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公开(公告)号：KR100707202B1
公开(公告)日：2007-04-13
申请号：KR1020050070650
申请日：2005-08-02
Applicant: 삼성전자주식회사
Inventor： 송세안 , 라티세프알렉산더브이. , 구타코프스키안톤케이. , 세글로프드미트리브이. , 페디나루드밀라아이.
IPC: H01L21/31
Abstract: 본 발명은 산화층 제조 방법에 관한 것이다. 기판 상에 산화층을 형성시키는 방법에 있어서, (가) 산소를 포함하는 가스 분위기 하에서 기판 상의 제 1영역에 전도성 팁을 접근시키며 상기 전도성 팁과 상기 기판 사이에 전압을 인가하는 단계; (나) 상기 기판 표면에 산소를 포함하는 물질층을 형성시키는 단계 및 (다) 상기 전도성 팁과 상기 기판 사이에 전압을 인가하는 상태에서 상기 전도성 팁을 상기 기판과 접촉시키며 상기 전도성 팁에 압력을 가하여 상기 기판 표면 및 내부에 양극 산화 반응에 의한 산화층을 형성시키는 단계;를 포함하는 산화층 제조 방법을 제공한다. 이와 같은 산화층 제조 방법에 의하여 마이크로 전자 소자의 나노미터 스케일의 제조 공정에 특성화시켜 응용될 수 있다.
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公开(公告)号：KR1020060014803A
公开(公告)日：2006-02-16
申请号：KR1020040063509
申请日：2004-08-12
Applicant: 삼성전자주식회사
Inventor： 송세안 , 라티쉐브알렉산더브이. , 코소로보브세르게이에스. , 구타코브스키안톤케이. , 페디나루드밀라아이.
IPC: H01L21/20
Abstract: 본 발명은 금속 흡착법을 이용하여 균일한 단원자 계단(monoatomic step)을 가지는 고체 결정 표면을 형성하는 방법을 개시한다. 본 발명에 따르면, 고체 결정 표면의 형태 제어 방법은, 상기 고체 결정의 양단에 직류 전압을 인가하여 소정의 온도로 가열하는 단계; 및 직류전압 인가를 유지하면서 상기 소정의 온도로 가열된 고체 결정의 표면에 금속원자를 소정의 증착 속도로 증착함으로써 고체 결정의 표면에 단원자 계단(monoatomic step)을 형성하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 한다.
금속 흡착법, 단원자 계단, 실리콘, REM, 단결정-
公开(公告)号：KR1019990025523A
公开(公告)日：1999-04-06
申请号：KR1019970047188
申请日：1997-09-12
Applicant: 삼성전자주식회사 , 에이. 에프. 이오페 피지코-테크니컬 인스티튜트 오브 라스
Inventor： 최진학 , 송세안 , 에이.아이.페트로프 , 이재철 , 케이.제이알.포그레비츠키 , 유.엔.유레프
IPC: G05G1/00
Abstract: 진공용 정밀 위치조절기를 개시한다. 개시된 진공용 정밀 위치조절기는, 베이스, 베이스에 대해 수직방향으로 일정간격을 두고 설치되어 베이스의 평면 방향으로의 변위가 가능하도록 된 적어도 두 개 이상의 탄성 변형부, 상기 베이스의 평면방향으로 배치되고 상기 탄성 변형부의 선단에 그 몸체 양쪽이 고정되는 이동자, 상기 이동자를 베이스의 평면방향으로 가압하여 상기 이동자를 한방향으로 이동시키는 조절수단, 상기 조절수단의 가압력에 대항하는 방향으로 상기 이동자에 탄성 복원력을 부여하는 탄성수단, 상기 이동자의 하부에 마련하는 것으로 상기 베이스를 관통하여 일정길이 연결되는 전달부, 및 상기 이동자의 하부에 상기 전달부를 에워싸며 설치되어 공간적으로 밀폐시키는 밀폐수단을 포함하는 것을 특징으로 한다.
따라서, 본 발명에 따른 진공용 정밀 위치조절기는 조절수단에서 설정된 일 방향의 조절수치가 저렴하면서 동시에 정밀한 장치를 통하여 진공용기내의 목적물의 위치가 조절됨으로, 종래와 같은 성형 운동가이드로 인한 비용상의 부담이나 조작상의 부정확을 방지할 수 있다.-
公开(公告)号：KR101234450B1
公开(公告)日：2013-02-18
申请号：KR1020050118453
申请日：2005-12-07
Applicant: 가부시키가이샤 히타치세이사쿠쇼 , 삼성전자주식회사 , 가부시키가이샤 히다치 하이테크놀로지즈
IPC: G01N23/223
CPC classification number: G01N23/2251 , G01B15/02
Abstract: 본 발명의 과제는 적층 박막의 극미소 영역에서의 길이 측정을 고정밀도로 행하는 것이다.
본 발명은 측정 조건을 입력하는 스텝, 전자선원으로부터 전자선을 발생하여 수속 렌즈에 의해 전자선을 시료에 수속하는 스텝, 결상 렌즈계에 의해 시료를 투과한 전자선을 확대하여 시료의 확대상을 결상하는 스텝, 원소 분석기에 의해 상기 시료의 원소 분포상을 취득하여 취득한 원소 분포상을 표시하는 스텝, 원소 분포상을 길이 측정하는 스텝 및 상기 측정 조건을 보정하는 스텝을 포함하는 박막 평가 방법에 관한 것이다. 또한, 이 평가 방법을 실시하기 위한 평가 장치를 개시한다.
투과형 전자 현미경, 전자선원, 결상 렌즈계, 원소 분포상, 수속 렌즈-
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR1019990025654A
公开(公告)日：1999-04-06
申请号：KR1019970047361
申请日：1997-09-13
Applicant: 에이. 에프. 이오페 피지코-테크니컬 인스티튜트 오브 라스 , 삼성전자주식회사
Inventor： 이재철 , 김준홍 , 에이.아이.페트로프 , 송세안 , 최진학 , 케이.제이알.포그레비츠키 , 유.엔.유레프
IPC: G01N23/00
Abstract: 본 발명에 따른 X-선 전자 분광 분석장치는 X-선을 발생시키기 위한 X-선 발생장치; 발생된 X-선을 수렴시키기 위한 X-선 인입 수렴기; X-선 인입 수렴기를 통과한 X-선을 단파장의 단색 X-선으로 변환시키는 모노크로메이터; 모노크로메이터로부터 송출되는 단색 X-선을 수렴하여 송출시키기 위한 X-선 송출 수렴기; X-선 송출 수렴기를 거친 단색 X-선을 모니터링하기 위한 X-선 모니터링 장치; X-선 모니터링 장치를 거쳐 시편에 입사되는 X-선의 광자를 검출하기 위한 X-선 광자 검출기; 시편에 입사되는 X-선에 의해 시편으로부터 방출되는 전자를 검출하기 위한 전자 검출기; 시편에 입사되는 X-선에 의해 시편으로부터 반사, 방출되는 X-선 및 시편을 투과하는 X-선을 검출하기 위한 X-선 검출기; 및 상기 각 구성요소들의 제어 및 신호처리를 위한 제어부를 포함한다.
이와 같은 본 발명에 의하면, 하나의 장치 시스템에 각각 다른 기능을 가진 다수의 유니트들이 마련되어 있으므로, 사용자가 원하는 실험을 시간과 공간의 제약을 받지 않고 수행할 수 있는 장점이 있다. 또한, 부분적으로 방사광 가속기 장치에 부착된 EXAFS 설비를 이용하지 않고도 원하는 때에 수시로 신뢰성있는 실험결과를 얻을 수 있으며, 가속기 장치의 사용을 위한 빔타임을 배정받기 위한 별도의 노력과 시간을 절약할 수 있다.-
公开(公告)号：KR1020060064536A
公开(公告)日：2006-06-13
申请号：KR1020050118453
申请日：2005-12-07
Applicant: 가부시키가이샤 히타치세이사쿠쇼 , 삼성전자주식회사 , 가부시키가이샤 히다치 하이테크놀로지즈
IPC: G01N23/223
CPC classification number: G01N23/2251 , G01B15/02
Abstract: 본 발명의 과제는 적층 박막의 극미소 영역에서의 길이 측정을 고정밀도로 행하는 것이다.
본 발명은 측정 조건을 입력하는 스텝, 전자선원으로부터 전자선을 발생하여 수속 렌즈에 의해 전자선을 시료에 수속하는 스텝, 결상 렌즈계에 의해 시료를 투과한 전자선을 확대하여 시료의 확대상을 결상하는 스텝, 원소 분석기에 의해 상기 시료의 원소 분포상을 취득하여 취득한 원소 분포상을 표시하는 스텝, 원소 분포상을 길이 측정하는 스텝 및 상기 측정 조건을 보정하는 스텝을 포함하는 박막 평가 방법에 관한 것이다. 또한, 이 평가 방법을 실시하기 위한 평가 장치를 개시한다.
투과형 전자 현미경, 전자선원, 결상 렌즈계, 원소 분포상, 수속 렌즈-
公开(公告)号：KR1019990025524A
公开(公告)日：1999-04-06
申请号：KR1019970047189
申请日：1997-09-12
Applicant: 삼성전자주식회사 , 에이. 에프. 이오페 피지코-테크니컬 인스티튜트 오브 라스
Inventor： 이재철 , 최진학 , 송세안 , 에이.아이.페트로프 , 케이.제이알.포그레비츠키 , 유.엔.유레프
IPC: G01J3/02
Abstract: 본 발명에 따른 광학 고니오미터 이송장치는, 광학 고니오미터의 탑재를 위한 안착부를 가지는 고니오미터 받침대; 상기 고니오미터 받침대의 소정 부위에 설치되며, 고니오미터 받침대 및 탑재된 고니오미터의 중량을 견디면서 고니오미터 받침대를 특정 궤도의 구조체 상에서 궤도를 따라 이동가능하게 하는 복수의 받침대 이동용 로울러; 상기 고니오미터 받침대의 소정 부위에 설치되며, 고니오미터 받침대를 상기 특정 궤도의 구조체에 궤도를 따라 이동가능하게 고정시키는 복수의 받침대 고정용 로울러; 및 상기 고니오미터 받침대의 하부에 설치되며, 고니오미터 받침대가 상기 특정 궤도의 구조체 상에서 궤도를 따라 이동가능하게 하는 구동력을 제공하는 구동장치를 포함한다.
이와 같은 본 발명에 의하면, 고니오미터가 탑재된 받침대가 로울러와 모터 구동력에 의해 궤도를 따라 자유롭게 움직일 수 있도록 되어 있어, 광학 고니오미터가 일정한 길이의 팔에 고정되어 있는 종래의 장치에 비해 광학 고니오미터를 원하는 곳에 정밀하게 위치 이동시킬 수 있는 장점이 있다.-
公开(公告)号：KR1019990025521A
公开(公告)日：1999-04-06
申请号：KR1019970047186
申请日：1997-09-12
Applicant: 삼성전자주식회사 , 에이. 에프. 이오페 피지코-테크니컬 인스티튜트 오브 라스
Inventor： 이재철 , 송세안 , 케이.제이알.포그레비츠키 , 유.엔.유레프 , 최진학 , 에이.아이.페트로프
IPC: G01N23/00
Abstract: 본 발명에 따른 모노크로메이터는, 연속 엑스-레이에서 특정 파장의 엑스-레이만을 반사시키는 복수의 모노크로메이터 크리스탈의 장착을 위한 드럼과; 상기 드럼을 지지하는 한편 드럼을 회전시켜주기 위한 구동력을 제공하는 드럼 회전 구동부와; 상기 드럼 및 드럼 회전 구동부로 구성된 구조체를 지지하는 한편 상기 구조체를 회전시키기 위한 구동력을 제공하는 구조체 회전 구동부; 및 상기 드럼, 드럼 회전 구동부 및 구조체 회전 구동부를 전체적으로 지지하는 지지부를 포함하는 점에 그 특징이 있다.
이와 같은 본 발명에 의하면, 크리스탈을 교체회전시키는 드럼과 드럼을 회전시키는 회전 메커니즘에 의해 크리스탈을 매우 작은 각도로 360°회전조정할 수 있고, 그에 따라 엑스-레이를 매우 정밀하게 정렬시킬 수 있다. 또한, 동일한 에너지 범위에서의 고차 반사를 이용한 엑스-레이 분석 및 넓은 에너지 범위에서의 엑스-레이 분석을 수행할 수 있다.-
公开(公告)号：KR101065074B1
公开(公告)日：2011-09-15
申请号：KR1020040003253
申请日：2004-01-16
Applicant: 가부시끼가이샤 히다치 세이사꾸쇼 , 삼성전자주식회사 , 가부시키가이샤 히다치 하이테크놀로지즈
CPC classification number: G01N23/083 , H01J2237/2516
Abstract: 본 발명은 기판; 상기 기판상에 형성된 중원자를 포함하는 제1 결정질 박막;
상기 제1 결정질 박막 상부에 형성되며, 경원자를 포함하는 산화물 또는 질화물을 포함하며, 막 두께가 1 내지 5nm인 제1 비정질 박막; 및 상기 제1 비정질 박막 상부에 형성되며, 중원자를 포함하는 제2 결정질 박막을 포함하는 투과전자현미경 성분 맵핑용 표준시료 및 이를 이용한 투과전자현미경 성분 맵핑 방법을 제공한다.
본 발명의 표준시료를 활용하여 다층 나노 박막의 TEM EDS, EELS 맵핑 결과를 보정하는데 이용할 수 있을 뿐만 아니라, 맵핑 조건도 최적화시킬 수 있다.
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