公开(公告)号：KR1020010045629A

公开(公告)日：2001-06-05

申请号：KR1019990048971

申请日：1999-11-05

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 정동옥

IPC: H01L21/68

Abstract: PURPOSE: A wafer loading boat of a semiconductor vertical diffusion furnace is provided to prevent adjacent wafers from colliding with each other, by preventing the wafers from drooping even if the wafers are unstably loaded in a boat. CONSTITUTION: A plurality of supporting bars(22) are coupled to an edge portion between upper and lower plates, separated by a predetermined interval. An insertion groove(22a) is for formed that a plurality of wafers(30) are inserted and settled in a lengthwise direction of the supporting bars. A plurality auxiliary supporting bars(24) are disposed in parallel between the supporting bars, separated by a predetermined interval. A hanging protrusion(24a) is protruded to support the wafer so that the wafer does not droop in the lengthwise direction of the auxiliary bars.

Abstract translation: 目的：提供半导体垂直扩散炉的晶片加载舟，以防止相邻的晶片相互碰撞，即使晶片不稳定地装载在船上，也可防止晶片下垂。 构成：多个支撑杆（22）联接到上板和下板之间的边缘部分，间隔预定间隔。 用于形成多个晶片（30）沿支撑杆的长度方向插入和沉降的插入槽（22a）。 多个辅助支撑杆（24）平行布置在支撑杆之间，间隔预定间隔。 突起突起（24a）以支撑晶片，使得晶片不沿辅助杆的长度方向下垂。

公开(公告)号：KR100217333B1

公开(公告)日：1999-09-01

申请号：KR1019960047554

申请日：1996-10-22

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김동일 ,  정동옥

IPC: H01L21/22

Abstract: 반도체소자 제조공정이 진행되는 석영관(Quartz tube)이 공정과정에 수평상태를 유지할 수 있는 반도체 제조용 수평형 확산로에 관한 것이다.
본 발명은, 확산공정이 진행되는 원통형의 석영관, 상기 석영관과 이격되면서 상기 석영관을 감싸고 있는 원통형의 히터, 상기 히터 양쪽 가장자리부와 연결되어 상기 석영관과 외부로 이격되면서 상기 석영관을 감싸고 있는 한쌍의 원통형 베스티불 블럭, 상기 히터와 상기 석영관 사이의 이격된 공간을 채우는 석영관 패드가 구비된 반도체 제조용 수평형 확산로에 있어서, 상기 베스티불 블럭 내측면에는 상기 석영관을 상기 히터의 중심부에 위치하도록 지지하는 석영관 지지대가 설치됨을 특징으로 한다.
따라서, 히터에서 발산되는 열이 웨이퍼 상에 고르게 전달되어 균일한 막질이 형성되는 효과가 있다.

公开(公告)号：KR1020010025873A

公开(公告)日：2001-04-06

申请号：KR1019990036923

申请日：1999-09-01

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 정동옥

IPC: H01L21/68

Abstract: PURPOSE: A wafer boat is provided to increase number of wafer loaded at a time by optimizing an interval of wafer slot pitch of the wafer boat. CONSTITUTION: A wafer boat(50) mounted on a low pressure chemical vapor deposition equipment comprises a top plate, a thermo-chamber and a number of support loads(53). The top plate, the thermo-chamber and the support loads(53) are made of quartz materials. The top plate has a circle shape the same size as the size of the plane of a wafer. The thermo-chamber having cylindrical shape is formed on a place away from the top plate at an interval. The support loads(53) are formed on the thermo-chamber in a semicircular shape. A number of slots each consisting of two wafer loaded parts(53a, 53b) are formed on inner surface of each support loads(53) so as to a number of wafers are loaded safely. The wafer loaded parts(53a,53b) have a wafer slot pitch by which the number of wafer loaded on the wafer boat is decided. The wafer slot pitch is decided by a thickness of a wafer loaded part(53a or 53b) and a width between two wafer loaded part(53a,53b). The wafer slot pitch becomes 3.56mm, when setting the thickness to 1.36mm and the width to 2.2mm.

Abstract translation: 目的：提供晶片舟，通过优化晶片舟片的晶片槽间距的间隔来增加一次加载的晶片数量。 构成：安装在低压化学气相沉积设备上的晶片舟（50）包括顶板，热室和多个支撑负载（​​53）。 顶板，热室和支撑负载（​​53）由石英材料制成。 顶板具有与晶片平面尺寸相同的圆形形状。 具有圆柱形状的热室以一定间隔形成在远离顶板的位置上。 支撑载荷（53）以半圆形形成在热室上。 在每个支撑负载（​​53）的内表面上形成有由两个晶片加载部件（53a，53b）组成的多个槽，以便安全地加载多个晶片。 晶片加载部件（53a，53b）具有晶片槽间距，通过该间隙确定装载在晶片舟皿上的晶片数量。 晶片槽间距由晶片加载部件（53a或53b）的厚度和两个晶片加载部件（53a，53b）之间的宽度决定。 当将厚度设置为1.36mm，宽度为2.2mm时，晶片槽间距变为3.56mm。

公开(公告)号：KR1020000021253A

公开(公告)日：2000-04-25

申请号：KR1019980040267

申请日：1998-09-28

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 조규철 ,  정동옥

IPC: H01L21/22

Abstract: PURPOSE: A quartz boat for loading a plurality of wafers is provided to prevent a deformation of the quartz boat during thermal treatments under high temperature by overlapped fixing slit bars and fixed bars. CONSTITUTION: A quartz boat(1) comprises a plurality of slit bars(2) horizontally arranged each other, a plurality of fixed bars(4) for fixing the slit bars(2) to be arranged circular shaped, and a cylindrical bar(5) formed at bottom of the fixing bars(4) and fixed to be horizontally with the slit bars(2). The plurality of slit bars(2) and the plurality of fixed bars(4) are fixed by overlapping each other.

Abstract translation: 目的：提供用于装载多个晶片的石英舟，以防止在高温下通过重叠的固定狭缝条和固定杆进行热处理期间石英舟的变形。 构造：石英舟（1）包括彼此水平布置的多个狭缝条（2），用于固定待圆形排列的狭缝条（2）的多个固定杆（4）和圆柱形杆（5） ）形成在固定杆（4）的底部并且与狭缝条（2）水平地固定。 多个狭缝条（2）和多个固定杆（4）通过彼此重叠而固定。

公开(公告)号：KR100234528B1

公开(公告)日：1999-12-15

申请号：KR1019960020095

申请日：1996-06-05

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 이승진 ,  정동옥 ,  정병효

IPC: H01L21/50

Abstract: 종형 확산로의 내부를 소정 조건을 갖는 상태를 유지하도록 하는 반도체 확산로 내부의 기밀 유지용 밀착부재에 관한 것이다.
본 발명은 확산로 내부의 온도 및 가스의 유출을 방지하도록 합성고무로 제작된 밀착부재에 있어서, 상기 합성고무는 실리콘고무계열의 하이-쿨(HI-COOL; -상표명-, 한국특수고무사 제품(製品))로 제작됨을 특징으로 한다.
따라서, 확산로 내부의 온도에 변경되지 않고, 장시간 사용할 수 있으며, 확산로 내부의 공정 조건을 균일하게 유지되는 효과가 있다.

公开(公告)号：KR2019980005331U

公开(公告)日：1998-03-30

申请号：KR2019960015571

申请日：1996-06-12

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 정동옥 ,  이승진

IPC: H01L21/22

Abstract: 확산(Diffusion) 공정을수행하기위한종형확산로에가스의투입및 배출시에가스의누출을방지하고, 용이하게연결설치할수 있도록하는반도체종형확산로의가스주입구와가스배출구의연결장치에관한것이다. 본고안은확산로의소장위치에관통하여돌출된관 형상의가스주입구와가스배출관은가스공급수단과가스배출수단에연결된공급관과배출관의일단부와각각연결되는반도체종형확산로의가스주입구및 가스배출구의연결장치에있어서, 상기가스주입구의일단부를상기공급관의내부에삽입밀착되도록직경이좁아지는테이퍼부와삽입부가형성됨을특징으로하고, 또상기가스배출구의일단부는밀착부를갖는삼각돌출된형상으로제작되고, 상기배출관의일단부를상기밀착부와부합되는형상의나팔관부로형성하여상호밀착설치됨을특징으로한다. 따라서, 가스주입구와가스배출구의연결부위의가스누출을방지하고, 깨진조각에의한웨이퍼에손산이없는효과가있다.

Abstract translation: 扩散涉及（扩散）防止在垂直扩散输入和气体的放电时气体的泄漏，用于执行该方法，并且容易半导体垂直扩散到所述气体入口和气体出口，其允许被安装在连接到所述连接装置的 。 本文所述突起的内部穿过所述扩散管状的气体入口和气体出口管的小肠位置具有气体入口和分别连接到连接到气体供给装置和气体出口装置的进料管和排放管的一端的半导体垂直扩散的气体出口 在连接装置，具有一个端部插入到设置在气体排出口的紧密接触的一个端部的供给管部的锥形部和插入直径变窄，其特征在于通过形成在气体喷射口，并且进一步部件的内部部分紧密接触的三角形状的凸形状 并且排出管的一个端部形成为具有与紧密接触部分一致的形状并且彼此紧密附接的管状部分。 因此，防止了气体入口和气体出口之间的连接部分处的气体泄漏，并且由于碎片而对晶片没有有害影响。

公开(公告)号：KR1019980005909A

公开(公告)日：1998-03-30

申请号：KR1019960020095

申请日：1996-06-05

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 이승진 ,  정동옥 ,  정병효

IPC: H01L21/50

公开(公告)号：KR100304258B1

公开(公告)日：2001-11-01

申请号：KR1019990036923

申请日：1999-09-01

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 정동옥

IPC: H01L21/68

Abstract: 본발명은웨이퍼가삽입되는웨이퍼슬롯의피치를감소시킴으로써한번에장착가능한웨이퍼의개수를크게증가시켜공정생산성을크게증가시킨웨이퍼보트에관한것으로, 본발명에의하면웨이퍼슬롯피치를갖는웨이퍼보트에는종래웨이퍼보트에적정웨이퍼를탑재하였을때에비하여약 60% 이상더 많은웨이퍼를탑재한상태에서공정이진행되기때문에설비가동효율이크게증가될뿐만아니라이로인하여반도체제품의생산기간도짧아진다.

公开(公告)号：KR2019990042055U

公开(公告)日：1999-12-27

申请号：KR2019980009155

申请日：1998-05-29

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 정동옥 ,  이수철

IPC: H01L21/22

Abstract: 본 고안은 프론트써모커플의 점검 및 교체를 용이하게 하는 뚜껑을 갖는 반도체 확산로의 패널에 관한 것이다.
본 고안에 따른 뚜껑을 갖는 반도체 확산로의 패널은, 반도체 확산로의 측면 패널에 프론트써모커플의 점검 및 교체가 용이하도록 관통창을 형성하고, 상기 관통창을 덮는 손잡이가 달린 패널 뚜껑을 설치하는 것을 특징으로 한다.
따라서, 설비의 생산성을 향상시키고, 좁은 공간에서도 점검 및 교체작업을 용이하게 하는 효과를 갖는다.

公开(公告)号：KR1019980085603A

公开(公告)日：1998-12-05

申请号：KR1019970021739

申请日：1997-05-29

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 정동옥

IPC: H01L21/68

Abstract: 본 발명은 웨이퍼 보트의 보트 바 구조에 관한 것으로, 본 발명에서는 보트 바에 소정의 보조 구조물을 장착하고 이를 통해 보트 바의 본래 형상이 견고히 유지되도록 함으로써, 보트 바가 열에 의해 휘어지는 것을 방지하고, 그 결과 웨이퍼의 수율 및 전체적인 제품의 생산성을 향상시킬 수 있다.