公开(公告)号：KR1020160030812A

公开(公告)日：2016-03-21

申请号：KR1020140120478

申请日：2014-09-11

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 박명수 ,  김학영 ,  성유미 ,  임승규

IPC: H01L21/02 ,  H05H1/46 ,  H01L21/56 ,  H01L21/683

CPC classification number: H01J37/32477 ,  H01J37/321 ,  H01J37/32119 ,  H01J37/3244 ,  H01J2237/0203

Abstract: 프로세스챔버바디부; 상기프로세스챔버바디부의하부영역내에배치된기판지지부; 및상기프로세스챔버바디부의상부영역에배치되는윈도우부를포함하되, 상기윈도우부는베이스막 및상기베이스막 상에배치되어상기기판지지부와마주보는표면보호막을포함하되, 상기표면보호막은주상구조를갖는산화물을포함하는플라즈마처리장치가제공된다.

Abstract translation: 本发明提供一种等离子体处理装置。 等离子体处理装置包括：处理室主体单元; 设置在处理室主体单元的下部区域内的基板支撑单元; 以及设置在处理室主体单元的上部区域中的窗口单元。 窗单元包括基膜和设置在基膜上以面对基板支撑单元的表面保护膜。 表面保护膜包括具有柱状结构的氧化物。 根据本发明，等离子体处理装置可以抑制对窗单元的损坏。