公开(公告)号：KR1020060018612A

公开(公告)日：2006-03-02

申请号：KR1020040067083

申请日：2004-08-25

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 홍석종

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/681 ,  G03F7/70875 ,  H01L21/67248

Abstract: 온도 센서를 장착한 미러 유닛을 구비한 웨이퍼 얼라인먼트 장치를 개시한다. 광학계를 통하여 웨이퍼를 얼라인먼트 하는 본 발명에 의한 웨이퍼 얼라인먼트 장치는 웨이퍼가 놓이는 웨이퍼 스테이지와 상기 웨이퍼 스테이지의 각 축에 장착되어 레이저빔을 반사시키는 미러 유닛과 상기 미러 유닛에 미러 유닛의 온도를 측정하는 온도 센서를 포함하여 구성됨을 특징으로 한다. 따라서 작업자가 미러 유닛의 온도를 관측하여 미러 플랫니스(mirror flatness)계측 및 보정을 진행하게 되고, 그에 따라 웨이퍼를 얼라인먼트 함으로써 웨이퍼의 위치를 정확하게 계측하게 되고 정확한 얼라인먼트를 할 수 있게된다.

웨이퍼 얼라인먼트, 미러 유닛, 온도 센서

公开(公告)号：KR1020070036464A

公开(公告)日：2007-04-03

申请号：KR1020050091500

申请日：2005-09-29

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 이규명 ,  홍석종

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/67109 ,  G03F7/70991 ,  H01L21/67051 ,  G03F7/162 ,  B05C11/10 ,  B05D1/005 ,  H01L21/6715

Abstract: 냉각유닛 및 이를 이용한 웨이퍼의 냉각 및 도포방법을 제공한다. 제공된 냉각유닛은 웨이퍼를 흡착 고정하는 스핀척과, 스핀척의 하부에 구비되어 스핀척을 고속으로 회전시키는 스핀모터로 이루어지는 스핀척모듈과, 스핀척에 흡착 고정되고 스핀모터의 작동으로 고속으로 회전되는 웨이퍼 상에 씨너를 분사하여 웨이퍼를 소정 온도로 냉각시키는 씨너분사모듈과, 웨이퍼의 온도에 따라 웨이퍼의 냉각을 제어하는 냉각제어모듈을 구비한다. 따라서, 제공된 냉각유닛에 의하면 스핀척 상에서 웨이퍼를 냉각하는 것과, 냉각된 웨이퍼에 포토레지스트막을 도포하는 것을 처리할 수 있어 웨이퍼의 각 유닛간 이송시간을 줄일 수 있다.

公开(公告)号：KR100521314B1

公开(公告)日：2005-12-30

申请号：KR1019970052400

申请日：1997-10-13

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 박순종 ,  홍석종

IPC: H01L21/68

Abstract: 본 발명은 반도체장치 제조공정이 진행되는 공정설비간 웨이퍼의 이동시 사용되는 캐리어 및 캐리어 박스로 이루어지는 반도체장치 제조용 웨이퍼 이송기구에 관한 것이다.
본 발명은, 캐리어 및 캐리어 박스로 이루어지는 반도체장치 제조용 웨이퍼 이송기구에 있어서, 상기 이송기구의 외측에 표식수단이 구비됨을 특징으로 한다.
따라서, 반도체 공정설비에 설치된 복수의 캐리어 및 캐리어 박스를 빠짐없이 정기적으로 세정함으로서 세정불량에 따른 문제점이 발생하는 것을 미연에 방지할 수 있는 효과가 있다.

公开(公告)号：KR1020000025064A

公开(公告)日：2000-05-06

申请号：KR1019980041984

申请日：1998-10-08

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 홍석종

IPC: H01L21/027

Abstract: PURPOSE: A method for fabricating a thin film of a wafer obtains a pattern profile of photoresist pre-baked, and enhances a line width uniformity. CONSTITUTION: A method for fabricating a thin film of a wafer deposits a photoresist on a wafer, volatiles a solvent component, performs alignment and a light-exposing process, performs a developing process, performs a hard-baking process, and makes a thin film pattern on a wafer. After the light-exposing process(30), the method illuminates a ultra violet rays on the photoresist, and performs a hardening process(50) by a diffusion, so that a fine pattern fabrication becomes possible. Thereby, the method obtains a pattern profile of photoresist pre-baked, and enhances a line width uniformity, enhances a resolution, ensures a focus depth, and achieves easy fine pattern fabrication.

Abstract translation: 目的：制造晶片薄膜的方法获得预烘烤的光致抗蚀剂的图案轮廓，并提高线宽均匀性。 构成：用于制造晶片薄膜的方法在晶片上沉积光致抗蚀剂，挥发溶剂组分，进行取向和曝光过程，进行显影处理，进行硬烘烤处理，并制成薄膜 图案在晶圆上。 在曝光处理（30）之后，该方法照射光致抗蚀剂上的紫外线，并通过扩散进行硬化处理（50），从而可以进行精细图案制作。 由此，该方法获得预烘烤的光致抗蚀剂的图案轮廓，并提高线宽均匀性，提高分辨率，确保聚焦深度，并且实现容易的精细图案制造。

公开(公告)号：KR1019990031617A

公开(公告)日：1999-05-06

申请号：KR1019970052400

申请日：1997-10-13

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 박순종 ,  홍석종

IPC: H01L21/68

Abstract: 본 발명은 반도체장치 제조공정이 진행되는 공정설비간 웨이퍼의 이동시 사용되는 캐리어 및 캐리어 박스로 이루어지는 반도체장치 제조용 웨이퍼 이송기구에 관한 것이다.
본 발명은, 캐리어 및 캐리어 박스로 이루어지는 반도체장치 제조용 웨이퍼 이송기구에 있어서, 상기 이송기구의 외측에 표식수단이 구비됨을 특징으로 한다.
따라서, 반도체 공정설비에 설치된 복수의 캐리어 및 캐리어 박스를 빠짐없이 정기적으로 세정함으로서 세정불량에 따른 문제점이 발생하는 것을 미연에 방지할 수 있는 효과가 있다.

公开(公告)号：KR1019990015286A

公开(公告)日：1999-03-05

申请号：KR1019970037276

申请日：1997-08-04

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 홍석종

IPC: G02B27/01

Abstract: 본 발명은 리모콘을 설치하여 원격조정을 가능하게 하는 무선조정 오버헤드프로젝터에 관한 것이다.
본 발명에 따른 무선조정 오버헤드프로젝터는, 광원을 내장하는 본체와, 상기 본체의 상면에 설치되고, 투명필름이 올려져서 투명필름에 현상된 영상이 상기 광원에 의해 투영되도록 하는 광원판과, 상기 광원판에서 투영된 상기 영상을 굴절시키는 렌즈부와, 상기 렌즈부를 통과한 영상을 원하는 방향으로 반사시키는 반사거울과, 상기 렌즈부를 승하강시켜 상기 렌즈부에서 굴절된 영상의 초점을 맞추는 승하강대와, 상기 승하강대의 승하강움직임을 안내하는 가이드바와, 상기 본체에 설치되어 상기 승하강대, 상기 광원, 및 전원을 전기적으로 제어하는 콘트롤부 및 원격조정이 가능하도록 상기 콘트롤부에 무선신호를 송신하는 리모콘을 구비하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.
따라서 리모콘을 설치하여 원격조정을 가능하게 하고, 기능을 전자화하여 조정이 편리하며, 내구성을 증대시키게 하는 효과를 갖는다.

公开(公告)号：KR1019980066026A

公开(公告)日：1998-10-15

申请号：KR1019970001328

申请日：1997-01-17

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 최덕규 ,  한승교 ,  홍석종

IPC: G06T1/00

Abstract: 본 발명은 용기에 바코드를 부착시켜서 이를 광학적으로 인식함으로써 케미컬을 수용한 용기의 교체가 정확한 지 확인하는 반도체 제조용 케미컬 공급 장치, 그리고 이에 적용되는 케미컬과 그의 수용용기 관리 방법 및 케미컬인 포토레지스트, 제조회사 및 교체현황 등과 같은 데이터를 데이터베이스에 저장한 후 통합적인 관리 기능을 수행하는 컴퓨터를 이용한 포토레지스트 및 그에 연관된 데이터 관리 방법에 관한 것으로서, 용기의 바코드를 광학적으로 스캐닝하여 교체되는 용기가 올바른 것인지 판단하도록 구성되어 있으며, 데이터베이스부에 저장되는 데이터를 효율적으로 관리하기 위한 다양한 모드를 지원하도록 구성되어 있다.
따라서, 케미컬 교체 에러로 인한 공정불량의 발생이 방지되어 생산성 및 수율이 극대화되고, 포토레지스트와 같은 케미컬의 교체관리가 자동으로 이루어지므로 작업성이 향상되며, 시스템의 다기능화 및 데이터의 통합관리 및 통계적관리가 수행되는 효과가 있다.

公开(公告)号：KR1019970051888A

公开(公告)日：1997-07-29

申请号：KR1019950056414

申请日：1995-12-26

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 이광성 ,  윤종순 ,  박영호 ,  홍석종

IPC: H01L21/027

Abstract: 본 발명은 반도체소자의 제조공정중 사진공정에 사용되는 스텝퍼 장치에 관한 것으로 특히 스테퍼의 웨이퍼 스테이지에서 웨이퍼를 재 정렬하기 위한 웨이퍼 정렬시스템에 대한 것이다.
종래의 웨이퍼 정렬부는 웨이퍼의 위치 정렬이후 웨이퍼를 슬라이드 이동시켜 웨이퍼 스테이지에 장착하는 과정에서 포지션(Position)의 재현성이 떨어져 스텝퍼의 동작시 공정진행중 에러를 유발하는 문제점이 있었다.
본 발명은 상술한 문제점들을 극복하기 위한 것으로 웨이퍼 스테이지부에 이송된 웨이퍼를 재정렬하여 주는 웨이퍼의 플렛 존의 위치에 접하는 두 개의 가이드 롤러를 구비한 제1 정렬블록과, 웨이퍼의 원주상의 일측에 접하도록 위한 제2 가이드 롤러를 구비한 제2 정렬블록과, 상기 제2 정렬블록의 타측에 위치하여 웨이퍼의 외경을 일정한 힘으로 밀어 상기 제1 및 제2 롤러에 밀착되도록 동작하는 구동부를 구성된 재정렬수단을 통하여 웨이퍼의 정렬오차를 보정하여 줌으로서 스텝퍼의 동작에 의한 공정결함을 예방하도록 한 것이다.

公开(公告)号：KR1020020037858A

公开(公告)日：2002-05-23

申请号：KR1020000067781

申请日：2000-11-15

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 신원열 ,  홍석종

IPC: H01L21/304

Abstract: PURPOSE: Equipment for applying photoresist liquid is provided to improve adaptability to various processes, by arbitrarily controlling a spray angle of a spray nozzle installed in a supporting member in cleaning the back surface of a wafer. CONSTITUTION: The wafer is loaded to a spin chuck. A cleaning unit(120) sprays cleaning liquid to the back surface of the wafer, facing the back surface of the wafer loaded to the spin chuck. The cleaning unit has at least one spray nozzle capable of controlling the spray angle.

Abstract translation: 目的：提供用于施加光致抗蚀剂液体的设备，以通过在清洁晶片的背面中任意地控制安装在支撑构件中的喷嘴的喷雾角度来改善对各种工艺的适应性。 构成：将晶片装载到旋转卡盘。 清洁单元（120）将清洁液喷射到晶片的背面，面向装载到旋转卡盘的晶片的后表面。 清洁单元具有能够控制喷雾角度的至少一个喷嘴。

公开(公告)号：KR1020000009480A

公开(公告)日：2000-02-15

申请号：KR1019980029931

申请日：1998-07-24

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 홍석종

IPC: H01L21/66

Abstract: PURPOSE: An inspection apparatus(14) improves the productivity of a semiconductor device fabrication by minimizing the generation of inferior products by judging whether the interval of carrier slots(12) is maintained precisely. CONSTITUTION: The apparatus comprises: an insertion part(16) which can be inserted between plural slots to check whether the interval between slots which are comprised in a carrier(10) capable of loading many wafers; and a supporting part(18) which can be in a body with the insertion part. The insertion part improves the accuracy during the inspection. The insertion part and the supporting part are made of a stainless steel.

Abstract translation: 目的：检查装置（14）通过判断载体槽（12）的间隔是否被精确地维持来最小化劣质产物的产生，来提高半导体器件制造的生产率。 构成：该装置包括：可插入多个槽之间的插入部分（16），以检查能够装载许多晶片的载体（10）中包含的槽之间的间隔; 以及可以与插入部分在主体中的支撑部分（18）。 插入部分提高了检查期间的准确性。 插入部和支撑部由不锈钢制成。