公开(公告)号：KR102227127B1

公开(公告)日：2021-03-12

申请号：KR1020140016158A

申请日：2014-02-12

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 이현종 ,  박철홍 ,  최루리 ,  허덕형

IPC: G06F30/00

CPC classification number: G03F1/36 ,  G03F1/70 ,  G06F30/398 ,  H01L21/027

Abstract: 리소그래피 시뮬레이션을 이용한 디자인룰 생성 장치 및 방법이 제공된다. 상기 디자인룰 생성 방법은 테스트 패턴을 입력받고, 상기 테스트 패턴에 대응되고, 리소그래피 모델 및 마스크 생성 방법과 관련되어 기설정된 다수의 워크 플로우(work flow)를 제공하고, 상기 다수의 하나의 워크 플로우 중 선택된 워크 플로우를 따라 상기 테스트 패턴에 대한 시뮬레이션(simulation)을 수행하는 것을 포함한다.

公开(公告)号：KR102227127B1

公开(公告)日：2021-03-12

申请号：KR1020140016158

申请日：2014-02-12

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 이현종 ,  박철홍 ,  최루리 ,  허덕형

IPC: G06F30/00

Abstract: 리소그래피시뮬레이션을이용한디자인룰생성장치및 방법이제공된다. 상기디자인룰생성방법은테스트패턴을입력받고, 상기테스트패턴에대응되고, 리소그래피모델및 마스크생성방법과관련되어기설정된다수의워크플로우(work flow)를제공하고, 상기다수의하나의워크플로우중 선택된워크플로우를따라상기테스트패턴에대한시뮬레이션(simulation)을수행하는것을포함한다.

公开(公告)号：KR1020150095079A

公开(公告)日：2015-08-20

申请号：KR1020140016158

申请日：2014-02-12

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 이현종 ,  박철홍 ,  최루리 ,  허덕형

IPC: G06F17/50

CPC classification number: G06F17/5081 ,  G03F1/36 ,  G03F1/70 ,  H01L21/027

Abstract: 리소그래피 시뮬레이션을 이용한 디자인룰 생성 장치 및 방법이 제공된다. 상기 디자인룰 생성 방법은 테스트 패턴을 입력받고, 상기 테스트 패턴에 대응되고, 리소그래피 모델 및 마스크 생성 방법과 관련되어 기설정된 다수의 워크 플로우(work flow)를 제공하고, 상기 다수의 하나의 워크 플로우 중 선택된 워크 플로우를 따라 상기 테스트 패턴에 대한 시뮬레이션(simulation)을 수행하는 것을 포함한다.

Abstract translation: 提供了使用光刻模拟的设计规则生成装置和方法。 设计规则生成方法包括以下步骤：接收测试图案; 提供对应于测试图案的多个工作流程，并且关于用于生成掩模和光刻模型的方法预先设置的工作流程; 并根据工作流程中选择的工作流程模拟测试模式。

公开(公告)号：KR1020080036847A

公开(公告)日：2008-04-29

申请号：KR1020060103631

申请日：2006-10-24

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김동현 ,  홍지석 ,  박동석 ,  박태훈 ,  허덕형 ,  박용희 ,  제아영

IPC: H01L21/027

CPC classification number: G03F7/701 ,  G03F7/70533 ,  G03F7/70891

Abstract: An exposure apparatus and an exposure method using the same are provided to prevent the degradation of a lens included in an optical system by rotating the optical system for uniformly distributing heat of the lens. Reference data with respect to an exposure pattern is set to a controller(160). A pattern on a reticle is projected onto a wafer by an optical system(180). Measured data of a circuit pattern formed on the wafer is compared with the reference data(210). A revolution speed of the optical system is controlled through a driving unit connected to the controller(220,230). After the measured data of the circuit pattern is compared with the reference data, the revolution speed of the optical system is constantly maintained in case the measured data is included in the range of the reference data. The driving unit is provided with a first gear train. The first gear train is engaged with a second gear train formed on a circumference of the optical system.

Abstract translation: 提供曝光装置和使用其的曝光方法，以通过旋转用于均匀分布透镜的热量的光学系统来防止包括在光学系统中的透镜的劣化。 相对于曝光图案的参考数据被设置到控制器（160）。 通过光学系统（180）将掩模版上的图案投影到晶片上。 将形成在晶片上的电路图案的测量数据与参考数据（210）进行比较。 通过连接到控制器（220,230）的驱动单元来控制光学系统的转速。 在将电路图案的测量数据与参考数据进行比较之后，如果将测量数据包括在参考数据的范围内，则恒定地维持光学系统的转速。 驱动单元设置有第一齿轮系。 第一齿轮系与形成在光学系统的圆周上的第二齿轮系啮合。