公开(公告)号：KR100509522B1

公开(公告)日：2005-08-23

申请号：KR1020020069254

申请日：2002-11-08

Applicant: 성균관대학교산학협력단

Inventor： 염근영 ,  이영준 ,  송병관 ,  황현기 ,  이용혁 ,  이창헌 ,  정창현

IPC: H01J9/24 ,  H01J11/40

Abstract: PDP의 기판상에 증착된 MgO층으로부터 아웃개싱되는 불순물을 감소시키고 동시에 방전 특성을 향상시킬 수 있는 MgO층에 대한 세정방법과 PDP의 제조방법이 개시된다. 본 발명에 따른 MgO층에 대한 세정방법은, MgO층이 외부에 노출되도록 형성된 기판을 플라즈마 반응챔버내로 로딩하는 단계 및 상기 MgO층에 흡착된 불순물들이 제거되도록 상기 MgO층에 대하여 대기압에서 플라즈마 세정을 수행하는 단계 및/또는 열처리를 통하여 세정을 수행하는 단계를 포함한다.

公开(公告)号：KR1020040040906A

公开(公告)日：2004-05-13

申请号：KR1020020069254

申请日：2002-11-08

Applicant: 성균관대학교산학협력단

Inventor： 염근영 ,  이영준 ,  송병관 ,  황현기 ,  이용혁 ,  이창헌 ,  정창현

IPC: H01J9/24 ,  H01J11/40

Abstract: PURPOSE: A method for cleaning an MgO layer and a method for manufacturing a plasma display panel are provided to achieve improved characteristics of PDP by reducing the impurity attached on the MgO layer through an atmospheric plasma cleaning and/or heat treatment cleaning process. CONSTITUTION: A method for cleaning an MgO layer comprises a step of loading a substrate with an MgO layer into a plasma reaction chamber; and a step of performing a plasma cleaning process at an atmospheric pressure so as to remove impurities from the MgO layer. A method for manufacturing a plasma display panel comprises a step(S10) of producing an upper panel by forming an MgO layer on the inner surface of the upper panel of a plasma display panel; a step(S20) of producing a lower panel of the plasma display panel; a step(S30) of performing a plasma cleaning process at an atmospheric pressure so as to remove impurities from the MgO layer of the upper panel; a step(S40) of sealing the upper panel and the lower panel and evacuating gases from the space formed between the upper panel and the lower panel; a step(S50) of injecting a discharge gas into the space formed between the upper panel and the lower panel; and a step(S60) of producing a module of the plasma display panel from the assembly of the upper and lower panels.

Abstract translation: 目的：提供一种用于清洗MgO层的方法和等离子体显示面板的制造方法，以通过通过大气等离子体清洗和/或热处理清洗工艺减少附着在MgO层上的杂质来实现PDP的改进的特性。 构成：用于清洗MgO层的方法包括将具有MgO层的衬底加载到等离子体反应室中的步骤; 以及在大气压下进行等离子体清洗处理以从MgO层除去杂质的步骤。 一种等离子体显示面板的制造方法，其特征在于，包括通过在等离子体显示面板的上板的内表面形成MgO层来制造上板的工序（S10） 制造等离子体显示面板的下面板的步骤（S20）; 在大气压下进行等离子体清洗处理以从上层的MgO层除去杂质的工序（S30） 密封上板和下板并从形成在上板和下板之间的空间排出气体的步骤（S40）; 将放电气体注入到形成在上板和下板之间的空间中的步骤（S50） 以及从上板和下板的组装制造等离子体显示面板的模块的步骤（S60）。