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公开(公告)号：KR101691949B1
公开(公告)日：2017-01-02
申请号：KR1020160142333
申请日：2016-10-28
Applicant: 서울대학교산학협력단
Abstract: 본발명의일 실시예는가속제및 감속제를포함하는기본도금액을준비하는단계(단계 1); 순환전압전류법(Cyclic Voltammetric Stripping)을이용하여, 농도를알고있는요오드화물용액을상기단계 1의기본도금액에특정부피만큼순차적으로첨가함에따른 Q/Q을도시하는검정곡선을도출하는단계(단계 2); 및순환전압전류법을이용하여, 농도를측정하고자하는측정도금액을상기단계 1의기본도금액에특정부피만큼첨가함에따른스트리핑(stripping) 전하량을측정하고, 상기검정곡선과비교하여상기측정도금액의요오드화물농도를측정하는단계(단계 3);를포함하는, 도금액내 요오드화물농도측정방법을제공한다. (상기 Q/Q는 (요오드화물이첨가된기본도금액의순환전압전류스트리핑전하량/상기기본도금액의순환전압전류스트리핑전하량)이다.)
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR101754913B1
公开(公告)日：2017-07-06
申请号：KR1020160048699
申请日：2016-04-21
Applicant: 서울대학교산학협력단
Abstract: 본발명은요오드이온을포함한구리전해도금용전해질용액및 구리전해도금방법에관한것이다. 본발명에따른구리전해도금용전해질용액은탈이온수, 구리이온, 지지전해질, 염소이온및 요오드이온을포함하며, 가속제및 감속제를추가로첨가하여 TSV와마이크로비아를결함없이채우는것이가능하다. 또한, 유기물평탄제를사용하지않아전해질특성유지및 관리가용이하며, 고가인평탄제대신가격이저렴한요오드화합물을사용하여전해도금공정의경제성이향상될수 있다.
Abstract translation: 本发明涉及含有碘离子的铜电解电镀用电解液和铜电解电镀方法。 电镀电解质溶液还根据本发明，可以以填充去离子水，铜离子和支持电解质，氯离子和碘离子，加速器和减速TSV和微孔进一步添加到完美jereul电解铜。 另外，不使用的有机平坦jereul，并且保持电解质特性，并有利于管理，可以使用碘化合物的高价平坦的地方被一个便宜的价格来提高电解电镀过程的经济效益。
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公开(公告)号：KR101725456B1
公开(公告)日：2017-04-10
申请号：KR1020160142326
申请日：2016-10-28
Applicant: 서울대학교산학협력단
IPC: G01N27/26
Abstract: 본발명의일 실시예는기본도금액을준비하고, 상기기본도금액에분자량을알고있는감속제를포함시키는단계(단계 1); 순환전압전류법(Cyclic Voltammetry)을통해, 상기기본도금액의감속제농도에따라 Q-Q값을도출하는단계(단계 2); 상기단계 1에서또 다른분자량의감속제를포함하는기본도금액을준비하고상기단계 2를수행하는단계(단계 3); 상기단계 3을복수회 반복하여, 감속제분자량에따른최대 Q-Q값을도시하는검정곡선을도출하는단계(단계 4); 및순환전압전류법을통해, 분자량을측정하고자하는감속제를포함하는측정도금액을상기단계 1의기본도금액에특정부피만큼순차적으로첨가함에따라최대 Q-Q값을도출하고, 상기검정곡선과비교하여상기측정도금액의감속제분자량을측정하는단계(단계 5);를포함하는, 도금액내 감속제의평균분자량측정방법을제공하며, 상기 Q-Q는순환전압전류법에서 (역방향주사(return sweep)에서도금량-정방향주사(forward sweep)에서도금량)이다.
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公开(公告)号：KR101713686B1
公开(公告)日：2017-03-09
申请号：KR1020150082826
申请日：2015-06-11
Applicant: 서울대학교산학협력단
IPC: H01L23/29 , H01L23/31 , H01L21/768 , H01L21/288
Abstract: 본발명은실리콘관통비아의무결함필링용평탄제및 필링방법에관한것으로, 더욱구체적으로하기화학식 1로표시되는실리콘관통비아의무결함필링용평탄제및 필링방법에관한것이다: [화학식 1](여기서, 상기 D과 D는각각 C와 C의알킬기이고, R은수산기이며, R는 3개의메틸기가질소원자와결합하여전기적으로양성을띠는 4차암모늄염이요오드화이온과이온결합한것이다).
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公开(公告)号：KR1020160147133A
公开(公告)日：2016-12-22
申请号：KR1020150082826
申请日：2015-06-11
Applicant: 서울대학교산학협력단
IPC: H01L23/29 , H01L23/31 , H01L21/768 , H01L21/288
Abstract: 본발명은실리콘관통비아의무결함필링용평탄제및 필링방법에관한것으로, 더욱구체적으로하기화학식 1로표시되는실리콘관통비아의무결함필링용평탄제및 필링방법에관한것이다: [화학식 1](여기서, 상기 D과 D는각각 C와 C의알킬기이고, R은수산기이며, R는 3개의메틸기가질소원자와결합하여전기적으로양성을띠는 4차암모늄염이요오드화이온과이온결합한것이다).
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公开(公告)号：KR1020160092588A
公开(公告)日：2016-08-05
申请号：KR1020150013011
申请日：2015-01-27
Applicant: 서울대학교산학협력단
CPC classification number: C25D3/38 , C25D7/0607 , C25D7/12
Abstract: 본발명은구리전해도금용전해질조성물및 이를이용한구리배선의형성방법에관한것으로, 더욱구체적으로탈이온수, 구리함유화합물, 유기산및 염화물을포함하는구리전해도금용전해질조성물, 및구리전해도금용전해질용액에기판에구리시드레이어가형성된작업전극과상대전극및 기준전극을침지시킨후 전류또는전압을인가하여작업전극에구리를전착시키는것을포함하는구리배선의형성방법에관한것이다.
Abstract translation: 铜电沉积用电解质组合物及其制造方法技术领域本发明涉及一种铜电沉积用电解质组合物及其制造方法，更具体地涉及铜电沉积用电解质组合物，其包括去离子水，含铜化合物，有机酸， 和氯化铜的制造方法以及铜布线的制造方法，其通过在浸渍工作电极，相对电极和参考电极之后施加电流或电压将铜电连接到工作电极，其中铜种子层形成在 用于铜电沉积的电解液的底物。
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