전자장치 및 그를 이용한 트랜잭션 수행 방법

    公开(公告)号:WO2018169204A1

    公开(公告)日:2018-09-20

    申请号:PCT/KR2018/001416

    申请日:2018-02-02

    Inventor: 이호정 안현수

    Abstract: 전자장치가 개시된다. 개시된 전자장치는 서버 및 적어도 하나의 외부 전자장치와 통신을 하는 통신부 및 상기 통신부와 전기적으로 연결된 프로세서를 포함하고, 상기 프로세서는, 상기 통신부를 통해 상기 외부 전자장치 또는 상기 서버로부터 상기 외부 전자장치에 대한 최신 통신 연결 정보를 수신하고, 트랜잭션 (transaction)이 발생하는 경우, 상기 통신 연결 정보에 기초하여 트랜잭션을 상기 외부 전자장치로 전파하고, 상기 트랜잭션을 수신한 외부 전자장치로부터 상기 트랜잭션에 대한 검증 결과를 수신하고, 상기 검증결과에 기초하여 새로운 블록 데이터를 생성하고 전파하여 상기 트랜잭션을 수행할 수 있다.

    전자 장치 및 전자 장치의 제어 방법

    公开(公告)号:WO2023048444A1

    公开(公告)日:2023-03-30

    申请号:PCT/KR2022/013985

    申请日:2022-09-19

    Inventor: 안현수 김도윤

    Abstract: 일 실시예에 의한 전자장치는, 영양제 정보를 저장하는 메모리; 사용자 단말로부터 상기 사용자가 선호하는 영양제 제공 방법을 포함하는 개인화 입력 정보를 수신하는 통신부; 및 상기 메모리와 통신부를 제어하는 적어도 하나의 프로세서;를 포함하고, 상기 적어도 하나의 프로세서는, 상기 영양제 정보 및 상기 개인화 입력 정보에 기초하여 후보 영양제 목록을 도출하고, 상기 사용자가 선호하는 영양제 제공 방법에 기초하여 결정된 섭취 우선순위가 포함된 영양제 목록을 상기 사용자 단말로 송신하도록 상기 통신부를 제어할 수 있다.

    전자 장치 및 그 제어 방법
    3.
    发明申请

    公开(公告)号:WO2023043070A1

    公开(公告)日:2023-03-23

    申请号:PCT/KR2022/012396

    申请日:2022-08-19

    Abstract: 개시된 일 측면에 따른 전자 장치는 대상체에 전류를 인가하고, 대상체의 임피던스를 측정하는 전극 센서와 인가되는 전류의 주파수를 조절하는 주파수 제어기와 주파수 별로 임피던스와 비타민 D 농도 간의 상관 관계가 저장된 메모리와 주파수를 가변하는 중에, 대상체의 임피던스를 획득하고, 획득된 임피던스가 속한 상관 관계를 특정하고, 상관 관계에 기초하여 대상체의 비타민 D 농도를 산출하는 프로세서를 포함한다.

    멀티 펑션 웨이퍼 얼라이너
    4.
    发明授权
    멀티 펑션 웨이퍼 얼라이너 失效
    멀티펑션웨이퍼얼라이너

    公开(公告)号:KR100389129B1

    公开(公告)日:2003-06-25

    申请号:KR1020010011453

    申请日:2001-03-06

    Inventor: 안현수

    CPC classification number: G01N21/9501 G01N21/9506

    Abstract: Disclosed is a multi-functioned wafer aligner comprising a multi-functioned unit performing a wafer centering operation, a wafer flat zone alignment, and a wafer damage detection, and a main processor deciding positions of the wafer centering operation and the wafer flat zone alignment, and discriminating wafer damage, such as wafer breakage and wafer crack, by calculating an accumulated digital signal inputted from the multi-functioned unit.

    Abstract translation: 本发明公开了一种多功能晶圆对准器,包括执行晶圆对中操作,晶圆平坦区对准和晶圆损伤检测的多功能单元以及确定晶圆对中操作和晶圆平坦区对准的位置的主处理器, 并通过计算从多功能单元输入的累积数字信号来区分诸如晶片破裂和晶片破裂的晶片损坏。

    박박 형성 장치의 세정 방법 및 이를 이용한 박막 형성방법
    5.
    发明授权
    박박 형성 장치의 세정 방법 및 이를 이용한 박막 형성방법 失效
    薄膜形成装置的清洗方法及使用其的薄膜形成方法

    公开(公告)号:KR100706810B1

    公开(公告)日:2007-04-12

    申请号:KR1020060011850

    申请日:2006-02-07

    Abstract: 박막 형성 장치를 세정하는 방법이 제공되는 데, 박막의 증착을 완료한 후, 공정 챔버 내의 온도를 크게 하강시키지 않고 세정가스를 짧은 시간 간격으로 반복적으로 공정 챔버 내부로 유입시켜 챔버 내에 잔류하는 막질을 제거하며, 세정 중에 퍼지가스가 공급될 수 있다. 본 발명에 따르면, 박막 형성 장치에 대한 손상과 공정시간의 지연을 최소화할 수 있으며, 박막 형성 장치의 유지 보수가 간단하고, 박막 형성 공정의 생산성을 향상할 수 있다.
    박막 형성 장치.

    Abstract translation: 提供了一种用于清洁薄膜形成设备的方法,包括:在完成薄膜沉积之后,以短时间间隔重复地向处理室中引入清洁气体,而不显着降低处理室中的温度, 清洁过程中可以提供清洁气体。 根据本发明,可以使对薄膜形成装置的损伤和处理时间的延迟最小化,薄膜形成装置的维护简单,并且可以提高薄膜形成工艺中的生产率。

    웨이퍼 이송장치용 웨이퍼 감지장치 및 웨이퍼 감지방법
    6.
    发明公开
    웨이퍼 이송장치용 웨이퍼 감지장치 및 웨이퍼 감지방법 无效
    WAFER检测设备,用于传输设备和检测方法

    公开(公告)号:KR1020040063301A

    公开(公告)日:2004-07-14

    申请号:KR1020030000660

    申请日:2003-01-06

    Inventor: 안현수

    Abstract: PURPOSE: A wafer detecting method is provided to prevent a process defect caused by a wafer defect by calculating the weight value of a wafer loaded into the upper surface of a transfer arm and by detecting whether the wafer is damaged while determining whether the wafer exists on the upper surface of the transfer arm. CONSTITUTION: A wafer is loaded into the upper surface of a transfer arm(21). The weight value of the loaded wafer is calculated. The calculated weight value is compared with a reference value and is determined to be normal or abnormal. Equipment is stopped when an abnormal state occurs.

    Abstract translation: 目的:提供一种晶片检测方法,通过计算装载到传送臂的上表面中的晶片的重量值,并且通过检测晶片是否损坏同时确定晶片是否存在,来防止由晶片缺陷引起的工艺缺陷 传送臂的上表面。 构成:将晶片装入传送臂(21)的上表面。 计算加载的晶片的重量值。 将计算的重量值与参考值进行比较,并将其确定为正常或异常。 异常状态发生时,设备停机。

    고용량 터미널 연결고정장치
    7.
    发明公开
    고용량 터미널 연결고정장치 有权
    用于固定大容量终端的连接的装置

    公开(公告)号:KR1020040003886A

    公开(公告)日:2004-01-13

    申请号:KR1020020038713

    申请日:2002-07-04

    Inventor: 안현수

    CPC classification number: H01R11/12 H01R4/304

    Abstract: PURPOSE: A device for fixing connection of large-capacity terminals is provided to prevent a fire caused by movement or heat-radiation of a combining part of large- capacity terminals. CONSTITUTION: A device for fixing connection of large-capacity terminals includes a bolt unit(150) and a nut(170). The bolt unit sequentially penetrates the first and second terminals(110,130) to combine the first and second terminals with each other and supports one side of the first terminal. The nut is combined with the bolt unit to support the other side of the first terminal. One side of the second terminal and one side of the bolt unit, which comes into contact with one side of the second terminal, have uneven surfaces so as to improve the area and friction of the contact face of the first terminal and bolt unit.

    Abstract translation: 目的:提供一种用于固定大容量端子连接的装置,以防止大容量端子的组合部分的移动或散热引起的火灾。 构成:用于固定大容量端子连接的装置包括螺栓单元(150)和螺母(170)。 螺栓单元顺序地穿过第一和第二端子(110,130)以将第一和第二端子彼此组合并支撑第一端子的一侧。 螺母与螺栓单元组合以支撑第一端子的另一侧。 第二端子的一侧和与第二端子的一侧接触的螺栓单元的一侧具有不平坦的表面,以便改善第一端子和螺栓单元的接触面的面积和摩擦。

    멀티 펑션 웨이퍼 얼라이너
    8.
    发明公开
    멀티 펑션 웨이퍼 얼라이너 失效
    多功能波对齐器

    公开(公告)号:KR1020020071337A

    公开(公告)日:2002-09-12

    申请号:KR1020010011453

    申请日:2001-03-06

    Inventor: 안현수

    CPC classification number: G01N21/9501 G01N21/9506

    Abstract: PURPOSE: A multi-function wafer aligner is provided to exactly detect a damage of a wafer through a wafer centering and a wafer flatzone alignment process before performing an arbitrary semiconductor manufacturing process on the wafer. CONSTITUTION: A multi-function wafer aligner comprises a base body, a wafer cassette fixing unit, a wafer transfer, a multi-function unit and central process unit. The multi-function unit further includes a wafer rotation unit(141), a position correction sensor unit(144) for correcting a wafer centering position and a wafer flatzone position, a sensor unit(145) for detecting wafer damage, a position correction sensor unit(144) and a sensor frame(149) installed with the wafer damage detecting sensor unit(145). At this point, the position correction sensor unit(144) and the sensor unit(145) for detecting wafer damage are respectively and connected with the central process unit(10).

    Abstract translation: 目的:提供多功能晶片对准器,以便在对晶片执行任意的半导体制造工艺之前,通过晶片定心和晶片平带校准工艺准确检测晶片的损坏。 构成:多功能晶片对准器包括基体,晶片盒固定单元,晶片传送,多功能单元和中央处理单元。 多功能单元还包括晶片旋转单元(141),用于校正晶片定心位置和晶片平坦带位置的位置校正传感器单元(144),用于检测晶片损坏的传感器单元(145),位置校正传感器 单元(144)和安装有晶片损伤检测传感器单元(145)的传感器框架(149)。 此时,用于检测晶片损坏的位置校正传感器单元(144)和传感器单元(145)分别与中央处理单元(10)连接。

    가스분사장치 및 이를 이용한 기판처리장치
    9.
    发明公开
    가스분사장치 및 이를 이용한 기판처리장치 无效
    气体喷射器和使用其处理基板的装置

    公开(公告)号:KR1020070042783A

    公开(公告)日:2007-04-24

    申请号:KR1020050098744

    申请日:2005-10-19

    Abstract: 본 발명은 가스분사장치 및 이를 이용한 기판처리장치를 개시한 것으로서, 공정챔버; 공정챔버에 연결된 가스공급관; 공정챔버의 내부에 설치되어 기판을 지지하는 기판 지지부재; 기판 지지부재에 놓여진 기판과 대향되도록 설치되어 가스를 분사하는 가스분사부와, 가스공급관과 가스분사부의 사이에 연통되도록 설치되는 유로연결부를 포함하는 가스분사장치; 및 공정챔버에 연결된 진공배기장치;를 포함하며, 유로연결부는 일단에 적어도 하나 이상의 오링(O-Ring)이 설치된 상태에서 가스공급관의 내측에 삽입 설치되도록 한 구성을 가진다.
    이러한 구성에 의하면, 가스공급관의 내측에 삽입 설치되는 유로연결부의 실링 성능을 향상시켜, 가스분사장치 내에서의 반응가스의 누출로 인한 반응가스 간의 혼합 및 반응을 방지함으로써, 반응가스들이 공정챔버 내의 기판과 가스분사장치 사이의 반응영역에 도달될 때까지 반응가스들의 유동 경로를 분리하여 공급할 수 있는 가스분사장치 및 이를 이용한 기판처리장치를 제공할 수 있다.
    가스분사장치, 샤워 헤드, 반응가스, 실링

    질량 유량 제어기
    10.
    发明授权
    질량 유량 제어기 失效
    质量流量控制器

    公开(公告)号:KR100653710B1

    公开(公告)日:2006-12-04

    申请号:KR1020040105903

    申请日:2004-12-14

    Inventor: 안현수

    CPC classification number: G05D7/0635 Y10T137/7761

    Abstract: 본 발명은 질량 유량 제어기에 관한 것으로, 유체의 흐름을 위한 유로와, 유체를 유로로 유입시키기 위한 유입부 및 유체를 유로로부터 방출하기 위한 방출부를 갖는 제어기 몸체; 유로와 연결되도록 제어기 몸체의 유입부 측에 설치되며, 유로를 통과하는 유체의 질량 유량을 측정하는 질량 유량 센서; 유로와 연결되도록 제어기 몸체의 방출부 측에 설치되며, 유로를 통과하는 유체의 질량 유량을 조절하는 컨트롤 밸브; 질량 유량 센서에 의해 측정된 질량 유량과 기준 유량을 비교하여 유체의 질량 유량이 기준유량과 일치하도록 컨트롤 밸브의 동작을 제어하는 밸브 제어부 및, 유로로 유입되는 파티클에 의해 컨트롤 밸브에서 리크가 발생되는 것을 방지하는 리크방지수단을 포함한다. 따라서, 백 프레져 현상에 의해 제어기 몸체 내부로 파티클이 유입된 경우에도 밸브의 리크 현상은 좀처럼 발생되지 않게 된다.
    질량 유량 제어기

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