公开(公告)号：KR100703316B1

公开(公告)日：2007-04-03

申请号：KR1020060009037

申请日：2006-01-27

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 송주헌

IPC: H04B7/24 ,  H04B1/40

Abstract: 본 발명은 연결 우선순위를 갖는 블루투스 기기 및 해당 기기의 블루투스 연결방법을 제공한다. 이를 위해 본 발명에서는, 본 발명의 실시 예에 따른 블루투스 기기가, 다른 블루투스 기기들의 연결 우선순위에 대한 정보를 저장하고, 상기 연결 우선순위 정보에 따라 차례대로 상기 다른 블루투스 기기와의 연결을 시도한다. 이에 따라 본 발명에서는 블루투스 기기가 연결하고자 하는 다른 블루투스 기기와 연결이 불가능한 경우, 사용자가 새로운 블루투스 기기를 등록하여 연결하는 과정을 수행하지 않더라도 상기 블루투스 기기는 자동으로 높은 연결 우선순위의 또다른 블루투스 기기와 블루투스 연결될 수 있다.
블루투스 기기, 블루투스 연결

Abstract translation: 本发明提供了一种具有该设备的连接优先级和蓝牙连接方法的蓝牙设备。 为此，根据本发明，根据本发明实施例的蓝牙设备存储关于其它蓝牙设备的连接优先级的信息，并且试图根据连接优先级顺序信息依次与其他蓝牙设备连接 。 相应地，在本发明中，当蓝牙设备不能连接到另一个要连接的蓝牙设备时，蓝牙设备自动将蓝牙设备发送到另一个蓝牙设备 和蓝牙。

公开(公告)号：KR1020000065895A

公开(公告)日：2000-11-15

申请号：KR1019990012639

申请日：1999-04-10

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 송주헌 ,  문진옥

IPC: H01L21/30

CPC classification number: B24B53/017

Abstract: PURPOSE: A chemical mechanical polishing apparatus is provided to prevent a micro scratch phenomenon from being generated by slurry remaining in a plurality holes and in a gap. CONSTITUTION: A chemical mechanical polishing apparatus comprises a polishing pad(140), a wafer carrier(220), a first ring(270), a second ring(280) and a cleaning liquid supplying pipe. The polishing pad contacts the surface of a semiconductor wafer(210) to polish, established to be capable of revolving. In the wafer carrier, the semiconductor wafer is loaded so that the surface of the semiconductor wafer to polish faces a surface direction of the polishing pad. The first ring controls a separation of the semiconductor wafer while revolving together with the wafer and wafer carrier during a polishing process, surrounding the semiconductor wafer and wafer carrier. The second ring has a plurality of holes penetrating outer and inner surfaces, and surrounds the circumference of the first ring at regular intervals, in which the bottom surface fixedly contacts a part of the polishing pad to improve a polishing profile of an edge of the semiconductor wafer. The cleaning liquid supplying pipe is connected to at least one of a plurality of holes of the second ring to supply cleaning liquid into a gap among the holes, first ring and second ring.

Abstract translation: 目的：提供一种化学机械抛光装置，以防止残留在多个孔和间隙中的浆料产生微小的刮痕现象。 构成：化学机械抛光装置包括抛光垫（140），晶片载体（220），第一环（270），第二环（280）和清洗液供应管。 抛光垫接触半导体晶片（210）的表面以进行抛光，被建立为能够旋转。 在晶片载体中，加载半导体晶片使得要抛光的半导体晶片的表面面向抛光垫的表面方向。 在抛光过程中，第一环控制半导体晶片的分离，同时与晶片和晶片载体一起旋转，围绕半导体晶片和晶片载体。 第二环具有穿过外表面和内表面的多个孔，并且以规则的间隔围绕第一环的圆周，其中底表面固定地接触抛光垫的一部分，以改善半导体边缘的抛光轮廓 晶圆。 清洗液供给管与第二环的多个孔的至少一个连接，将清洗液供给到孔，第一环和第二环之间的间隙。

公开(公告)号：KR1020000051681A

公开(公告)日：2000-08-16

申请号：KR1019990002253

申请日：1999-01-25

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 문진옥 ,  송주헌

IPC: H01L21/304

Abstract: PURPOSE: An apparatus for cleaning a wiper of chemical mechanical polishing(CMP) facilities is provided to reduce a manufacturing cost, by protecting a wafer from a particle remaining in a wiper sponge, so that the wiper sponge can be used longer. CONSTITUTION: An apparatus(100) for cleaning a wiper(102) of chemical mechanical polishing(CMP) facilities comprises a supplying element(112) for supplying inert gas to a cleaning bath(106), in which the wiper can be more effectively cleaned with cleaning solution(108) and inert gas bubble(110) by supplying the cleaning solution and the inert gas to the cleaning bath to generate the inert gas bubble in the cleaning solution.

Abstract translation: 目的：提供一种用于清洁化学机械抛光（CMP）设备的刮水器的设备，以通过保护晶片免于残留在擦拭器海绵中的颗粒来降低制造成本，使得擦拭器海绵可以更长时间地使用。 构造：用于清洁化学机械抛光（CMP）设备的擦拭器（102）的设备（100）包括用于向清洁浴（106）供应惰性气体的供应元件（112），其中可以更有效地清洁擦拭器 通过将清洁溶液和惰性气体供应到清洗槽中以在清洁溶液中产生惰性气泡，通过清洁溶液（108）和惰性气体气泡（110）。

公开(公告)号：KR1019980065171A

公开(公告)日：1998-10-15

申请号：KR1019970000013

申请日：1997-01-03

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 송주헌

IPC: H01L21/68

Abstract: 본 발명은 웨이퍼 이송장치에 관한 것으로, 웨이퍼를 수납하여 소정의 공정이 수행되는 반도체 제조장치에 웨이퍼를 로딩하고 언로딩하는 웨이퍼 이송장치에 있어서, 웨이퍼 이송장치는 웨이퍼가 수납되는 보우트 몸체와, 보우트 몸체에 형성되고, 보우트 몸체가 반도체 제조장치에 위치할 때 반도체 제조장치에서 웨이퍼 이송장치의 유·무를 확인하도록 하는 센서 감지부를 구비함으로써, 반도체 제조공정에서 웨이퍼를 수납하여 확산로에 로딩시키는 웨이퍼 이송장치의 로딩된 상태를 확산로에서 용이하게 확인할 수 있다. 즉, 석영재질로 형성되어 센서로부터 방사되는 빛을 반사하지 못하거나 외부에서 유입되는 빛을 반사하여 오동작이 발생되는 센서 감지부를 센서에서 방사되는 빛이 용이하게 반사되고 빛이 통과하지 않도록 불투명하게 처리하므로써, 석영 보우트를 이용할 때 그 위치의 검출을 안정되게 할 수 있다.

公开(公告)号：KR1019940027192A

公开(公告)日：1994-12-10

申请号：KR1019930007605

申请日：1993-05-03

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 강석희 ,  김용섭 ,  송주헌 ,  김형기

IPC: H01L29/78 ,  H01L21/336 ,  H01L21/8242

Abstract: 반도체기판 상에 소자영역 및 소자분리영역을 형성시키는 공정과, 이들 소자영역 및 소자분리영역 상에 실리콘 산화막으로 이루어진 게이트 산화막, 폴리 실리콘막, 타이타늄막 및 저온산화막을 각각 침적시키는 공정과, 상기 침적된 막 중 폴리 실리콘막과 타이타늄막 및 저온산화막을 건식식각법으로 패터닝하여 상기 소자영역 상에 게이트 패턴을 형성시키는 공정과, 이들 게이트 패턴이 형성된 기판 상에 저온산화막을 침적시킨 다음 건식식각법으로 패터닝하여 상기 소자영역 상에 스페이서를 형성시키는 공정과, 상기 패턴이 형성된 소자영역 및 소자분리영역 상에 소정의 두께로 타이타늄막을 침적시키는 공정과, 상기 타이타늄막을 열처리하여 선택적으로 제거함으로써 게이트용 타이타늄막을 침적시키는 공정과, 상기 타이타늄막을 실리사이 드막 패턴 그리고 소오스 드레인 부위를 형성시키는 공정과, 상기 패턴이 형성된 소자영역과 소자 분리영역 상에 인이 함유된 산화막을 침적시킨 다음 서로 분리된 형태로 상기 소오스 및 드레인 타이타늄 실리사이드 패턴의 일부가 개구되도록 패터닝하여 콘택을 형성하는 공정 및 상기 패턴이 형성된 기판 상에 다시 금속막을 침적시킨 뒤 패터닝하여 상기 산화막과는 일부 중첩되고 상기 금속막과는 서로 분리되도록 금속막을 식각시키는 공정으로 반도체장치를 형성시키므로써, 상기 게이트용 타이타늄 실리사이드막 패턴과 소오스 및 드레인용 타이타늄 실리사이드막 패턴을 저온산화막 패턴을 이용하여 완전히 격리시킬 수 있게 되어 게이트와 소오스 및 드레인 간에 발생되던 쇼트현상을 게이트 단자를 높이지 않고도 방지할 수 있을 뿐 아니라 더 나아가 게이트 단자를 줄이면서도 타이타늄 실리사이드의 장점을 동시에 실현할 수 있어 후속 평탄화 공정을 용이하게 실시할 수 있는 고신뢰성의 반도체장치 제조방법을 제공할 수 있게 된다.

公开(公告)号：KR1020080040205A

公开(公告)日：2008-05-08

申请号：KR1020060107854

申请日：2006-11-02

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김정민 ,  이승건 ,  박연수 ,  백균탁 ,  송주헌

IPC: H01L21/304

Abstract: A wet station apparatus is provided to enhance efficiency by reducing an exchang time of a wafer supporting unit. A bath(120) is arranged in an inside of a sink(110). A wafer supporting unit is installed in the sink so that a loaded wafer is arranged in the inside of the bath. An alignment member(200) is formed at the sink to guide a coupling position of the wafer supporting unit. The wafer supporting unit includes a loading part, an arm part(132), and a coupling part(133). The wafer is loaded on a groove which is formed in the loading unit. The arm part is extended from both sides of the loading part and is coupled with the sink. The loading part is arranged in the inside of the bath. The coupling part is formed at an end of the arm part.

Abstract translation: 提供湿站装置，以通过减少晶片支撑单元的交换时间来提高效率。 浴槽（120）布置在水槽（110）的内部。 晶片支撑单元安装在接收器中，使得加载的晶片布置在浴槽的内部。 对准构件（200）形成在水槽处以引导晶片支撑单元的联接位置。 晶片支撑单元包括装载部分，臂部分（132）和联接部分（133）。 晶片装载在形成于装载单元中的槽上。 臂部分从装载部分的两侧延伸并与水槽耦合。 装载部分布置在浴缸的内部。 联接部形成在臂部的端部。

公开(公告)号：KR100546288B1

公开(公告)日：2006-01-26

申请号：KR1019990012639

申请日：1999-04-10

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 송주헌 ,  문진옥

IPC: H01L21/30

CPC classification number: B24B53/017

Abstract: 본 발명의 화학 기계적 폴리싱 장치는 연마 패드, 웨이퍼 캐리어, 제1 링, 제2 링 및 세정액 공급관을 포함한다. 연마 패드는 회전 가능하도록 설치되며 연마 공정중에 연마하고자 하는 반도체 웨이퍼 표면이 접촉된다. 웨이퍼 캐리어는 연마하고자 하는 반도체 웨이퍼 표면이 연마 패드의 표면 방향으로 향하도록 반도체 웨이퍼를 적재한다. 제1 링은 반도체 웨이퍼 및 웨이퍼 캐리어의 가장자리를 둘러싸서 연마 공정중에 반도체 웨이퍼 및 웨이퍼 캐리어와 함께 회전하면서 반도체 웨이퍼가 이탈되는 것을 억제한다. 제2 링은 일정한 간격의 틈을 사이에 두고 제1 링의 둘레를 감싸되, 바깥면과 안쪽면 사이를 관통하는 복수개의 홀들이 형성되어 있으며, 연마 공정중에 밑면이 연마 패드의 일부와 고정적으로 접촉되어 반도체 웨이퍼의 가장자리 부분의 연마 프로파일을 향상시킨다. 그리고 세정액 공급관은 홀들 및 제1 및 제2링 사이의 틈내에 세정액을 공급할 수 있도록 제2 링의 복수개의 홀들 중 적어도 어느 하나에 연결된다.

公开(公告)号：KR1020010088062A

公开(公告)日：2001-09-26

申请号：KR1020000012063

申请日：2000-03-10

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 송주헌

IPC: H01L21/68

Abstract: PURPOSE: An apparatus for handling a semiconductor wafer is provided to stably perform a handling process of the semiconductor wafer, by guaranteeing time for taking a temporary action even if a vacuum state is not supplied. CONSTITUTION: An absorbing unit(22) absorbs a semiconductor wafer(W) by vacuum to handle the semiconductor wafer. A vacuum supply unit(24) generates the vacuum and supplies the vacuum state to the absorbing unit. A vacuum maintaining unit(23) temporarily maintains the vacuum stage and supplies the vacuum state to the absorbing unit, installed between the absorbing unit and the vacuum supply unit. A purifying gas supply unit(26) supplies purification gas to the absorbing unit, connected to the vacuum supply unit located in a position passing the vacuum maintaining unit.

Abstract translation: 目的：提供一种用于处理半导体晶片的装置，以便即使没有提供真空状态，也可以通过保证采取临时动作的时间来稳定地执行半导体晶片的处理过程。 构成：吸收单元（22）通过真空吸收半导体晶片（W）以处理半导体晶片。 真空供给单元（24）产生真空并将真空状态提供给吸收单元。 真空保持单元（23）暂时保持真空级并将真空状态提供给安装在吸收单元和真空供应单元之间的吸收单元。 净化气体供给单元（26）将净化气体供给到位于通过真空保持单元的位置的真空供给单元连接的吸收单元。

公开(公告)号：KR1019970053123A

公开(公告)日：1997-07-29

申请号：KR1019950061967

申请日：1995-12-28

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 송주헌

IPC: H01L21/304

Abstract: 이 발명은 파티클을 모니터링 할 수 있는 파티클카운터가 결합된 반도체 웨이퍼 세정장치에 관한 것이다.
이 발명의 구성은, 세정용액을 가지고 웨이퍼를 세정하는 세정조; 상기의 세정조에 포함된 세정용액을 순환시키는 순화펌프; 순환펌프로부터 순환되는 세정용액을 일정한 온도로 유지하는 항온조; 항온조의 세정용액을 여과하여 상기의 세정조에 다시 제공하는 필터; 필터에 의해 여과된 세정용액의 파티클을 카운트하는 파티클카운터로 이루어진다.
이 발명의 효과는, 세정액의 파티클을 항상 모니터링하므로 설비 보전작업이 용이하고, 세정 공정중 웨이퍼 세정의 안정성을 확보하여 세정시 파티클 오염에 의한 웨이퍼의 불량화를 방지할 수 있는 파티클카운터가 결합된 반도체 웨이퍼 세정장치를 제공할 수 있다.

公开(公告)号：KR1020080036769A

公开(公告)日：2008-04-29

申请号：KR1020060103427

申请日：2006-10-24

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 송주헌

IPC: H04M1/725 ,  H04M1/23

CPC classification number: H04M1/72547 ,  H04M1/23 ,  H04M1/7253

Abstract: A mobile phone and a method for inputting characters into a mobile multimedia device through the mobile phone are provided to input the characters into the mobile multimedia device anytime, even without a separate keyboard apparatus. A mobile phone(20) comprises a key input unit(23), a controller(21), a display unit(24), and a wired type data transmitting and receiving unit(22). The wired type data transmitting and receiving unit includes a conversion module(26) for converting a key input signal, which is generated through the key input unit, into a keyboard input signal. When the mobile phone is connected to a mobile multimedia device(10) through wired communication, the wired type data transmitting and receiving unit transmits the keyboard input signal to the mobile multimedia device.

Abstract translation: 提供移动电话和通过移动电话将人物输入到移动多媒体设备中的方法，即使没有单独的键盘装置，也可以随时将字符输入到移动多媒体设备中。 移动电话（20）包括键输入单元（23），控制器（21），显示单元（24）和有线式数据发送和接收单元（22）。 有线式数据发送和接收单元包括用于将通过键输入单元生成的键输入信号转换为键盘输入信号的转换模块（26）。 当移动电话通过有线通信连接到移动多媒体设备（10）时，有线类型的数据发送和接收单元将键盘输入信号发送到移动多媒体设备。