公开(公告)号：KR102227127B1

公开(公告)日：2021-03-12

申请号：KR1020140016158A

申请日：2014-02-12

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 이현종 ,  박철홍 ,  최루리 ,  허덕형

IPC: G06F30/00

CPC classification number: G03F1/36 ,  G03F1/70 ,  G06F30/398 ,  H01L21/027

Abstract: 리소그래피 시뮬레이션을 이용한 디자인룰 생성 장치 및 방법이 제공된다. 상기 디자인룰 생성 방법은 테스트 패턴을 입력받고, 상기 테스트 패턴에 대응되고, 리소그래피 모델 및 마스크 생성 방법과 관련되어 기설정된 다수의 워크 플로우(work flow)를 제공하고, 상기 다수의 하나의 워크 플로우 중 선택된 워크 플로우를 따라 상기 테스트 패턴에 대한 시뮬레이션(simulation)을 수행하는 것을 포함한다.

公开(公告)号：KR102227127B1

公开(公告)日：2021-03-12

申请号：KR1020140016158

申请日：2014-02-12

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 이현종 ,  박철홍 ,  최루리 ,  허덕형

IPC: G06F30/00

Abstract: 리소그래피시뮬레이션을이용한디자인룰생성장치및 방법이제공된다. 상기디자인룰생성방법은테스트패턴을입력받고, 상기테스트패턴에대응되고, 리소그래피모델및 마스크생성방법과관련되어기설정된다수의워크플로우(work flow)를제공하고, 상기다수의하나의워크플로우중 선택된워크플로우를따라상기테스트패턴에대한시뮬레이션(simulation)을수행하는것을포함한다.

公开(公告)号：KR1020150095079A

公开(公告)日：2015-08-20

申请号：KR1020140016158

申请日：2014-02-12

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 이현종 ,  박철홍 ,  최루리 ,  허덕형

IPC: G06F17/50

CPC classification number: G06F17/5081 ,  G03F1/36 ,  G03F1/70 ,  H01L21/027

Abstract: 리소그래피 시뮬레이션을 이용한 디자인룰 생성 장치 및 방법이 제공된다. 상기 디자인룰 생성 방법은 테스트 패턴을 입력받고, 상기 테스트 패턴에 대응되고, 리소그래피 모델 및 마스크 생성 방법과 관련되어 기설정된 다수의 워크 플로우(work flow)를 제공하고, 상기 다수의 하나의 워크 플로우 중 선택된 워크 플로우를 따라 상기 테스트 패턴에 대한 시뮬레이션(simulation)을 수행하는 것을 포함한다.

Abstract translation: 提供了使用光刻模拟的设计规则生成装置和方法。 设计规则生成方法包括以下步骤：接收测试图案; 提供对应于测试图案的多个工作流程，并且关于用于生成掩模和光刻模型的方法预先设置的工作流程; 并根据工作流程中选择的工作流程模拟测试模式。