-
公开(公告)号：KR1019930003789A
公开(公告)日：1993-02-24
申请号：KR1019910011547
申请日：1991-07-08
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/302
Abstract: 내용 없음.
-
-
-
公开(公告)号：KR1019940007684A
公开(公告)日：1994-04-27
申请号：KR1019920017923
申请日：1992-09-30
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: G06F12/08
Abstract: 본 발명은 보다 작은 물리적 크기를 가진 태그메모리를 포함하는 캐시메모리 시스템 및 그를 포함하는 컴퓨터시스템에 관한 것으로, 캐시메모리 시스템은 다수의 데이타를 포함하는 메인 메모리(11), 상기 메인 메모리(10)에 연결되어 있으며, 상기 데이타의 부분 집합으로 하나 또는 2이상의 데이타워드 블럭을 가진 캐시 메모리(12)와, 상기 각 데이타워드 블럭이 상기 메인 메모리(10)내의 어떤 데이타워드 블럭의 카피인가를 식벽하는데 이용되며, 상기 각 데이타워드 블럭에 관련되는 어드레스 태그를 가진 캐시 메모리(13)를 포함하며, 어드레스태그는 상위 어드레스 태그 및 하위 어드레스 태그를 포함하고, 여기서, 상기 상위 어드레스 태그느 기설정된 수의 상기 하위 어드레스 태그와의 계층적으로 관련된다.
따라서, 본 발명에 의해 메모리 시스템의 빠른 평균 억세스 속도를 유지하면서도, 태그메모리(13)의 물리적 크기가 크게 줄어들 수 있으며, 그러한 크기로 인해, 캐시제어기(14)와 동일 칩상에 쉽게 집적될 수 있다.-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR1019930003395A
公开(公告)日：1993-02-24
申请号：KR1019910012552
申请日：1991-07-22
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L27/108
Abstract: 내용 없음.
-
-
公开(公告)号：KR1019950000858B1
公开(公告)日：1995-02-02
申请号：KR1019910011547
申请日：1991-07-08
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/302
Abstract: The ECR generator increases the inner uniformity of plasma by spontaneously controlling distributions of plasma using multiple solenoids which produce magnetic fields by supplying different power for each conductor wire. The generator consists of multiple solenoids (1) with windings of conductor wires, a D.C circuit (8) supplying currents for each coil of poly-solenoids, and a controller or a computer (9) controlling variable currents. It overcomes a limit from a shape and makes uniform semiconductor etching and deposition by minimizing a high-frequency bias voltage.
Abstract translation: ECR发生器通过使用多个螺线管自发地控制等离子体的分布来提高等离子体的内部均匀性，这些螺线管通过为每个导线提供不同的功率来产生磁场。 发电机由具有导线绕组的多个螺线管（1），为多个螺线管的每个线圈提供电流的直流电路（8）以及控制可变电流的控制器或计算机（9）组成。 它克服了一种形状的限制，并通过最小化高频偏置电压来进行均匀的半导体蚀刻和沉积。
-
公开(公告)号：KR1019930016831A
公开(公告)日：1993-08-30
申请号：KR1019920000807
申请日：1992-01-21
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: G03F7/26
Abstract: 본 발명은 에너지빔에 대한 노출지역과 이를 둘러싼 비노출지역으로 형성된 패턴에 대한 에너지빔 노광방법에 있어서, 1회의 에너지빔 조사로써 패턴형성이 가능한 필드를 기판상에 구분하고, 큰 패턴은 작은 기본 패턴의 조합으로 이루어지도록 구분하여 작은 기본패턴을 노광시켜 큰 패턴을 형성시키고, 기판상에 형성된 필드에 순차적으로 에너지빔을 조사하는 것을 특징으로 하는 에너지빔의 노광방법에 관한 것이다. 상기 방법은 선행노광된 필드에 오버랩하도록 필드를 구분하여 노광을 실시하는 것이 바람직하다. 본 발명의 방법을 반도체기판상에 형성된 레지스트필드에 전자선을 이용하여 노광하는 경우에 쓰루푸트를 형상시키고, 버팅에러를 감소시킬 수 있다.
-
公开(公告)号：KR1019940011203B1
公开(公告)日：1994-11-26
申请号：KR1019920000807
申请日：1992-01-21
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: G03F7/26
Abstract: The method improves throughput and reduces butting error by controlling overlap distance in the range of width of the unit pattern size. The method comprises (A) defining a field (11) on the substrate; (B) partitioning patterns as small rectangular unit pattern and exposing the small unit pattern overlappingly; (C) radiating electron beams into the field in sequence and forming the whole pattern in field.
Abstract translation: 该方法通过控制单位图案尺寸的宽度范围内的重叠距离来提高生产量并减少对接误差。 该方法包括（A）在衬底上限定场（11）; （B）分割图案为小矩形单元图案并且重叠地暴露小单元图案; （C）依次将电子束辐射到场中，并在场中形成整个图案。
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
9
records
(took 0.016 seconds)
