公开(公告)号：KR1019970052073A

公开(公告)日：1997-07-29

申请号：KR1019950056427

申请日：1995-12-26

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 전필권 ,  박희정 ,  이재옥 ,  전상문

IPC: H01L21/205

Abstract: 본 발명은 반도체 산업용 설비에서 사용되는 화학약품 용액들을 여과하기 위한 습식 필터의 웨팅 시스템에 관한 것으로, 필터(1)로 웨팅 용제를 공급하기 위한 웨팅 용제 탱크(10)와, 필터(1)로 순수를 공급하는 순수 공급부(10)와, N
2 개스를 공급하는 개스 공급부(30)와, 순수 배출부(40), 에어 유량계(50), 액체 유량계(60), 불순물의 양을 측정하기 위한 불순물 계수기(70)와, 시스템으로 공급되는 압력을 측정하기 위한 압력계(80) 및, 순환계로 구성된다. 이로써, 필터 매질의 미세 기공까지 완벽한 웨팅이 이루어지고, 필터의 웨팅 상태를 쉽게 점검할 수 있으며, 화학약품 용액이 불순물에 의해 오염되는 것을 방지할 수 있다. 또, 필터의 불량 여부를 그것이 설비에서 사용되기 이전에 충분히 검증할 수 있을 뿐만 아니라, 환경을 보호하고 강한 휘발성의 웨팅 용제로 인한 화재 발생의 위험성으로부터 벗어날 수 있다.

公开(公告)号：KR100173948B1

公开(公告)日：1999-04-01

申请号：KR1019950056427

申请日：1995-12-26

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 전필권 ,  박희정 ,  이재옥 ,  전상문

IPC: H01L21/205

Abstract: 본 발명은 반도체 산업용 설비에서 사용되는 화학약품 용액들을 여과하기 위한 습식 필터의 웨팅 시스템에 관한 것으로, 필터(1)로 웨팅 용제를 공급하기 위한 웨팅 용제 탱크(10)와, 필터(1)로 순수를 공급하는 순수 공급부(10)와, N
2 개스를 공급하는 개스 공급부(30)와, 순수 배출부(40), 에어 유량계(50), 액체 유량계(60), 불순물의 양을 측정하기 위한 불순물 계수기(70)와, 시스템으로 공급되는 압력을 측정하기 위한 압력계(80) 및, 순환계로 구성된다. 이로써, 필터 매질의 미세 기공까지 완벽한 웨팅이 이루어지고, 필터의 웨팅 상태를 쉽게 점검할 수 있으며, 화학약품 용액이 불순물에 의해 오염되는 것을 방지할 수 있다. 또, 필터의 불량 여부를 그것이 설비에서 사용되기 이전에 충분히 검증할 수 있을 뿐만 아니라, 환경을 보호하고 강한 휘발성의 웨팅 용제로 인한 화재 발생의 위험성으로부터 벗어날 수 있다.