公开(公告)号：WO2022025588A1

公开(公告)日：2022-02-03

申请号：PCT/KR2021/009700

申请日：2021-07-27

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김수환 ,  김현준 ,  박영림 ,  백동관 ,  정형석

IPC: C23C16/448 ,  C23C16/44 ,  C23C16/52

Abstract: 본 발명의 실시예에 따른 증착 시스템은, 반응 챔버, 반응 챔버에 기체 상태의 전구체를 공급하는 가스 공급부, 반응 챔버에 전구체와 반응하는 반응물을 공급하는 반응물 공급부, 및 반응 챔버에서 나온 배기물을 배출하는 배기부를 포함하고, 가스 공급부는 순차적으로 연결되는 서브 탱크, 액체 유량 컨트롤러, 및 기화기를 포함하고, 전구체는 자동 충진 시스템에 의해 가스 공급부의 서브 탱크에 액체 상태로 충진되고, 서브 탱크, 액체 유량 컨트롤러, 및 기화기를 순차적으로 경유하여 반응 챔버로 공급되며, 배기부는 플라즈마 전처리 시스템이 적용되는 처리 공정 챔버, 펌프, 및 스크러버를 포함함으로써, 캐니스터의 교체 없이 안정적으로 전구체를 공급할 수 있고, 펌프의 수명을 향상시키며, 스크러버의 효율을 증가시킬 수 있다. 따라서, 본 발명의 일 실시예에 따른 증착 시스템을 이용하여 대량 생산 관점에서 설비의 유지 관리의 용이성을 개선할 수 있다.