Abstract:
제 1 금속 할로겐화물, 제 2 금속 할로겐화물, 및 Al, Si, P, 및 이들의 조합들로 이루어지는 군으로부터 선택되는 3 주기 원소의 산화물 전구체를 포함하는 용액을 수득하는 단계, 및 상기 용액에 환원제를 첨가한 후 열처리하는 단계를 포함하는, 옥시할로겐화물계 형광체의 제조 방법에 관한 것이다.
Abstract:
본원은 염화물을 포함한 실리케이트계 형광체를 알칼리성 물질로 처리하는 것을 포함하는, 염화물계 또는 산화물계 형광체 분말의 제조 방법 및 이에 의하여 제조된 염화물계 또는 산화물계 형광체 분말에 관한 것으로서, 염화물을 이용한 강력한 산화 또는 환원시키는 것을 통해 희토류 금속이 첨가된 형광체의 발광강도를 증가시키고 상대적으로 낮은 온도에서 보다 안정하게 환원된 형광체 및 이의 제조방법을 제공할 수 있다.
Abstract:
알칼리 토금속염, 희토류 금속염, 3 족 금속염, 및 과량의 4 족 원소의 산화물 전구체를 포함하는 혼합 용액을 수득하는 것; 및 상기 혼합 용액에 셀룰로오스를 첨가한 후 열처리 하는 것을 포함하는 형광체의 제조 방법, 및 상기 방법에 의하여 제조되는 형광체에 관한 것이다.
Abstract:
The present invention relates to a chlorosilicate based fluorescent body containing rare-earth metals and a preparing method of the same, and specifically, to a chlorosilicate based fluorescent body containing rare-earth metals having an effect of emitting light in long wavelengths using large ion radius of chlorine elements, and a preparing method of the same. The obtained chlorosilicate based fluorescent body has a composition of M-Si-O-Cl, M-Si-B-O-Cl, M-Si-Al-O-Cl, or M-Si-P-O-Cl, wherein M is selected from the group consisting of alkali metal, alkali earth metal, transition metals, the rare-earth metal, and a combination thereof. [Reference numerals] (AA) Metal solution, water-soluble silicon compound(WSS); (BB) Immersion(cellulose); (CC) Stirring, grinding, and drying under the ultrasound; (DD) First sintering(150-400°C, air); (EE) Second sintering(500-1000°C, air); (FF) 700-1400°C, sintering under the reduction; (GG) Fluorescent body
Abstract:
Disclosed are a nitride semiconductor device and a manufacturing method thereof. The nitride semiconductor device includes: a substrate; a potential control layer including, on the substrate, a nanocomposite of first and second nanoparticles made of different materials; and a nitride semiconductor layer formed on the potential control layer.
Abstract:
개시된발광소자는제1반도체층, 활성층, 제2반도체층과제2반도체층상에마련된그래핀패턴층을을포함할수 있다. 개시된발광소자는그래핀패턴층상에마련된폴리머패턴층을더 포함할수 있다. 그리고, 개시된발광소자의제조방법은제1반도체층, 활성층, 제2반도체층을형성하는단계와제2반도체층상에그래핀패턴층을형성하는단계를포함할수 있다. 개시된발광소자의제조방법은그래핀패턴층상에폴리머패턴층을형성하는단계를더 포함할수 있다.
Abstract:
본원은 염화물계 형광체를 Si 3 N 4 또는 Si 2 ON 2 과 반응시켜 상대적으로 저온에서 합성되는 질화물계 형광체 및 CRN (carbothermal reduction and nitridation) 법을 통해 합성되는 산질화물계 형광체 또는 질화물계 형광체 분말, 및 그 제조 방법에 관한 것이다.