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公开(公告)号：KR101465155B1
公开(公告)日：2014-11-26
申请号：KR1020070126643
申请日：2007-12-07
Applicant: 삼성전자주식회사 , 재단법인서울대학교산학협력재단
CPC classification number: G03G15/348 , G03G2217/0075
Abstract: 제조공정을 간소화하여 원가를 절감하고 생산성을 향상 시킬 수 있는 이미지형성체 제조방법을 개시한다. 개시된 본 발명은 이미지드럼을 제공하는 단계; 이미지드럼의 외주면에 임프린팅 공정을 이용하여 다수의 링전극용 도전성 잉크를 전사하는 단계; 이미지드럼의 외주면에 전사된 도전성 잉크를 경화하여 링전극을 형성하는 단계; 및 링전극이 형성된 이미지드럼의 외주면에 외곽절연층을 형성하는 단계;를 포함한다. 상기 임프린팅 공정은 다수의 링전극 피치와 대응되는 피치의 양각패턴이 형성된 원통몰드를 제공하는 단계; 원통몰드의 양각패턴에 도전성 잉크를 코팅하는 단계; 및 원통몰드와 이미지드럼을 평행하도록 근접시켜 상대 회전시키는 단계;를 포함할 수 있다.
다이렉트 프린팅, 이미지형성체, 이미지드럼, 링전극, 도전성, 잉크, 프린팅-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR1020090059666A
公开(公告)日：2009-06-11
申请号：KR1020070126643
申请日：2007-12-07
Applicant: 삼성전자주식회사 , 재단법인서울대학교산학협력재단
CPC classification number: G03G15/348 , G03G2217/0075
Abstract: A method for manufacturing an image forming body by using an imprinting process, the image forming body made by the method and an imprinting system are provided to simplify the manufacturing process by forming a plurality of ring electrodes. A method for manufacturing an image forming body by using an imprinting process comprises the following steps of: providing an image drum(120); transferring the conductive ink for plural ring electrodes on the outer circumference of the image drum by using the imprinting process; forming the ring electrodes by hardening the conductive ink; and forming an outer insulating layer on the outer circumference of the image drum.
Abstract translation: 通过使用压印工艺制造图像形成体的方法，提供由该方法制成的图像形成体和压印系统，以通过形成多个环形电极来简化制造过程。 一种通过使用压印方法制造图像形成体的方法包括以下步骤：提供图像鼓（120）; 通过使用压印处理在图像鼓的外圆周上传送多个环形电极的导电油墨; 通过硬化导电油墨形成环形电极; 以及在图像鼓的外圆周上形成外绝缘层。
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公开(公告)号：KR100969551B1
公开(公告)日：2010-07-12
申请号：KR1020087021065
申请日：2006-01-31
Applicant: 재단법인서울대학교산학협력재단
IPC: H01L21/027 , B82Y40/00
CPC classification number: B81C1/00071 , B01L3/5027 , B81B2201/058
Abstract: 간단한 공정을 통하여 마이크로 사이즈뿐만 아니라 나노 사이즈의 채널 및 구조물을 용이하게 형성할 수 있는 마이크로/나노 채널의 형성방법과 마이크로/나노 구조물의 형성방법이 개시되어 있다. 이를 위하여 제1 기판 상에 UV 경화성 고분자 패턴을 형성하고, UV 경화성 고분자 패턴과 UV 경화성 고분자층이 형성된 제2 기판을 정전기적 인력을 사용하여 접촉시킨 후 UV 경화성 고분자 패턴과 상기 UV 경화성 고분자층의 접촉면이 중합반응에 의하여 가교결합 하도록 자외선을 조사하여 채널을 형성시킨다. 또한, 고분자 패턴과 제3 기판을 가역적으로 접합시킨 후 예비중합체(prepolymer)를 유동시켜 상기 제3 기판 상에 예비중합체 패턴을 형성한 후 가역적으로 접합된 제3 기판을 제거함으로써 미세 구조물의 형성할 수 있다. 정전기적 인력이 발생될 수 있는 고분자라면 특별한 제한없이 사용할 수 있어 적용범위가 매우 광범위하다. 그리고 마이크로뿐만 아니라 나노 사이즈의 채널이나 구조물을 기본적으로 동일한 공정으로 제조할 수 있게 된다. 또한, UV조사 여부나 조사량에 따라 가역적 또는 비가역적 접합을 자유롭게 선택하여 형성할 수 있다.
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公开(公告)号：KR1020080103541A
公开(公告)日：2008-11-27
申请号：KR1020087021065
申请日：2006-01-31
Applicant: 재단법인서울대학교산학협력재단
IPC: H01L21/027 , B82Y40/00
CPC classification number: B81C1/00071 , B01L3/5027 , B81B2201/058 , B82Y40/00
Abstract: A method for forming a micro-channel and a microstructures formation method using the same are provided to form the micro/nano channel and the excellent micro/nano structures with the excellent bio compatibility using the polymer in which the static attraction can be induced. A method for forming a micro-channel includes the step for forming the UV curable polymer pattern(28) on the first substrate(10); the step for welding the second substrate in which the UV curable polymer pattern is formed and the UV curable polymer layer with the static attraction; the step for forming the channel by irradiating the ultraviolet ray in order to cross-link with the welded UV curable polymer pattern.
Abstract translation: 提供一种形成微通道的方法和使用该微通道的微结构形成方法以形成具有优异的微/纳米通道的优异的微/纳米结构，其具有优异的生物相容性，使用可引起静电吸引的聚合物。 形成微通道的方法包括在第一基板（10）上形成UV可固化聚合物图案（28）的步骤。 焊接形成有UV固化聚合物图案的第二基板和具有静电吸引力的UV固化聚合物层的步骤; 通过照射紫外线形成通道以便与焊接的可UV固化聚合物图案交联的步骤。
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公开(公告)号：KR1020070026944A
公开(公告)日：2007-03-09
申请号：KR1020050079182
申请日：2005-08-29
Applicant: 재단법인서울대학교산학협력재단
CPC classification number: G03F7/0002 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , C03C17/3405 , H01L21/0337
Abstract: A method of fabricating nano-structure with high aspect ratio is provided to produce the nano-structure useful for forming microfine pattern of electronic device, reproduce natural cilia in nano-level and reduce frictional resistance or drag of surface of a material by forming a polymer film on a substrate, forming a polymer pattern on a mold and extending the pattern after removing the mold. The method includes the steps of: forming a polymer film(20) on a substrate; bringing the polymer film into contact with a mold(30); forming polymer pattern(22) of the film in contact with intaglio base(32) of the mold by flowing the polymer film; and removing the polymer film having the polymer pattern to produce a nano-structure with extended polymer pattern. The polymer film contains thermoplastic resin. The mold includes at least one selected from polyurethane, polydimethylsiloxane(PDMS) and silicon oxide(SiO2). The flowing of polymer film is conducted by heating the polymer film.
Abstract translation: 提供了制造具有高纵横比的纳米结构的方法以产生用于形成电子器件的微细图案的纳米结构，在纳米级再现天然纤毛，并通过形成聚合物降低材料表面的摩擦阻力或阻力 膜，在模具上形成聚合物图案并且在去除模具之后延伸图案。 该方法包括以下步骤：在基底上形成聚合物膜（20）; 使聚合物膜与模具（30）接触; 通过使聚合物膜流动，形成与模具的凹版底座（32）接触的膜的聚合物图案（22）; 并除去具有聚合物图案的聚合物膜以产生具有延长的聚合物图案的纳米结构。 聚合物膜含有热塑性树脂。 模具包括选自聚氨酯，聚二甲基硅氧烷（PDMS）和氧化硅（SiO 2）中的至少一种。 聚合物膜的流动通过加热聚合物膜进行。
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公开(公告)号：KR100758699B1
公开(公告)日：2007-09-14
申请号：KR1020050079182
申请日：2005-08-29
Applicant: 재단법인서울대학교산학협력재단
CPC classification number: G03F7/0002 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , C03C17/3405 , H01L21/0337
Abstract: 간단하고 경제적인 공정을 통하여 나노 크기의 직경을 가지는 고종횡비 구조물을 형성할 수 있는 고종횡비 나노 구조물 형성방법이 개시되어 있다. 이를 위하여 기판 상에 고분자 박막을 형성하고, 고분자 박막에 몰드를 접촉시킨다. 이어서, 몰드의 음각부 바탕면과 접촉하는 고분자 패턴을 형성하고, 고분자 박막에서 상기 몰드를 제거하여 고분자 패턴을 신장시킴으로써 고종횡비 나노 구조물을 형성한다. 본 발명의 나노 구조물의 형성방법을 사용하면 최적화되어 있는 자연계의 각종 섬모를 모사할 수 있다. 또한, 초소수성 또는 고접착성 등의 성질을 가지는 새로운 기능성 소재를 개발할 수 있다. 나아가 점점 미세화되고 있는 전자소자의 나노 크기의 미세 패턴 형성 공정 등에 응용이 가능하고 나아가, 최근 부각되고 있는 탄소나노튜브와 함께 각종 초정밀 산업 기술 개발에도 큰 기여를 할 수 있다.
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