公开(公告)号：KR1020050049695A

公开(公告)日：2005-05-27

申请号：KR1020030083393

申请日：2003-11-22

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 한종우 ,  조정온 ,  김영주 ,  이상일 ,  김보현 ,  박태찬

IPC: C23C14/34

CPC classification number: H01J37/3479 ,  G05B19/128

Abstract: 스퍼터링 설비 및 방법은 공정이 진행되는 공간을 갖으며 일측에 공정가스를 공급하는 가스공급관이 설치된 진공챔버와, 진공챔버의 하측에 설치되어 웨이퍼를 안착시키는 웨이퍼 척과, 진공챔버의 측벽을 커버하도록 설치되며 전류가 공급되어 애노드가 되는 쉴드와, 진공챔버의 상측에 설치된 타겟과, 타겟에 결합되며 전류가 공급되는 캐소드와, 쉴드와 상기 캐소드에 전류를 공급하는 전원 및 타겟의 소모정도를 측정하는 타겟소모측정기를 포함한다.