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公开(公告)号：KR1020060061089A
公开(公告)日：2006-06-07
申请号：KR1020040099957
申请日：2004-12-01
Applicant: 삼성전자주식회사
Inventor： 배종선
IPC: H01L21/306
CPC classification number: H01L21/67069 , H01L21/67265 , H01L21/6831
Abstract: 본 발명은 기판이 정전척에 정상적으로 놓여졌는지를 확인할 수 있는 반도체 제조 장치에 관한 것이다. 본 발명에 의하면 반도체 식각 설비는 기판 지지대의 정전척상에 기판이 정위치에 놓여졌는지를 감지하는 센서부를 포함한다. 상기 센서부는 상기 공정챔버의 내측 벽면에 설치되는 그리고 기판와의 거리를 감지하는 적어도 하나 이상의 거리감지센서 그리고 상기 적어도 하나 이상의 거리감지센서로부터 기판이 정위치에 놓여져 있지 않았다는 신호를 받으면, 공정 진행을 중단하고, 알람을 발생시키는 제어부를 포함한다.
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公开(公告)号：KR200132550Y1
公开(公告)日：1998-12-15
申请号：KR2019960014822
申请日：1996-06-04
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: B01D35/00
Abstract: 본 고안은 정수기의 정수교환시기 및 정수흐름량, 그리고 정수배수시기 등을 제어할 수 있는 정수기 제어 시스템에 관한 것으로, 정수기에서 사용되는 물을 정수하는 정수부와, 상기 정수부의 하단에 설치되어 상기 정수부로 부터의 정수흐름을 제어하는 정수흐름제어부와, 그리고 상기 정수흐름제어부의 하단에 설치되어 상기 정수흐름제어부에서 낙수된 정수를 배수하는 낙수배수부를 구비한 정수기 제어 시스템에 있어서, 상기 정수부에 설치되어 물의 교환시기를 알려주는 정수교환시기알림센서와; 상기 정수흐름제어부에 설치되어 설정된 시간 동안 정수가 흐르도록 제어하는 정수흐름량제어센서와; 상기 정수흐름제어부에 설치되어 센싱되는 동안 정수가 흐르도록 제어하는 정수흐름제어센서와; 상기 낙수배수부에 설치되어 상기 정수흐름제어부로부터 낙수된 정수가 일정량에 이르면 배수시기를 알리는 낙수배수시기알림센서와; 상기 낙수배수부와 연결된 배수라인상에 설치되어 상기 낙수배수시기알림센서가 동작되면 상기 낙수배수부로 낙수된 정수가 배수되도록 온상태로 되는 공압밸브를 포함한다. 이와같은 제어 시스템에 의해서, 물과 전기의 소모량을 절감할 수 있고, 여러개의 센서가 각각 물교환시기, 물흐름제어, 그리고 낙수배수시기를 자동제어하기 때문에 물의 교환시기 등을 매번 사용자가 직접 확인해야 하는 등의 불편함을 해결할 수 있다.
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公开(公告)号：KR100436543B1
公开(公告)日：2004-07-16
申请号：KR1019970038935
申请日：1997-08-14
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/306
Abstract: PURPOSE: A bit of dry etching equipment is provided to prevent polymers from being attached to a GDP(Gas Distribution Plate) by breaking heat-transfer using an insulator inserted between a top lid and a chamber body. CONSTITUTION: A cathode(122) is mechanically connected with a lower portion in a chamber body(120). A top lid(130) is mechanically connected with an upper portion of the chamber body. An insulator(136) for breaking heat-transfer is inserted between the top lid and the chamber body. A heater(134) is used for heating the top lid. A gas supply line(150) is connected with the top lid to supply gas into the chamber body. A GDP(132) is installed between the top lid and the chamber body to distribute the gas. A heat exchanger(160) is used for controlling the temperature of the chamber body. The insulator is made of one selected from a group consisting of Teflon, rubber and ceramic.
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公开(公告)号：KR1019990016405A
公开(公告)日：1999-03-05
申请号：KR1019970038935
申请日：1997-08-14
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/306
Abstract: 본 발명은 열전달을 차단하는 절연체를 갖는 건식 에칭 장비에 관한 것으로서, 탑 리드와 챔버 몸체 사이를 절연체를 삽입하여 열전달을 차단하는 것을 특징으로 하는 건식 에칭 장비를 제공함으로써, 탑 리드 부분에 있는 GDP의 온도를 쉽게 상승시키고 정확히 조절하여 GDP에서 폴리머 부착을 막을 수 있다. 그러므로 건식 에칭 공정 중에 폴리머 입자들이 GDP에서 떨어져 웨이퍼 표면을 덮어 생기는 불완전 에칭을 방지하며, 정밀한 회로 패턴을 만들어 고집적 반도체 칩을 만들 수 있게 되는 이점이 생기게 된다.
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Patent Agency Ranking
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公开(公告)号：KR1019970030608A
公开(公告)日：1997-06-26
申请号：KR1019950044335
申请日：1995-11-28
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/68
Abstract: 본 발명은 반도체 제조 공정중 웨이퍼의 이송에 따라 발생되는 틀어짐 현상 등을 적절히 보상 처리하기 위해 마련되는 얼라인(ALIGN) 장치에 관한 것으로, 특히 웨이퍼의 운반 부재에 접촉 면적의 감지 기능을 갖는 캡 센서(CAP SENSOR)를 배치하여 웨이퍼의 이송(TRANSFER) 계통에서 연속적으로 얼라인이 가능하게 한 웨이퍼 얼라인(ALIGN) 장치에 관한 것으로 웨이퍼 이송 수단에 연결된 운반 부재, 상기 운반 부재 상에 배치된 캡 센서를 구비하여 웨이퍼 이송중 웨이퍼의 접촉 면적 감지에 의해 얼라인 확인이 가능함을 특징으로 하는 웨이퍼 얼라인(ALIGN) 장치.
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公开(公告)号：KR1020020061711A
公开(公告)日：2002-07-25
申请号：KR1020010002635
申请日：2001-01-17
Applicant: 삼성전자주식회사
Inventor： 배종선
IPC: H01L21/68
Abstract: PURPOSE: An apparatus for detecting alignment of a wafer is provided to make the wafer properly settled in a charger and not broken when the charger holds the wafer and to guarantee that the charger can hold the wafer, by aligning a flat zone of the wafer through a sensor. CONSTITUTION: A pair of align rollers(108) rotate on the lower portion of a plurality of wafers(102). The align rollers align the flat zone of the wafers, in parallel with each other and at a regular interval. The first sensor forms a light path at a predetermined distance from the lower portion of the flat zone of the wafer, positioned between the align rollers and composed of a light emitting unit and a light receiving unit. The second sensor forms a light path at a predetermined distance from the lower portion of the flat zone of the wafer, positioned between the align rollers and separated from the first sensor by a predetermined interval, wherein the light path formed by the second sensor is in parallel with the light path formed by the first sensor.
Abstract translation: 目的：提供一种用于检测晶片对准的装置，以使晶片适当地置于充电器中并且当充电器保持晶片时不会破裂，并且通过将晶片的平坦区域对准，以保证充电器能够保持晶片 一个传感器 构成：一对对准辊（108）在多个晶片（102）的下部旋转。 对准辊将晶片的平坦区域彼此平行并且以规则的间隔对准。 第一传感器形成距离晶片的平坦区域的下部预定距离的光路，位于对准辊之间并由发光单元和光接收单元组成。 第二传感器形成距离晶片的平坦区域的下部预定距离的光路，位于对准辊之间并与第一传感器分离预定间隔，其中由第二传感器形成的光路处于 与由第一传感器形成的光路平行。
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公开(公告)号：KR100197890B1
公开(公告)日：1999-06-15
申请号：KR1019960020406
申请日：1996-06-07
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/302
Abstract: 건식식각을 위한 전압인가용 전극이 공정 중 적정온도를 유지하도록 냉각시키는 시스템을 자동화 시스템으로 개선시킨 반도체 제조용 식각설비의 냉각장치에 관한 것이다.
본 발명은 식각설비의 전극이 공급라인과 회수라인을 통한 냉각액의 순환방식으로 냉각되도록 구성되는 냉각장치에 있어서, 상기 공급라인에 제1개폐부가 설치되고 상기 제1개폐부와 상기 전극 사이의 공급라인에 결합된 기체 공급용 결합라인에 제2개폐부가 설치되며 상기 회수라인에 제3개폐부가 설치된 개폐수단 및 상기 냉각액이 수용된 탱크의 상부에 공기 배출용 제4개폐부가 설치되고 상기 탱크부터 상기 전극으로의 상기 냉각액의 공급이 이루어지는 공급모드, 상기 탱크의 냉각수 출입이 차단되는 중지모드 및 상기 공급라인, 전극 및 회수라인의 냉각액을 탱크로 모으는 교체모드로 구분하여 상기 냉각액의 순환을 제어하도록 조작수단이 구비된 칠러를 구비하여 이루어진다.
따라서, 냉각 장치의 조작이 용이하고, 밸브의 개폐가 자동화되어 생산성이 극대화되고, 작업성이 향상되는 효과가 있다.-
公开(公告)号：KR200129802Y1
公开(公告)日：1999-02-01
申请号：KR2019950050850
申请日：1995-12-28
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/306
Abstract: 건식 식각장치에 대해 기재되어 있다. 이는, 공급라인과 회수라인을 통해 냉매를 흘려주어 양극을 냉각시키기 위한 췰러와, 양극의 하부에 위치하는 하부전극과, 공급라인과 회수라인의 냉매를 단속하기 위해 췰러에 부착하여 설치된 공급밸브와 회수밸브와, 양극의 교체 작업시에 냉매를 배출하기 위한 드레인 밸브를 구비하는 건식 식각장치에 있어서, 양극의 교체 작업시 공급라인의 냉매를 단속하기 위해 하부전극에 부착하여 설치된 냉매배출용 공급밸브와, 양극의 교체 작업시 회수라인의 냉매를 단속하기 위해 하부전극에 부착하여 설치된 냉매배출용 회수밸브와, 냉매의 배출시에 압력을 공급하여 냉매가 원활히 배출되도록 하부전극에 부착하여 설치된 압력밸브와, 냉매의 배출시에 외부로의 배출을 단속하기 위해 상기 하부전극에 부착하여 설치된 냉매배출밸브를 더 구비하는 � �을 특징으로 한다. 따라서, 양극의 교체 작업시에 수반되는 냉매의 배출 및 재충전에 소요되는 시간을 줄일 수 있게 되며,이에 따라 종래의 건식 식각장치에서 양극의 교체 작업시에 작업성이 떨어지고 설비의 PM율이 중가하여 설비의 가동율이 저하되는 등의 문제를 해소할 수 있게 된다.
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