2008-05-01
Applicant: 삼성전자주식회사
Abstract: PURPOSE: An apparatus and method for providing location information and apparatus for supporting location based service and method for using location based service are provided to achieve the simplicity of the location based service. CONSTITUTION: The storage part(113) stores the location information about the location in which the location information supplying apparatus is attached. The transmission part(114) transmits the location information. The transmission part transmits periodically the location information. The reception par](111) receives the updated location information. The controller(112) stores the storage in the location information. The output part(122) outputs the location information.
Abstract translation: 目的：提供一种用于提供用于支持基于位置的服务的位置信息和装置以及用于使用基于位置的服务的方法的装置和方法，以实现基于位置的服务的简单性。 构成：存储部（113）存储有关位置信息供给装置所在的位置的位置信息。 发送部（114）发送位置信息。 传输部分周期性地发送位置信息。 接收参数]（111）接收更新的位置信息。 控制器（112）将存储器存储在位置信息中。 输出部（122）输出位置信息。
-
公开(公告)号：KR1020090078545A
公开(公告)日：2009-07-20
申请号：KR1020080004429
申请日：2008-01-15
Applicant: 삼성전자주식회사
CPC classification number: H04W52/028 , Y02D70/00
Abstract: A method for controlling power of a communication device for communicating with a wireless broadband communication network and an apparatus thereof are provided to supply improved convenience to a user when using a communication device. A method for controlling power of a communication device for communicating with a wireless broadband communication network comprises the following steps. A data packet is received(210). It is determined whether a part included in a communication device or the entire communication device is used in processing of the received packet(220). Partial devices of the communication device or the entire communication device are awaken from a sleep mode to an awake mode to process the data packet based on the determination.
Abstract translation: 提供了一种用于控制用于与无线宽带通信网络通信的通信设备的电力的方法及其装置，以在使用通信设备时为用户提供改进的便利性。 一种用于控制与无线宽带通信网络通信的通信设备的电力的方法包括以下步骤。 接收数据分组（210）。 确定在接收到的分组（220）的处理中是否使用包括在通信设备中的部分或整个通信设备。 通信设备或整个通信设备的部分设备从休眠模式唤醒到基于确定的处理数据分组的唤醒模式。
-
公开(公告)号：KR100165524B1
公开(公告)日：1999-03-20
申请号：KR1019960028880
申请日：1996-07-16
Applicant: 삼성전자주식회사
Inventor： 김진민
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/2022 , G03F1/44
Abstract: 본 발명은 포토리소그래피 공정의 노광 방법에 관한 것으로, 본 발명에서는 반도체 기판 위에 적층된 포토레지스트막을 상기 포토레지스트막상의 광 투과 영역을 한정하는 소정의 패턴에 따라 전자 빔을 사용하여 노광하기 위하여 상기 소정의 패턴을 사용하여 소정의 광량을 가지는 제1 도즈량으로 1차 노광을 행하는 단계와, 상기 소정의 패턴중 충실도가 취약한 부분을 포함하도록 상기 포토레지스트막의 일부 영역을 한정하는 보정 패턴을 사용하여 상기 소정의 광량보다 작은 광량을 가지는 제2 도즈량으로 2차 노광을 행하는 단계를 포함한다. 본 발명에 의하면, 별도의 추가 노광에 의해 포토마스크의 충실도를 증가시킬 수 있으며, 추가 노광시의 도즈량을 조절함으로써 포커스 마진을 개선할 수 있다.
-
-
公开(公告)号：KR1019970004475B1
公开(公告)日：1997-03-28
申请号：KR1019930025137
申请日：1993-11-24
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/027
Abstract: A method of fabricating a phase shift mask includes the steps of forming a shift layer of SOG and light shielding layer on a transparent substrate, patterning the light shielding layer to form light shielding layer patterns, selectively etching a portion of the shift layer, formed under an opening placed between the light shielding layer patterns, to form a shift layer pattern having trench structure, and directly repairing defects generated in the trench when the shift layer pattern is formed.
Abstract translation: 制造相移掩模的方法包括以下步骤：在透明基板上形成SOG和遮光层的移位层，对遮光层进行构图以形成遮光层图案，选择性地蚀刻位移层的一部分，形成在 设置在遮光层图案之间的开口，以形成具有沟槽结构的移动层图案，并且在形成移位层图案时直接修复在沟槽中产生的缺陷。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
31
records
(took 0.019 seconds)
