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公开(公告)号：KR101368050B1
公开(公告)日：2014-02-28
申请号：KR1020120052677
申请日：2012-05-17
Applicant: 성균관대학교산학협력단
IPC: G05F3/26
Abstract: 본 발명은 저항 변화를 보상한 밴드갭 기준전압 발생기를 공개한다. 이 장치는 전원 전압을 인가받아 공정 변화에 대하여 보상된 이미터 전류를 생성하여 저항 변화에 무관한 베이스-이미터 전압을 출력하는 베이스-이미터 전압 발생부; 상기 전원 전압을 인가받아 상기 공정 변화에 무관한 베이스-이미터 전압의 변화량을 생성하여 출력하는 베이스-이미터 전압 변화량 발생부; 및 상기 베이스-이미터 전압 및 상기 베이스-이미터 전압의 변화량을 인가받아 합산하여 기준 전압을 출력하는 전압 합산부;를 구비하는 것을 특징으로 한다. 본 발명에 의할 경우, 공정 후 보정 방식 없이 저항의 변화를 보상하여 밴드갭 기준전압 발생기의 정확도를 향상시킬 수 있어 공정 비용 및 실리콘 면적, 입출력 핀을 절약하여 제조 원가를 절감할 수 있다.
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公开(公告)号：KR1020130129322A
公开(公告)日：2013-11-28
申请号：KR1020120052677
申请日：2012-05-17
Applicant: 성균관대학교산학협력단
IPC: G05F3/26
Abstract: A band gap reference voltage generator compensating for a resistance variation is disclosed. The apparatus comprises: a base-emitter voltage generator receiving a voltage from a power source, generating an emitter current compensated for regarding a process variation and outputting a base-emitter voltage independent of resistance variations; a base-emitter voltage variation generator receiving a voltage from the power source and generating and outputting a variation of the base-emitter voltage independent of process variations; and a voltage adder receiving and adding the variation of the base-emitter, and outputting a reference voltage. The present invention can improve the accuracy of the band gap reference voltage generator by compensating for the resistance variations without a method of compensation posterior to process, thereby saving production costs by reducing process costs, a silicon area and the number of IO pins. [Reference numerals] (150) Emitter current generator compensating for process
Abstract translation: 公开了补偿电阻变化的带隙基准电压发生器。 该装置包括：基极 - 发射极电压发生器，其从电源接收电压，产生针对工艺变化补偿的发射极电流，并输出与电阻变化无关的基极 - 发射极电压; 接收来自所述电源的电压的基极 - 发射极电压变化发生器，并且独立于过程变化产生并输出所述基极 - 发射极电压的变化; 以及电压加法器，接收并相加基极 - 发射极的变化，并输出参考电压。 本发明可以通过补偿电阻变化来提高带隙基准电压发生器的精度，而不需要后处理的补偿方法，从而通过降低工艺成本，硅面积和IO引脚数来节省生产成本。 （附图标记）（150）发射器电流发生器补偿过程
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