公开(公告)号：KR1020170099150A

公开(公告)日：2017-08-31

申请号：KR1020160021157

申请日：2016-02-23

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 성수진 ,  김현숙 ,  정우경 ,  서자연 ,  이승목 ,  이유리 ,  이종호 ,  정용미

IPC: D06F39/00 ,  D06F39/14 ,  D06F37/22 ,  D06F37/04 ,  D06F35/00 ,  D06F33/02

CPC classification number: D06F33/02 ,  D06F23/06 ,  D06F37/22 ,  D06F37/225 ,  D06F37/266 ,  D06F37/304 ,  D06F37/36 ,  D06F39/005 ,  D06F39/02 ,  D06F39/085 ,  D06F39/088 ,  D06F39/14 ,  D06F2204/065 ,  D06F2204/086 ,  D06F2222/00

Abstract: 드럼의회전을통해발생되는공기의유동에의한힘을세척수에제공하여다이어프램을세척하는세탁기및 그제어방법을제공한다. 일실시예에따른세탁기는, 전방에투입구가마련되는본체; 상기투입구를개폐하는도어; 상기투입구에대응되는개구를가지고, 상기본체의내부에마련되는터브; 상기투입구와상기개구를연결하는다이어프램; 상기터브내부에회전가능하게마련되는드럼; 세척수를상기도어로분사하도록상기다이어프램상에마련되는도어세척노즐; 및정지상태의상기드럼이제 1 목표회전속도에도달하는제 1 구간및 상기제 1 목표회전속도의상기드럼이제 2 목표회전속도에도달하는제 2 구간을포함하는다이어프램세척모드에진입하면, 상기제 1 구간중 제 1 시간동안상기세척수를분사한후, 상기제 2 구간중 제 2 시간동안상기세척수를분사하도록상기도어세척노즐을제어하는제어부; 를포함할수 있다.

Abstract translation: 本发明提供一种洗衣机及其控制方法，该洗衣机通过利用由于滚筒的旋转而产生的空气流动的力供应洗涤水来洗涤隔膜。 根据本发明的一个实施例，提供了一种洗衣机，包括：主体，在其前部具有充电端口; 打开和关闭入口的门; 桶，其具有对应于充电端口并设置在主体内部的开口; 连接入口和开口的隔膜; 可旋转地安装在桶中的滚筒; 设置在隔膜上的洗门喷嘴将洗涤水注入门内; 当滚筒进入包括达到一个目标转速的第一部分和达到第一目标转速的滚筒的第二目标转速的第二部分的隔膜清洁模式时， 一种控制器，用于控制洗涤喷嘴在洗涤喷嘴第一次喷洒洗涤水之后在第二部分的第二时间注入洗涤水; 该可包含。

公开(公告)号：KR1020170009191A

公开(公告)日：2017-01-25

申请号：KR1020150100843

申请日：2015-07-16

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김성민 ,  강지수 ,  류병찬 ,  박재현 ,  이유리 ,  차동호

IPC: H01L29/78

CPC classification number: H01L21/823871 ,  H01L21/823814 ,  H01L21/823821 ,  H01L27/0924 ,  H01L29/0847 ,  H01L29/1608 ,  H01L29/161 ,  H01L29/165 ,  H01L29/665 ,  H01L29/7848 ,  H01L2029/7858

Abstract: 반도체장치가제공된다. 상기반도체장치는, 기판상에형성되고제1 방향으로연장되는제1 핀형패턴, 상기제1 핀형패턴과교차하도록형성되는게이트구조체, 상기게이트구조체의적어도일측에서, 상기제1 핀형패턴상에형성되는제1 에피텍셜층, 및상기게이트구조체의측벽과접하는제1 부분과, 상기제1 부분상에서상기게이트구조체의측벽과이격되는제2 부분을포함하는금속컨택을포함하되, 상기제1 부분은상기제1 에피텍셜층과접하고, 상기제1 부분및 상기제2 부분사이의경계면에서, 상기제1 부분의폭은상기제2 부분의폭보다크다.

Abstract translation: 半导体器件包括从场绝缘膜的上表面向上突出并沿第一方向延伸的第一鳍式图案和第二鳍片型图案。 栅极结构与第一鳍状图案和第二鳍片图案相交。 第一外延层位于栅极结构的至少一侧的第一鳍式图案上，第二外延层位于栅极结构的至少一侧上的第二鳍型图案上。 金属接触覆盖第一外延层和第二外延层的外圆周表面。 第一外延层接触第二外延层。

公开(公告)号：KR1020160136042A

公开(公告)日：2016-11-29

申请号：KR1020150069712

申请日：2015-05-19

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김성민 ,  강지수 ,  박재현 ,  신헌종 ,  이유리

IPC: H01L29/78

CPC classification number: H01L27/0886 ,  H01L21/823431 ,  H01L21/823481 ,  H01L27/088 ,  H01L29/0653 ,  H01L29/1037 ,  H01L29/41791 ,  H01L29/785

Abstract: 반도체소자를제공한다. 이반도체소자는반도체기판상에배치되며서로마주보는측면들을갖는제1 활성영역및 제2 활성영역; 상기제1 및제2 활성영역들사이에배치되는아이솔레이션패턴; 상기제1 및제2 활성영역들사이에배치되는반도체확장층; 상기제1 활성영역상에배치되는제1 소스/드레인반도체층; 및상기제2 활성영역상에배치되는제2 소스/드레인반도체층을포함한다. 상기제1 및제2 활성영역들의서로마주보는상기측면들은상기아이솔레이션패턴보다상기반도체확장층에가깝다.

Abstract translation: 半导体器件包括第一有源区和第二有源区，它们设置在半导体衬底中并且具有彼此面对的侧表面，设置在第一和第二有源区之间的隔离图案，设置在第一和第二有源区之间的半导体延伸层， 第二有源区，设置在第一有源区上的第一源/漏半导体层和设置在第二有源区上的第二源/漏半导体层。 第一和第二有源区的面对侧表面比隔离图案更靠近半导体延伸层。