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公开(公告)号：WO2022039377A1
公开(公告)日：2022-02-24
申请号：PCT/KR2021/008065
申请日：2021-06-28
Applicant: 삼성전자주식회사
Abstract: 신발 관리기는 관리실을 형성하며 공급구를 갖는 캐비닛, 상기 공급구를 통해 상기 관리실로 공기를 공급하도록 마련되는 공급 덕트, 상기 관리실에 배치되며, 상기 공급 덕트와 연통 가능하도록 마련되는 서포터, 및 상기 공급구에 배치되는 서포터 레일로서, 상기 서포터가 상기 서포터 레일에 장착될 때 상기 공급구를 개방시키고, 상기 서포터가 상기 서포터 레일로부터 분리될 때 상기 공급구를 폐쇄하도록 마련되는 서포터 레일을 포함한다.
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公开(公告)号：WO2022164022A1
公开(公告)日：2022-08-04
申请号：PCT/KR2021/019082
申请日：2021-12-15
Applicant: 삼성전자주식회사
Abstract: 신발 관리기는 캐비닛, 상기 캐비닛의 내부에 마련되는 관리실, 상기 관리실로 공기를 공급하도록 마련되는 기계실로서, 공기가 유입되는 유입구와 공기가 유출되는 유출구를 포함하는 기계실, 공기가 상기 관리실 및 상기 기계실을 순환하도록 마련되는 유로, 상기 관리실로부터 구획된 회수 챔버로서, 상기 관리실로부터 회수되는 공기를 상기 기계실의 유입구로 안내하도록 상기 관리실 및 상기 기계실과 연통되는 회수 챔버, 가향제가 수용되도록 마련되는 가향제 홀더로서, 상기 가향제에 의해 향이 첨가된 공기가 상기 유로를 통해 상기 관리실로 공급되도록 상기 회수 챔버에 배치되는 가향제 홀더를 포함한다.
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公开(公告)号：WO2022164036A1
公开(公告)日：2022-08-04
申请号：PCT/KR2021/019450
申请日：2021-12-21
Applicant: 삼성전자주식회사
Abstract: 신발관리기가 개시된다. 본 개시의 사상에 따른 신발관리기는 캐비닛과, 상기 캐비닛 내에 마련되는 관리실과, 상기 관리실을 개폐하도록 상기 캐비닛에 결합되는 도어와, 상기 관리실로 공기를 공급하도록 상기 캐비닛의 제1벽에 형성되는 공급덕트와, 상기 공급덕트로부터 공기를 공급받도록 상기 공급덕트와 연통되고, 상기 관리실 내에 신발이 배치되도록 상기 캐비닛의 제1벽 내면에 결합되는 신발지지장치 및 상기 관리실 내에 배치되는 신발이 살균되도록 자외선 램프를 포함하는 살균장치로서, 상기 캐비닛의 제2벽 또는 도어에 설치되는 살균장치를 포함할 수 있다.
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公开(公告)号：WO2020251209A1
公开(公告)日：2020-12-17
申请号：PCT/KR2020/007205
申请日：2020-06-03
Applicant: 삼성전자주식회사
Abstract: 스팀발생장치의 내부에 저장되는 물의 수위를 감지하도록 구성되는 수위감지센서를 포함하는 의류관리기를 제공한다. 의류관리기는 의류를 수용하는 관리실을 포함하는 본체, 관리실의 하부에 배치되도록 본체의 내부에 마련되는 기계실, 및 기계실의 내부에 배치되고, 케이스 및 케이스의 내부의 수위를 감지하도록 케이스와 분리 가능하게 마련되는 수위감지센서를 가지는 스팀발생장치를 포함하고, 수위감지센서는 케이스에 결합되는 하우징, 하우징에 의해 지지되는 복수의 전극, 및 복수의 전극을 각각 감싸도록 마련되는 전극피막바디 및 복수의 전극을 전극피막바디의 외부로 노출하도록 전극피막바디에 마련되는 전극홀을 가지는 전극피막을 포함하고, 전극홀은 전극피막바디의 일단부 또는 전극피막바디의 타단부로부터 이격되게 위치된다.
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公开(公告)号：KR1020000027055A
公开(公告)日：2000-05-15
申请号：KR1019980044881
申请日：1998-10-26
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/205
Abstract: PURPOSE: A chemical vapor deposition equipment and a method depositing a chemical vapor with using the chemical vapor deposition equipment are provided to effect to retrofit uniformity of a process and quality of a semiconductor element by forming a uniform thin film on a surface of a wafer through constantly distributing kinetic gas in a process chamber(12) which constantly kept pressure and temperature. CONSTITUTION: A CVD(Chemical Vapor Deposition) equipment comprises a process chamber(12), a first/a second gas line(52,54,62,64), at least two-first injectors, and at least two-second injectors. The process chamber is a reaction path for forming a thin film on a surface of a semiconductor wafer. The first/the second gas line supplies a first reaction gas and a second reaction gas to the process chamber, respectively. The two-first injectors(22a, 22b) are equipped on the process chamber in regular intervals, connected to the first gas line respectively, and inject the first reaction gas into the process chamber. The two-second injectors(24a, 24b) are equipped on the process chamber to make pair with the first injectors, connected to the second gas line respectively, and inject the second reaction gas into the process chamber.
Abstract translation: 目的：提供化学气相沉积设备和使用化学气相沉积设备沉积化学蒸气的方法，以通过在晶片表面上形成均匀的薄膜来实现改进工艺的均匀性和半导体元件的质量 不断地将动力气体分配在不断保持压力和温度的处理室（12）中。 构成：CVD（化学气相沉积）设备包括处理室（12），第一/第二气体管线（52,54,62,64），至少两个第一喷射器和至少两个第二喷射器。 处理室是用于在半导体晶片的表面上形成薄膜的反应路径。 第一/第二气体管线分别向处理室提供第一反应气体和第二反应气体。 二次注射器（22a，22b）以规则的间隔配置在处理室上，分别连接到第一气体管线，并将第一反应气体注入到处理室中。 两个第二喷射器（24a，24b）被配备在处理室上以分别与第二喷射管连接，并将第二反应气体注入到处理室中。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR200150998Y1
公开(公告)日：1999-07-15
申请号：KR2019960003369
申请日：1996-02-28
Applicant: 삼성전자주식회사
Inventor： 이학재
IPC: H01L21/205
Abstract: 유량 제어기의 유지 보수 및 관리에 유용한 유량 제어기의 어댑터(adaptor)가 개시된다. 이를 위하여 본 고안은 수직머신의 커넥터가 일면에서 연결되는 제1 연결부와, 다른 일면에서 상기 유량제어기의 커넥터가 연결되는 제2 연결부를 갖는 직육면체 형상의 중간 어댑터와 상기 중간 어댑터의 또 다른 일면에 구성된 전압점검부와, 상기 전압점검부에서 구성되고, 외부연결수단으로 상기 중간어댑터에 연결되어 있는 전원선의 전압을 측정하기 용이하도록 식별가능하게 구성된 점검수단을 구비하는 것을 특징으로 하는 유량제어기의 어댑터를 제공한다. 본 고안에 의하면, 유량 제어기의 입/출력 전압 측정이 용이하므로, 작업 소홀로 인한 단락 현상이나 그와같은 현상으로 인한 주변 설비의 고장을 방지할 수 있고, 그에 따라 작업 효율을 향상시킬 수 있다.
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公开(公告)号：KR100170888B1
公开(公告)日：1999-03-30
申请号：KR1019950049333
申请日：1995-12-13
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/20
Abstract: 본 발명은 반도체소자 제조설비의 진공 밸브에 관한 것으로, 반도체소자의 제조공정중 저압 화학기상증착(Low Pressure Chemical Vapor Deposition)장비등 여러 가지 저압 공정장비에서 공정후 발생되는 폐기물이 배출되는 배출라인의 통로를 개폐하도록 설치된 반도체소자 제조설비의 진공 밸브에 있어서, 개폐판의 직선 왕복이동에 따라 수축 및 팽창하여 기밀이 지속적으로 유지되도록 구비한 벨로우즈가 완전수축되지 않도록 벨로우즈 수축방향으로의 개폐판 이동거리를 제한하는 스토퍼가 밸브몸체내에 설치된 구성이다.
따라서 벨로우즈의 완전수축이 방지되어 용접부위에서의 균열 및 깨짐현상이 감소되어 이로 인한 공정 폐기물의 누출이 방지되는 것이고, 공정 폐기물의 배출시 벨로우즈의 표면 및 용접부위가 노출되지 않아 벨로우즈의 수명이 연장되는 효과가 있다.-
公开(公告)号：KR1020020078194A
公开(公告)日：2002-10-18
申请号：KR1020010018220
申请日：2001-04-06
Applicant: 삼성전자주식회사
Inventor： 이학재
IPC: H01L21/02
Abstract: PURPOSE: An exhaust device for controlling vacuum state of processing chamber is provided to reduce apparatus costs and to previously prevent down of the apparatus without using sub-valve. CONSTITUTION: A first and second air ports(208,209) are open and close a first and second air lines(203,205), respectively. An air supply source(206) supplies an air of a first pressure to the first air line(203) and supplied an air of a second pressure to the second air line(205) by using an air regulator(207). A main exhausting line is turned on/off according to the pressure of air injected from the first and second air lines(203,205) by using a main valve(201). A vacuum pump(211) exhausts air of the main exhausting line. The first and second air ports(208,209) are a solenoid valve.
Abstract translation: 目的：提供一种用于控制处理室的真空状态的排气装置，以减少设备成本，并且以前在不使用副阀的情况下防止装置的下降。 构成：第一和第二空气端口（208,209）分别打开并关闭第一和第二空气管线（203,205）。 空气供给源（206）通过使用空气调节器（207）向第一空气管路（203）供给第一压力的空气，并向第二空气管路（205）供给第二压力的空气。 主排气管线根据通过使用主阀（201）从第一和第二空气管路（203,205）喷射的空气的压力而被打开/关闭。 真空泵（211）排出主排气管线的空气。 第一和第二空气端口（208,209）是电磁阀。
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公开(公告)号：KR1020000055729A
公开(公告)日：2000-09-15
申请号：KR1019990004508
申请日：1999-02-09
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/324
Abstract: PURPOSE: An apparatus for manufacturing a semiconductor having a heater for heating a chamber is provided to form a thin film having a uniform thickness on a wafer, by partially controlling heat applied to the chamber according to the thickness of the thin film formed on the wafer. CONSTITUTION: An apparatus for manufacturing a semiconductor having a heater(300) for heating a chamber comprises the chamber, a gas-supplying element, a first heater, and a second heater. The chamber forms a predetermined film on a wafer. The gas-supplying element supplies a predetermined gas to the chamber from the exterior. The first heater heats a portion to which the gas supplying element of the chamber is connected. The second heater heats a rear portion of the portion heated by the first heater. The respective heaters include a plurality of coils for transforming at least one voltage to a heat.
Abstract translation: 目的：提供一种用于制造具有用于加热室的加热器的半导体的装置，以通过根据形成在晶片上的薄膜的厚度部分地控制施加到室的热量来在晶片上形成具有均匀厚度的薄膜 。 构成：用于制造具有用于加热室的加热器（300）的半导体的装置包括室，气体供应元件，第一加热器和第二加热器。 腔室在晶片上形成预定的膜。 气体供给元件从外部向腔室供给预定的气体。 第一加热器加热室的气体供应元件连接的部分。 第二加热器加热由第一加热器加热的部分的后部。 各个加热器包括用于将至少一个电压转换成热量的多个线圈。
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公开(公告)号：KR1020000028031A
公开(公告)日：2000-05-15
申请号：KR1019980046146
申请日：1998-10-30
Applicant: 삼성전자주식회사
Inventor： 이학재
IPC: H01L21/205
Abstract: PURPOSE: A Chemical Vapor Deposition(CVD) device having a vacuum part inside of the CVD device is provided in order to supply a wafer transferring part with vacuum only when the wafer is loaded or unloaded. CONSTITUTION: A vacuum part(35) is connected to wafer transferring part(34) through a supply line(33). When a wafer is transferred from a wafer cassette(32) to a boat(36) or when a processed wafer is transferred from the boat(36) to the wafer cassette(32), the vacuum part(35) supplies a wafer transferring part(34) with vacuum. The vacuum part(35) is controlled by a controller(39).
Abstract translation: 目的：提供在CVD装置内部具有真空部分的化学气相沉积（CVD）装置，以便仅在晶片装载或卸载时向晶片转移部分提供真空。 构成：真空部分（35）通过供应线（33）连接到晶片传送部分（34）。 当晶片从晶片盒（32）转移到舟状物（36）时，或者当处理的晶片从舟状物（36）转移到晶片盒（32）时，真空部分（35）提供晶片传送部分 （34）。 真空部分（35）由控制器（39）控制。
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