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公开(公告)号：KR100587682B1
公开(公告)日：2006-06-08
申请号：KR1020040038158
申请日：2004-05-28
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/02
CPC classification number: G05D11/132 , Y10T137/2569
Abstract: 본 발명은 반도체 소자 제조를 위한 처리장치에 케미컬을 공급하는 케미컬 공급 장치 및 그에 따른 공급방법에 관한 것으로, 본 발명에 따른 케미컬 공급장치는, 케미컬을 수용하는 제1저장용기 및 제2저장용기와, 상기 제1 및 제2저장용기에 각각 연결된 배관들이 비었는지 여부를 감지하는 제1 및 제2감지센서와, 상기 제1 및 제2저장용기에 각각 연결된 배관들과 상기 처리장치에 연결된 배관을 선택적으로 연결시켜, 상기 제1 및 제2저장용기의 케미컬이 상기 처리장치에 선택적으로 공급되도록 하는 3방향 밸브와, 상기 제1 및 제2감지센서의 출력에 따라 상기 3방향 밸브를 제어하는 제어부와, 상기 3방향 밸브와 상기 처리장치를 연결하는 배관 상에 설치되어 케미컬의 유동압을 제공하는 펌프와, 케미컬의 기포를 제거하기 위한 제1트랩탱크 및 제2트랩탱크를 구비함을 특징으로 한다. 본 발명에 따르면, 케미컬 교체에 따른 로스 타임을 줄일 수 있으며, 연속적인 케미컬 공급이 가능해진다.
케미컬, 3방향밸브, 교체, 센서, 펌프-
公开(公告)号：KR1020000032091A
公开(公告)日：2000-06-05
申请号：KR1019980048432
申请日：1998-11-12
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/027
Abstract: PURPOSE: A photo spinner apparatus is provided to measure amount of ammonia gases when a photo lithography process is proceeded. CONSTITUTION: A photo spinner apparatus includes a measuring instrument(110) able to measure amount of ammonia gases in a photo spinner apparatus(10,100). The measuring instrument is added by a point to want for each elements which are inside of the photo spinner apparatus. And, an error message for notifying that amount of the measured ammonia is over a measuring criteria is displayed on a main screen.
Abstract translation: 目的：提供光电旋转装置，用于在进行光刻工艺时测量氨气量。 构成：光学旋转装置包括能够测量光学旋转器装置（10,100）中的氨气量的测量仪器（110）。 通过一点点测量仪器可以为光学旋转器设备内的每个元件添加一个要点。 并且，在主屏幕上显示用于通知测量氨的量超过测量标准的错误消息。
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公开(公告)号：KR1020000014106A
公开(公告)日：2000-03-06
申请号：KR1019980033318
申请日：1998-08-17
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/027
Abstract: PURPOSE: A spinner as a photo etching equipment for manufacturing semiconductor devices is connected to which controls the temperature and the humidity in the spinner, and to a thermo-regulator (16) which controls the temperature of the photoresist. Both the temperature/humidity regulator and the thermo-regulator are used despite the similarity of their functions. The sizes are too big to be installed inside the manufacture line. CONSTITUTION: The preservation device (22) is connected to the spinner (20) to regulate the temperature and humidity in the spinner and to regulate the temperature of photoresist. This device functions as both a temperature/humidity regulator and a thermo-regulator. Thus the size of area required for the installation can be reduced and the device can be installed inside the manufacture line.
Abstract translation: 目的：作为用于制造半导体器件的光蚀刻设备的旋转器被连接到其上，其控制旋转器中的温度和湿度，以及控制光致抗蚀剂温度的热调节器（16）。 使用温度/湿度调节器和热稳压器，尽管它们的功能相似。 尺寸太大，不能安装在生产线内。 构成：保存装置（22）连接到旋转器（20）以调节旋转器中的温度和湿度并调节光致抗蚀剂的温度。 该器件兼具温湿度调节器和热调节器。 因此，可以减少安装所需的面积的大小，并且可以将装置安装在生产线内部。
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公开(公告)号：KR100183838B1
公开(公告)日：1999-04-15
申请号：KR1019960011616
申请日：1996-04-17
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/223
Abstract: 버퍼 내에서 배출 가스가 액화되어 고이는 것을 방지하는 배기 장치를 제공한다. 본 발명은 반도체 장치 내에서 유해 가스를 배출하기 위한 배기관과, 상기 배기관에 연결되어 상기 유해 가스를 모으는 버퍼와, 상기 버퍼 내에 모인 가스를 외부의 주배기관으로 배출하기 위하여 상기 버퍼와 상기 주배기관 사이를 연결하는 연결 배기관과, 상기 버퍼 내에서 발생하는 액체를 배수하기 위하여 상기 버퍼에 부착된 배수관을 포함하는 배기 장치이다. 따라서, 본 발명의 배기 장치에서는 종래의 경우에 상기 버퍼에서 상기 연결 배수관이 액체에 의해서 막히는 문제를 방지할 수 있고, 이로 인하여 현상 공정의 불량이 발생하지 않게 된다. 또한, 현상 장치에서 발생하는 유해 가스를 원활히 배출할 수 있기 때문에, 환경 오염을 방지하고 안전도를 높일 수 있다.
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公开(公告)号：KR1020020027751A
公开(公告)日：2002-04-15
申请号：KR1020000058373
申请日：2000-10-05
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/027
Abstract: PURPOSE: Photolithography equipment is provided to shorten an interval of time for transferring a wafer from conventional developing equipment to curing equipment and to reduce wafer standby time needed in a conventional disposition process, by compositively performing a curing process in the developing equipment by a single-wafer-type method. CONSTITUTION: Coating equipment(100) applies photoresist on a wafer. Exposure equipment(200) projects a predetermined pattern on the photoresist-coated wafer. A developing process for developing the wafer having the predetermined pattern and a curing process for curing the developed wafer are performed in developing/curing composite equipment(300). Wafer transfer equipment transfers the wafer so that each process is continuously performed in the coating equipment, the exposure equipment and the developing/curing composite equipment.
Abstract translation: 目的：提供光刻设备，以缩短从常规开发设备转移到固化设备的晶片间隔时间，并缩短传统布置过程所需的晶片待机时间，通过单独执行开发设备中的固化过程， 晶圆型方法。 构成：涂层设备（100）在晶片上施加光致抗蚀剂。 曝光设备（200）在光致抗蚀剂涂覆的晶片上投射预定图案。 在显影/固化复合设备（300）中进行用于显影具有预定图案的晶片和用于固化显影晶片的固化工艺的显影工艺。 晶片转移设备转移晶片，使得在涂覆设备，曝光设备和显影/固化复合设备中连续执行每个过程。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR100181908B1
公开(公告)日：1999-04-15
申请号：KR1019960021290
申请日：1996-06-13
Applicant: 삼성전자주식회사
Inventor： 송경수
IPC: H01L21/324
Abstract: 반도체 웨이퍼상에 보호막을 코팅한 후 이를 경화시키기 위해 열을 가하여 굽는 반도체 제조용 베이크(bake) 장치에 관한 것이다.
본 발명의 구성은 챔버(11)내에 설치되어 웨이퍼(12)가 놓여지는 핫플레이트(13)와, 상기 핫플레이트의 상부를 덮는 커버(14)와, 상기 커버에 설치되어 폴리이미드공정시 발생하는 증기를 배출하기 위한 배기관(16)으로 구성된 반도체 제조용 베이크 장치에 있어서, 상기 커버의 상면이 외측판(14a)과 내측판(14b)으로 이루어진 이중구조로 형성되고, 상기 외측판과 내측판 사이에 커버의 내측판을 가열하도록 히터(17)가 설치된 것이다.
따라서 커버의 상면내측에 물방울이 형성되지 않아 물방울이 웨이퍼상에 떨어짐으로써 발생될 수 있는 기포성 파티클 및 웨이퍼 표면 불균일 등의 공정불량이 방지되는 것이고, 이로써 수율이 향상되는 효과가 있다.-
公开(公告)号：KR1020030024168A
公开(公告)日：2003-03-26
申请号：KR1020010057188
申请日：2001-09-17
Applicant: 삼성전자주식회사
Inventor： 송경수
IPC: H01L21/027
Abstract: PURPOSE: A bake apparatus and a baking method using the same are provided to maintain baking uniformity constantly by installing an alignment portion at a bake plate in order to align a flat zone of a wafer. CONSTITUTION: A bake unit is formed with a chamber(110), a bake plate(120), a wafer support pin(122), and a wafer alignment portion(130). The bake plate(120) is installed in the inside of the chamber(110). A wafer is loaded on the bake plate(120). The wafer support pin(122) is installed at the bake plate(120). The wafer support pin(122) is used for loading the wafer into the bake plate(120) or unloading the wafer from the bake plate(120). The wafer alignment portion(130) is used for aligning a flat zone of the wafer. The wafer alignment portion(130) is formed with a spin chuck(132), a motor(134), and a sensor(136).
Abstract translation: 目的：提供一种烘焙设备和使用其的烘烤方法，以通过在烘烤板上安装对准部分来恒定地保持烘烤均匀性，以便对准晶片的平坦区域。 构成：烘烤单元形成有室（110），烘烤板（120），晶片支撑销（122）和晶片对准部分（130）。 烘烤板（120）安装在室（110）的内部。 将晶片装载在烘烤板（120）上。 晶片支撑销（122）安装在烘烤板（120）处。 晶片支撑销（122）用于将晶片装载到烘烤板（120）中或从烘烤板（120）卸载晶片。 晶片对准部分（130）用于对准晶片的平坦区域。 晶片对准部分（130）由旋转卡盘（132），马达（134）和传感器（136）形成。
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公开(公告)号：KR1020000018615A
公开(公告)日：2000-04-06
申请号：KR1019980036278
申请日：1998-09-03
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/66
Abstract: PURPOSE: A fabrication apparatus can perform the coating, developing and thickness measurement of a photoresist in the same apparatus. CONSTITUTION: A fabrication apparatus is constructed by comprising: a photoresist deposition part(46) depositing a specific photoresist on a wafer sent from a wafer loading part(42); a thickness measuring part(62) measuring the thickness of the photoresist deposited in the photoresist deposition part; and a developing part(54) forming a photoresist pattern by developing the exposed wafer by aligning a photo mask on the wafer where the photoresist is deposited. Therefore, the apparatus has the effect of effective maintenance and process proceeding of the apparatus.
Abstract translation: 目的：制造设备可以在相同的设备中进行光致抗蚀剂的涂覆，显影和厚度测量。 构成：制造装置包括：光致抗蚀剂沉积部分（46），其在晶片装载部分（42）上发送的晶片上沉积特定的光致抗蚀剂; 测量沉积在光致抗蚀剂沉积部分中的光致抗蚀剂的厚度的厚度测量部分; 以及显影部分（54），通过将沉积有光致抗蚀剂的晶片上的光掩模对准来显影曝光的晶片来形成光致抗蚀剂图案。 因此，该装置具有有效的维护和装置的处理过程的效果。
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公开(公告)号：KR1020000014105A
公开(公告)日：2000-03-06
申请号：KR1019980033317
申请日：1998-08-17
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/50
Abstract: PURPOSE: An in-line multiple structure photo equipment is provided to cut down investing cost and easily control a system by reducing installment of duplicated spinner equipment. CONSTITUTION: The equipment comprises at least two and more steppers; a wafer transporter, coupled to the stepper, transporting the wafer; and a spinner coupled to the wafer transporter with interface. In the spinner, a coating layer is coated on a wafer and the wafer transporter loads the wafer to the stepper, exposing the wafer. The exposed wafer is developed in the spinner. Two systems of the spinner can be composed utilizing one system thereof.
Abstract translation: 目的：提供在线多重结构照片设备，以减少投资成本，并通过减少重复的旋转设备的安装轻松控制系统。 规定：设备至少包括两台以上的步进器; 耦合到步进器的晶片传送器，输送晶片; 以及与接口连接到晶片运送器的旋转器。 在旋转器中，将涂层涂覆在晶片上，晶片传送器将晶片装载到步进器，使晶片露出。 暴露的晶片在旋转器中显影。 可以利用其一个系统来组合旋转器的两个系统。
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