公开(公告)号：KR1020160049389A

公开(公告)日：2016-05-09

申请号：KR1020140146434

申请日：2014-10-27

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김호영 ,  강동민 ,  김성배 ,  한훈 ,  윤홍권 ,  이효선 ,  홍영택

IPC: H01L21/027 ,  H01L21/302

CPC classification number: G03F1/82 ,  B08B3/00 ,  B08B3/04 ,  C11D7/26 ,  C11D7/34 ,  C11D11/0047 ,  H01L21/0274

Abstract: 집적회로소자제조방법에서는유기산과, 산화제와, DIW (deionized water)를포함하는세정조성물을이용하여포토마스크를습식처리한다.

Abstract translation: 在制造集成电路器件的方法中，通过使用包含有机酸，氧化剂和去离子水（DIW）的清洁组合物对光掩模进行湿法处理。 因此，当以预定的周期重复清洁处理时，该方法可以防止光掩模的结构由于清洁材料而被损坏。