-
公开(公告)号：KR100429528B1
公开(公告)日：2004-05-03
申请号：KR1020020003901
申请日：2002-01-23
Applicant: 삼성전자주식회사
Inventor： 손정민
IPC: H04J11/00
CPC classification number: H04L27/2614 , H04L27/2617 , H04L27/3411
Abstract: A wired and wireless communication method, and more particularly a method and apparatus for reducing a PAPR (Peak to Average Power Ratio) in an OFDM (Orthogonal Frequency Division Multiplexing) system. A transmitter of the OFDM system designates, as a coset leader, a vector capable of minimizing a PAPR in a general standard array of (n, k) linear block codes and transmits a sequence having a minimum PAPR by adding each coset leader to an n-bit codeword corresponding to k-bit information and producing U (≤ 2 ) number of vectors. Then, a receiver of the OFDM system can easily recover an original transmission signal using a syndrome of a received vector if the receiver identifies information of the syndrome and the coset leader. Subsequently, the OFDM system can be designed irrespective of the number of carriers, i.e., N, and enhance the system's performance by increasing a value of U. Moreover, the OFDM system different from the conventional SLM (Selective Mapping) system does not have to transmit, to the receiver, information indicating which signal has been selected.
Abstract translation: 有线和无线通信方法，并且更具体地涉及用于降低OFDM（正交频分复用）系统中的PAPR（峰均功率比）的方法和设备。 OFDM系统的发射机指定能够最小化（n，k）线性块码的通用标准阵列中的PAPR作为陪集首的矢量，并通过将每个陪集前导码添加到n个码元来发送具有最小PAPR的序列 位码字对应于k比特信息并产生U（<2; n-k>）个数的向量。 然后，如果接收机识别综合征和陪集领导的信息，则OFDM系统的接收机可以容易地使用接收矢量的校正子来恢复原始发送信号。 随后，可以设计OFDM系统而不考虑载波的数量，即N，并且通过增加U的值来提高系统的性能。此外，不同于传统SLM（选择性映射）系统的OFDM系统不必 向接收机发送指示哪个信号已被选择的信息。 ＆lt;图像＆GT;
-
-
公开(公告)号：KR1019930006854A
公开(公告)日：1993-04-22
申请号：KR1019910016826
申请日：1991-09-26
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/31
Abstract: 본 발명은 렌즈형 마스크 제조방법에 관한 것으로, 투명지질의 기판에 비투광성 금속물질을 코팅하고 포토레지스트를 도포한후 노광, 현상하여 레지스트패턴을 형성하며 이를 마스크로 비투광성 금속물을 에칭하여 광차단막을 형성하고, 상기 기판 전면에 새로운 레지스트를 도포한후, 기판의 배면에서 마스크를 이용하여 노광처리하여 포토레지스트패턴을 형성하고 상기 포토레지스트패턴을 열과 빛으로 리플로우시켜 광차단막 사이의 공간부에 렌즈형의 투명막을 형성하는 것을 특징으로 한다.
따라서 마스크를 통과한 빛을 투명막의 렌즈역할로 인하여 광차단막 엣지부근의 회절광을 투명막 중앙으로 집속시킴으로써 콘트라스트를 향상시킬 수 있어 고해상도를 달성하여 64M급 이상의 고집적 메모리 제작이 가능하다.-
公开(公告)号：KR1020150126196A
公开(公告)日：2015-11-11
申请号：KR1020140053505
申请日：2014-05-02
Applicant: 삼성전자주식회사
CPC classification number: H04L51/10 , G06F3/04842 , G06Q30/0241 , G06Q30/0251 , G06Q30/0261 , H04L51/04
Abstract: 데이터처리장치및 데이터처리방법과관련된다양한실시예들이기술된바, 한실시예에따르면, 데이터처리장치에있어서, 적어도하나이상의서비스에대한사용자의감성아이콘활동에대한감성아이콘로그데이터를수집하여저장하는수집저장부; 및상기감성아이콘로그데이터를이용하여사용자의감성아이콘활동을분석하고, 사용자의감성아이콘활동분석결과를서비스서버에제공하여상기서비스서버가상기사용자의감성아이콘활동분석결과를서비스에적용하도록하는분석처리부를포함할수 있으며, 이외에도다양한다른실시예들이가능하다.
Abstract translation: 各种实施例涉及数据处理装置和数据处理方法。 根据本发明的一个实施例，数据处理装置包括：收集和存储单元，其收集和存储关于一个或多个服务的用户情绪图标活动的情绪图标日志数据; 以及分析处理单元，其通过使用所述情绪图标日志数据来分析所述用户情绪图标活动，向所述服务服务器提供将所述用户情绪图标活动分析的结果，并且允许所述服务服务器应用所述用户情感图标的分析结果 活动到服务 除了实施例之外，还可以实现其他实施例。
-
公开(公告)号：KR100697283B1
公开(公告)日：2007-03-20
申请号：KR1020050025984
申请日：2005-03-29
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/76 , H01L21/762
CPC classification number: H01L21/76229
Abstract: 반도체 장치의 소자분리 구조물 및 그 형성방법을 제공한다. 이 소자분리구조는 패턴의 밀도 및 동작 전압을 고려하여 소자분리막의 폭이 좁은 영역에는 소자분리막이 얕게 형성하고 소자분리막의 폭이 넓고 높은 동작 전압이 인가되는 영역에는 깊게 형성한다. 이 방법은 더 낮은 깊이의 소자분리막을 형성하는 동안 소정 깊이만큼 증가시켜 최종적으로 다양한 깊이의 소자분리막을 형성할 수 있기 때문에 마스크 공정을 단축할 수 있는 이점이 있다.
소자분리, 트렌치, 단차-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR1020030062273A
公开(公告)日：2003-07-23
申请号：KR1020030002623
申请日：2003-01-15
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H03M13/00
CPC classification number: H03M13/1194 , H03M13/1171 , H03M13/23 , H03M13/25 , H03M13/29 , H04L1/0618 , H04L1/08
Abstract: PURPOSE: A method and an apparatus for encoding a weighted non-binary repetitive accumulated code and a space-time code are provided to randomize output symbols of a repetition unit and improve the performance of a channel encoder by adding weight values to the repetitively inputted symbols. CONSTITUTION: An apparatus for encoding a weighted non-binary repetitive accumulated code and a space-time code includes a plurality of antennas, a repetitive unit(202), a weight unit(204), an interleaver(206), and an encoder(208). The repetitive unit presents plural binary bits to non-binary symbols by using non-binary elements and outputting repetitively the non-binary symbols. The weight unit generates the weighted symbols by multiplying weight values by the non-binary symbols. The interleaver is used for interleaving the weighted symbols. The encoder is used for encoding the interleaved signals. The encoded symbols are transmitted by using the antennas.
Abstract translation: 目的：提供一种用于对加权的非二进制重复累加码和空时码进行编码的方法和装置，以使重复单元的输出符号随机化，并通过向重复输入的符号添加权重值来提高信道编码器的性能 。 构成：用于对加权的非二进制重复累加码和空时码进行编码的装置包括多个天线，重复单元（202），加权单元（204），交织器（206）和编码器 208）。 重复单元通过使用非二进制元素并重复输出非二进制符号向非二进制符号呈现多个二进制位。 权重单元通过将权重值乘以非二进制符号来生成加权符号。 交织器用于交织加权符号。 编码器用于对交错信号进行编码。 通过使用天线发送编码符号。
-
公开(公告)号：KR1019930006855A
公开(公告)日：1993-04-22
申请号：KR1019910016965
申请日：1991-09-28
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/31
Abstract: 본 발명은 렌즈형 마스크 제조방법에 관한 것으로, 투명재질의 기판에 비투광성 금속물질을 코팅하고 포토레지스트를 도포한후 노광, 현상하여 레지시트패턴을 형성하며 이를 마스크로 비투광성 금속물질을 에칭하여 광차단막을 형성하고, 상기 기판 전면에 새로운 레지스트를 도포한후 비투광성 금속물질이 도포된 마스터 마스크를 이용하여 노광처리하여 포토레지스트패턴을 형성한후 기판의 전면 또는 배면에서 노광처리하여 투과율을 높인후 열 또는 빛을 이용하여 포토레지스트패턴을 리플로우시켜 광차단막 사이에 렌즈형의 투명막을 형성하는 것을 특징으로 한다.
따라서 마스크를 통과한 빛을 투명막의 렌즈역할로 인하여 광차단막 엣지부근의 회절광을 투명막 중앙으로 집속시킴으로써 콘트라스트를 향상시킬 수 있어 고해상되를 달성하여 64M급 이상의 고집적 메모리 제작이 가능하다.-
公开(公告)号：KR1020030063665A
公开(公告)日：2003-07-31
申请号：KR1020020003901
申请日：2002-01-23
Applicant: 삼성전자주식회사
Inventor： 손정민
IPC: H04J11/00
CPC classification number: H04L27/2614 , H04L27/2617 , H04L27/3411
Abstract: PURPOSE: A digital communication method and an apparatus are provided to reduce the maximum power ratio for the average power without damaging the information transmission efficiency. CONSTITUTION: A digital communication apparatus includes an (n,k) encoder(100), a plurality of coset leaders e1,e2,...,ev(105), an error-correcting code(ECC)(110), an M-ary mapper(120), LN-point inverse discrete Fourier transform(IDFT)(130) and a peak detector(140). In the digital communication apparatus, if the k bit of information block d=(d0d1,...,dk-1) is entered into the (n,k) encoder(100) as an input, n bit of encoding words e=(c0,c1,...,cn-1). And then, the plurality of coset leaders e1,e2,...,ev(105) is selected so as to have a different error proof for the test matrix H of the (n,k) encodes and are capable of easily being utilized or calculated by storing at each of the receiver/transmitters. And, the error-correcting code(ECC)(110) is selectively utilized so as to appropriately correct the errors on the channel.
Abstract translation: 目的：提供数字通信方法和装置，以降低平均功率的最大功率比，而不损害信息传输效率。 构成：数字通信装置包括（n，k）编码器（100），多个陪集领导e1，e2，...，ev（105），纠错码（ECC）（110），M LN映射器（120），LN点离散傅里叶逆变换（IDFT）（130）和峰值检测器（140）。 在数字通信装置中，如果将信息块d =（d0d1，...，dk-1）的k位作为输入输入到（n，k）编码器（100），则编码字e = （C0，C1，...，CN-1）。 然后，选择多个陪集领导e1，e2，...，ev（105）以便对（n，k）编码的测试矩阵H具有不同的错误证明，并且能够容易地被利用 或者通过存储在每个接收器/发射器来计算。 并且，选择性地利用纠错码（ECC）（110），以适当地校正信道上的错误。
-
公开(公告)号：KR1019990069095A
公开(公告)日：1999-09-06
申请号：KR1019980003121
申请日：1998-02-04
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/027
Abstract: 본 발명은 해상도를 증가시키고 사이드 로브 현상을 방지하는 마스크 형성 방법에 관한 것으로, 마스크 기판 상에 4% 이하의 투과율을 갖는 MoSiON 계열의 물질을 사용하여 콘택 영역을 갖는 마스크막 패턴을 형성한다. 상기 마스크막 패턴을 포함하여 마스크 기판을 황산 등의 케미컬에 노출시킨다. 상기 케미컬 노출 공정에 의해 상기 콘택 영역에 인접한 마스크막 패턴이 일부가 그 나머지 부분에 대해 상대적으로 더 높은 투과율을 갖게 된다. 이와 같은 장치의 제조 방법에 의해서, 콘택 영역에 인접한 마스크막 패턴의 일부는 6 - 10%의 투과율을 갖도록 함으로써 PSM 효과에 의해 해상도를 증가시킬 수 있고, 그 나머지 부분은 4% 이하의 투과율을 갖도록 함으로써 기판 노광 후 발생되는 사이드 로브를 방지할 수 있다.
-
公开(公告)号：KR1019940008361B1
公开(公告)日：1994-09-12
申请号：KR1019910016826
申请日：1991-09-26
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/31
Abstract: The method for fabricating lens-shape mask includes the steps of: coating an opaque metal on a transparent substrate, coating a photoresist on the opaque material layer and exposing and developing the photoresist using a master mask to form a photoresist pattern, etching the opaque metal layer using the photoresist pattern as a mask to form a light shielding layer, coating PMMA on the overall surface of the substrate and radiating light into the back side of the substrate to expose the PMMA to form a photoresist pattern, and reflowing the photoresist pattern to form a lens-shape transparent layer between the light shielding layers, thereby improving the contrast and thus obtaining a high resolution.
Abstract translation: 用于制造透镜形掩模的方法包括以下步骤：在透明基板上涂覆不透明金属，在不透明材料层上涂覆光致抗蚀剂，并使用主掩模曝光和显影光致抗蚀剂以形成光致抗蚀剂图案，蚀刻不透明金属 使用光致抗蚀剂图案作为掩模来形成遮光层，在基板的整个表面上涂覆PMMA并将光辐射到基板的背面以暴露PMMA以形成光致抗蚀剂图案，并将光致抗蚀剂图案回流到 在遮光层之间形成透镜状透明层，从而提高对比度，从而获得高分辨率。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
18
records
(took 0.021 seconds)
