公开(公告)号：KR1020090063729A

公开(公告)日：2009-06-18

申请号：KR1020070131200

申请日：2007-12-14

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 박형근 ,  맹동조 ,  정헌주

IPC: H01L21/304 ,  H01L21/02 ,  H01L21/67

CPC classification number: H01L21/67051 ,  B05B17/06

Abstract: An apparatus for manufacturing a semiconductor device is provided to increase productivity of the semiconductor devices by cleaning and drying two semiconductor devices at the same time. An upper bowl(100a) and a lower bowl(100b) are symmetrically installed. A circular semiconductor substrate is positioned inside the upper and lower bowls. The inner space is formed by coupling the upper and lower bowls symmetrically. The upper and lower bowls prevent the dispersion of the solution from the upper semiconductor substrate due to the rotation of the semiconductor device. An exhaust line(104) is installed in the lower bowl for collecting the solution. The exhaust line(102) is formed in the upper bowl for discharging the gas. A slit(101) is formed in one side of the combining surface of the upper and lower bowls. A cleaning unit(200) enters the inside of the bowls through the slit.

Abstract translation: 提供一种用于制造半导体器件的装置，以通过同时清洁和干燥两个半导体器件来提高半导体器件的生产率。 上碗（100a）和下碗（100b）对称地安装。 圆形半导体衬底位于上碗和下碗内。 内部空间通过对称地连接上碗和下碗来形成。 上下碗由于半导体器件的旋转而防止溶液从上半导体衬底分散。 排气管（104）安装在下碗中以收集溶液。 排气管（102）形成在上碗中以排出气体。 在上碗和下碗的组合表面的一侧形成狭缝（101）。 清洁单元（200）通过狭缝进入碗的内部。

公开(公告)号：KR1020080065836A

公开(公告)日：2008-07-15

申请号：KR1020070002980

申请日：2007-01-10

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 박형근 ,  박찬식 ,  맹동조 ,  김한식 ,  정헌주

IPC: H01L21/304

Abstract: An apparatus for cleaning a substrate is provided to simultaneously supply chemicals and nitrogen gas to the surface of a substrate through a cleaning fluid supplying member by incorporating a cleaning fluid supplying member and an ultrasonic vibrator. A substrate is placed on a substrate support member(100) capable of rotating. A fluid supply member(200) supplies cleaning fluid to the surface of the substrate placed on the substrate support member. An ultrasonic vibrator(300) generates vibration in the fluid supply member to apply ultrasonic vibration to the cleaning fluid. A plurality of injection holes arranged as a lattice type are formed in the fluid supply member, injecting the cleaning fluid to the surface of the substrate.

Abstract translation: 提供一种清洗基板的装置，通过并入清洗液供给部件和超声波振子，通过清洗液供给部件同时向基板的表面供给化学物质和氮气。 将衬底放置在能够旋转的衬底支撑构件（100）上。 流体供给构件（200）将清洁流体供给到放置在基板支撑构件上的基板的表面。 超声波振动器（300）在流体供给构件中产生振动以对清洁流体施加超声波振动。 在流体供给部件中形成有排列成格子状的多个喷射孔，将清洗液喷射到基板的表面。

公开(公告)号：KR1020000013409A

公开(公告)日：2000-03-06

申请号：KR1019980032251

申请日：1998-08-07

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 황종섭 ,  정헌주

IPC: G08B9/20

Abstract: PURPOSE: An alarm device by washing liquor density is provided to constantly maintain a washing liquor density and reduce a loss of work time using readjustment of washing liquor density. CONSTITUTION: The alarm device by washing liquor density comprises a density detector, a controller, and an alarm generator. In the alarm device by washing liquor density, the density detector is installed in a circulation line of washing liquor detects a washing liquor density. The controller determines a normal state for washing liquor density by a sensing signal from the density detector, and decides an output of alarm by the result of decision. The alarm generator outputs an alarm signal by the controller. The density detector is placed on circulation line which supplies the washing liquor to a bath. The density detector is placed on a rear part of filter, so the density detector detects a filtered washing liquor.

Abstract translation: 目的：提供清洗液密度的报警装置，以不断保持洗涤液密度，并通过调节洗涤液密度减少工作时间的损失。 构成：通过清洗液体浓度的报警装置包括浓度检测器，控制器和报警发生器。 在报警装置中通过洗涤液密度，将密度检测器安装在洗涤液的循环管线中，检测洗涤液密度。 控制器通过来自密度检测器的感测信号确定洗涤液浓度的正常状态，并通过判定结果来决定报警输出。 报警发生器通过控制器输出报警信号。 将密度检测器放置在将洗涤液供应到浴槽的循环管线上。 密度检测器放置在过滤器的后部，因此密度检测器检测过滤的洗涤液。

公开(公告)号：KR1020040050953A

公开(公告)日：2004-06-18

申请号：KR1020020078753

申请日：2002-12-11

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 이덕열 ,  이기준 ,  정헌주

IPC: H01L21/3063

Abstract: PURPOSE: A wafer wet etching apparatus loaded with a deionized water alarm system is provided to be capable of minimizing the generation of failure at a wafer. CONSTITUTION: A wafer wet etching apparatus is provided with a flow meter(109) for indicating the flow rate of deionized water by using an indicator(207) and an indicating window(206), and a deionized water alarm system. At this time, the deionized water alarm system includes a pair of light emitting and receiving sensor(202) opposite to each other and an alarm(205) electrically connected with the light receiving sensor.

Abstract translation: 目的：提供装载有去离子水报警系统的晶片湿蚀刻装置，以便能够最小化晶片故障的产生。 构成：晶片湿蚀刻装置设有用于通过使用指示器（207）和指示窗（206）指示去离子水的流量的流量计（109）和去离子水报警系统。 此时，去离子水警报系统包括彼此相对的一对发光和接收传感器（202）和与光接收传感器电连接的报警器（205）。

公开(公告)号：KR100212694B1

公开(公告)日：1999-08-02

申请号：KR1019960038530

申请日：1996-09-05

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 정헌주 ,  황종섭

IPC: H01L21/304

Abstract: 본 발명은 세정 장치의 배스 커버에 관한 것으로 웨이퍼 세정 후 웨이퍼에 잔존해 있는 약액으로 인해 세정 배스 주변 및 배스 커버가 오염되는 것을 방지하기 위해서 배스 커버 상부면에 순수를 분사하는 배관을 설치하고 배과에 분사 노즐을 형성하여 약액 교환 시간이나 공정이 진행되지 않는 시간에 순수를 분사하여 배스 커버를 세척함으로 노동력 절감 및 웨이퍼가 미세 분진으로 인해 오염되는 것을 방지할 수 있다.

公开(公告)号：KR1019980020496A

公开(公告)日：1998-06-25

申请号：KR1019960038988

申请日：1996-09-09

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 황종섭 ,  정헌주

IPC: H01L21/304

Abstract: 본 발명은 웨이퍼 세정방법에 관한 것으로서, 더 상세하게는 웨이퍼 세정시에 웨이퍼의 세정정도를 확인할 수 있도록 세정액의 비저항값을 측정하여 제공하는 비저항계의 고장 유무를 감지하여 웨이퍼 세정의 신뢰성을 향상시킬 있도록 한 웨이퍼 세정방법에 관한 것이다. 이를 위한 본 발명은, 세정액의 비저항값을 측정하는 비저항계의 측정값에 의해 웨이퍼 세정정도를 판별하는 웨이퍼 세정방법에 있어서, 웨이퍼를 투입하고 웨이퍼 세정을 진행하는 제1 단계; 상기 웨이퍼 세정중에 상기 비저항계를 통해 상기 세정액의 비저항값을 측정하고 상기 세정액의 비저항값과 소정의 제1 설정값과 비교하는 제2 단계; 상기 세정액의 비저항값이 상기 제1 설정값 이상이면 세정을 종료하고 웨이퍼를 배출하는 제3 단계; 상기 제3 단계 후 세정액의 공급을 중단하고, 이 상태에서 소정시간동안 시간을 지연시키는 제4 단계; 소정 시간지연 후 상기 세정액의 비저항값을 측정하여 이를 소정의 제2 설정값과 비교하는 제5 단계; 상기 제5 단계에서 세정액의 비저항값이 제2 설정값 이상이면 상기 비저항계에 이상이 있음을 경보하고, 상기 세정액의 비저항값이 상기 제2 설정값 이하이면 후속의 웨이퍼 세정공정을 진행하는 제6 단계;를 포함하여 된 것을 특징으로 한다. 이로써, 본 발명은 웨이퍼 세정의 신뢰성을 향상시키는 이점을 제공한다.

公开(公告)号：KR2019970059838U

公开(公告)日：1997-11-10

申请号：KR2019960008489

申请日：1996-04-18

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 정헌주

IPC: H01L21/304

公开(公告)号：KR1020050118433A

公开(公告)日：2005-12-19

申请号：KR1020040043558

申请日：2004-06-14

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 정헌주

IPC: H01L21/304

CPC classification number: H01L21/67057 ,  G03F7/70608 ,  H01L21/67086

Abstract: 포토레지스트의 잔존 유무를 감지할 수 있는 반도체 웨이퍼 세정장치가 제공된다. 반도체 웨이퍼 세정 장치는 웨이퍼 세정시 웨이퍼가 로딩되며 웨이퍼가 수용되는 내조와 내조로부터 오버플로우되는 세정액을 수용하는 외조, 외조의 세정액을 내조로 순환시키는 순환관,순환관 상에 설치되어 상기 순환관을 통하여 내조로 재공급되는 세정액 내 포토레지스트의 유무를 감지하는 센서 및 센서의 감지 신호에 따라 세정액의 순환을 제어하는 제어부를 포함한다.

公开(公告)号：KR200153935Y1

公开(公告)日：1999-08-02

申请号：KR2019960008489

申请日：1996-04-18

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 정헌주

IPC: H01L21/304

Abstract: 본 고안은 반도체 제조 공정에 사용된 폐화학 용액의 냉각 배출 장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 반도체 세척 장치 등의 고온의 화학 용액이 포함된 배쓰(bath)로부터 배출되는 고온의 폐화학 용액을 냉각수의 압력을 이용한 흡출(aspiration)방식으로 드레인 박스에 모은 후 폐화학 용액을 1차 냉각하여 배출하는 장치에 있어서, 드레인 박스 내부에 냉각수 배관을 설치하여 높은 온도를 유지하고 있는 드레인 박스 내부의 폐화학 용액을 2차 냉각시킬 수 있는 반도체 제조 공정에 사용된 폐화학 용액의 냉각 배출 장치에 관한 것이다.

公开(公告)号：KR100190287B1

公开(公告)日：1999-06-01

申请号：KR1019960038988

申请日：1996-09-09

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 황종섭 ,  정헌주

IPC: H01L21/304

Abstract: 본 발명은 웨이퍼 세정방법에 관한 것으로서, 더 상세하게는 웨이퍼 세정시에 웨이퍼의 세정정도를 확인할 수 있도록 세정액의 비저항값을 측정하여 제공하는 비저항계의 고장 유무를 감지하여 웨이퍼 세정의 신뢰성을 향상시킬 있도록 한 웨이퍼 세정방법에 관한 것이다. 이를 위한 본 발명은, 세정액의 비저항값을 측정하는 비저항계의 측정값에 의해 웨이퍼 세정정도를 판별하는 웨이퍼 세정방법에 있어서, 웨이퍼를 투입하고 웨이퍼 세정을 진행하는 제1 단계; 상기 웨이퍼 세정중에 상기 비저항계를 통해 상기 세정액의 비저항값을 측정하고 상기 세정액의 비저항값과 소정의 제1 설정값과 비교하는 제2 단계; 상기 세정액의 비저항값이 상기 제1 설정값 이상이면 세정을 종료하고 웨이퍼를 배출하는 제3 단계; 상기 제3 단계 후 세정액의 공급을 중단하고, 이 상태에서 소정시간동안 시간을 지연시키는 제4 단계; 소정 시간지연 후 상기 세정액의 비저항값을 측정하여 이를 소정의 제2 설정값과 비교하는 제5 단계; 상기 제5 단계에서 세정액의 비저항값이 제2 설정값 이상이면 상기 비저항계에 이상이 있음을 경보하고, 상기 세정액의 비저항값이 상기 제2 설정값 이하이면 후속의 웨이퍼 세정공정을 진행하는 제6 단계;를 포함하여 된 것을 특징으로 한다. 이로써, 본 발명은 웨이퍼 세정의 신뢰성을 향상시키는 이점을 제공한다.