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公开(公告)号：KR1020050077339A
公开(公告)日：2005-08-02
申请号：KR1020040004951
申请日：2004-01-27
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: G03F7/022
Abstract: 도포가 균일한 포토레지스트 막을 형성하기 위한 포토레지스트 조성물 및 이을 이용한 포토레지스트 패턴의 제조 방법이 개시되어 있다. 포토레지스트 조성물은 노볼락 수지를 함유하는 고분자 수지 10 내지 20중량%와, 디아지드계 감광성 화합물 2 내지 10중량% 및 혼합 유기용매 70 내지 90중량%를 포함하고 있어 도포성이 우수할 뿐만 이니라 뭉게 얼룩이 발생하는 않는 포토레지스트 막을 형성하는데 적용된다. 이러한 포토레지스트 조성물로 형성되는 포토레지스트 패턴은 형성이 균일하게 이루어져 선폭의 균일성이 뛰어나며 Strip후에 배선에 잔존할 수 있는 얼룩의 발생이 적게 되어 제품 특성 향상에 도움이 된다.
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公开(公告)号：KR100973799B1
公开(公告)日：2010-08-03
申请号：KR1020030000270
申请日：2003-01-03
Applicant: 주식회사 동진쎄미켐 , 삼성전자주식회사
IPC: G03F7/004
CPC classification number: G03F7/0236 , G03F7/0048
Abstract: 본 발명은 MMN 코터용 포토레지스트 조성물에 관한 것으로, 보다 상세하게는 2000 내지 12000의 분자량을 가지는 노볼락 수지, 및 디아지드계 감광성 화합물을 포함하고 유기용매와 Si계 계면활성제의 조성과 함량을 조절하여 액정표시장치의 회로용으로 사용되는 포토레지스트 조성물에 관한 것이다.
본 발명의 액정표시장치 회로용 포토레지스트 조성물은 대형 기판 글래스에 대응 가능한 MMN(MULTI-MICRO NOZZLE, 이하 'MMN'이라 함) 코터(Coater)에서 발생되는 얼룩과 코팅 특성을 향상시켜 실제 산업 현장에 용이하게 적용할 수 있어 생산성 및 수율 향상에 큰 기대 효과를 나타낼 수 있다.
포토레지스트 조성물, MMN 코터, 액정표시장치 회로-
公开(公告)号：KR1020060080391A
公开(公告)日：2006-07-10
申请号：KR1020050000769
申请日：2005-01-05
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: G02F1/13
CPC classification number: G02F1/1309
Abstract: 본 발명은 분석장치 및 이를 이용한 분석방법에 관한 것으로, 상부의 개구를 가지고 기판을 수용하는 용기본체부와; 개구를 밀봉하며 처리용액의 출입을 위해 적어도 하나 이상의 통과공을 가지고 있는 덮개부; 및 기판을 가열하기 위한 가열부 및 용기본체부 내부에 압력을 공급하기 위한 가압부 중 적어도 어느 하나를 갖는 조절부를 포함하는 것을 특징으로 한다. 이에 의해, 공정조건과 유사한 환경으로 용출되는 이온을 분석하며 시료간의 유의차를 확인하여 불량의 원인을 파악할 수 있다.
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公开(公告)号：KR1020040062756A
公开(公告)日：2004-07-09
申请号：KR1020030000270
申请日：2003-01-03
Applicant: 주식회사 동진쎄미켐 , 삼성전자주식회사
IPC: G03F7/004
CPC classification number: G03F7/0236 , G03F7/0048
Abstract: PURPOSE: A photoresist composition for an MMN (multi-micronozzle) head coater, a method for forming a pattern by using the composition and a semiconductor device containing the pattern formed by the method are provided, to improve the uniformity of coating and to reduce the generation of spots. CONSTITUTION: The photoresist composition comprises 5-30 wt% of a polymer resin represented by the formula 1; 2-10 wt% of a diazide-based photosensitive compound; 50-90 wt% of an organic solvent; and 500-4,000 ppm of a Si-based surfactant, wherein R is an alkyl group of C1-C4, and n is an integer of 15-10,000. Preferably the polymer resin is a novolac resin having a molecular weight of 2,000-12,000; the organic solvent is at least one selected from the group consisting of propylene glycol methyl ether acetate, ethyl lactate, 1-methoxyethyl acetate, n-butyl acetate, propylene glycol monomethyl ether and ethyl-3-ethoxy propionate; and the Si-based surfactant is a polyoxyalkylene dimethyl polysiloxane copolymer.
Abstract translation: 目的：提供一种用于MMN（多微喷嘴）头涂机的光致抗蚀剂组合物，通过使用该组合物形成图案的方法和包含通过该方法形成的图案的半导体器件，以提高涂层的均匀性并减少 一代的斑点。 构成：光致抗蚀剂组合物包含5-30重量％的由式1表示的聚合物树脂; 2-10重量％的二叠氮基感光性化合物; 50-90重量％的有机溶剂; 和500-4,000ppm的Si-基表面活性剂，其中R是C1-C4的烷基，n是15-10,000的整数。 优选地，聚合物树脂是分子量为2,000-12,000的酚醛清漆树脂; 有机溶剂为选自丙二醇甲基醚乙酸酯，乳酸乙酯，乙酸1-甲氧基乙酯，乙酸正丁酯，丙二醇单甲基醚和乙酸3-乙氧基丙酸酯中的至少一种; Si系表面活性剂是聚氧化烯二甲基聚硅氧烷共聚物。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR1020060066324A
公开(公告)日：2006-06-16
申请号：KR1020040104889
申请日：2004-12-13
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: G02F1/13
CPC classification number: G02F1/136259 , G02F1/136286 , G02F2001/136263
Abstract: 본 발명은 기판 상의 배선에 레이저를 조사하는 레이저 장치와, 상기 레이저 장치에 인접하게 위치하는 분사구를 포함하는 가스 분사 장치와, 흡입구를 가지는 진공 장치를 포함하는 것을 특징으로 한다. 이에 의하여, 배선 절단 공정에서 발생한 파편을 효율적으로 제거할 수 있어 파편으로 인한 불량발생을 감소시킬 수 있다.
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公开(公告)号：KR1020050079033A
公开(公告)日：2005-08-09
申请号：KR1020040007116
申请日：2004-02-04
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: G03F7/022
Abstract: 포토레지스트의 해상도를 향상시키기 위한 고분자 감광성 화합물과 이를 포함하는 포토레지스트 조성물 및 이의 제조 방법이 개시되어 있다. 하기 화학식(1)로 표기되는 고분자 감광성 화합물10 내지 30중량%과, 메타/파라 노볼락 수지10내지 60 중량% 및 유기 용매 10내지 80중량%을 포함하는 포지티브형 포토레지스트 조성물은 포토레지스트 막의 코팅 및 해상도를 향상시켜 약 3.5㎛ 이하 선폭을 갖는 포토레지스트 패턴을 형성할 수 있다.
[화학식 1]-
公开(公告)号：KR1020050022494A
公开(公告)日：2005-03-08
申请号：KR1020030060969
申请日：2003-09-02
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: G03F7/023
CPC classification number: G03F7/0048 , G03F7/022 , G03F7/023
Abstract: PURPOSE: Provided are a photoresist composition of liquid crystal display device for spinless coater to protect spots and have homogeneous coating, and a process for forming photoresist pattern of the liquid crystal display device. CONSTITUTION: The composition comprises 5-30wt.% of novolac resin having 2000 to 15000 of weight average molecular weight, 2-10wt.% of diazide-based photosensitive compound and 60-90wt.% of volatile organic solvent. The spinless coater(250) moves while spraying the photoresist composition(220) through slit type nozzle(210) to apply the composition(220) on substrate(200). By using the slit nozzle(210), the amount used of the composition(220) is greatly reduced and the agglomerate of the composition is avoided.
Abstract translation: 目的：提供一种用于无纺布涂布机的液晶显示装置的光致抗蚀剂组合物，用于保护斑点并具有均匀的涂层，以及用于形成液晶显示装置的光致抗蚀剂图案的工艺。 构成：该组合物包含5-30重量％的具有2000至15000重均分子量的酚醛清漆树脂，2-10重量％的二叠氮基感光性化合物和60-90重量％的挥发性有机溶剂。 无纺布涂布机（250）在通过狭缝型喷嘴（210）喷涂光致抗蚀剂组合物（220）时移动，以将组合物（220）施加到基底（200）上。 通过使用狭缝喷嘴（210），组合物（220）的使用量大大降低，避免了组合物的附聚物。
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公开(公告)号：KR101035845B1
公开(公告)日：2011-05-19
申请号：KR1020040007116
申请日：2004-02-04
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: G03F7/022
Abstract: 포토레지스트의 해상도를 향상시키기 위한 고분자 감광성 화합물과 이를 포함하는 포토레지스트 조성물 및 이의 제조 방법이 개시되어 있다. 하기 화학식(1)로 표기되는 고분자 감광성 화합물10 내지 30중량%과, 메타/파라 노볼락 수지10내지 60 중량% 및 유기 용매 10내지 80중량%을 포함하는 포지티브형 포토레지스트 조성물은 포토레지스트 막의 코팅 및 해상도를 향상시켜 약 3.5㎛ 이하 선폭을 갖는 포토레지스트 패턴을 형성할 수 있다.
[화학식 1]-
9.发明公开
公开(公告)号：KR1020050077572A
公开(公告)日：2005-08-03
申请号：KR1020040005408
申请日：2004-01-28
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: G03F7/022
Abstract: 본 발명은 스핀 코팅용 포토레지스트 조성물, 이를 이용한 포토레지스트 패턴 형성 방법 및 이를 포함하는 액정 표시 장치의 제조 방법에 관한 것으로서, 스핀 코팅용 포토레지스트 조성물은 2000 ~ 15000 중량 평균 분자량의 노볼락 수지, 디아지드계 감광성 화합물 및 휘발성 유기 용매를 포함한다. 이러한 포토레지스트 조성물 및 이를 이용한 포토레지스트 패턴의 형성 방법은 휘발성 용매를 적절히 혼합하여 사용함으로써 균일도와 얼룩 발생을 최소화 할 수 있고, 포토 공정의 오차를 줄일 수 있어 공정 마진의 향상, 수율 향상 및 생산성 증대에 도움이 된다.
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