평판 표시 소자 제조에 사용되는 상압 플라즈마 식각 장치
    2.
    发明授权
    평판 표시 소자 제조에 사용되는 상압 플라즈마 식각 장치 失效
    用于制造平板显示装置的大气压等离子体蚀刻装置

    公开(公告)号:KR100756227B1

    公开(公告)日:2007-09-06

    申请号:KR1020040003917

    申请日:2004-01-19

    Abstract: 본 발명은 TFT-LCD와 같은 평판 표시 소자 제조에 사용되는 기판을 플라즈마를 이용하여 식각하는 장치이다. 본 발명에 의하면, 식각 공정이 다른 공정과 인라인으로 진행될 수 있도록 기판이송부가 제공되며, 상압에서 플라즈마가 안정하고 균일하게 발생될 수 있도록 글로우 방전을 유도하기 위해 상부전극의 아래에 절연판이 제공되고, 공정진행시 가스의 온도를 낮추기 위해 비반응성 가스가 공급된다.
    플라즈마, 식각, TFT-LCD, FPD, 절연판, 비반응성 가스

    평판 표시 소자 제조에 사용되는 상압 플라즈마 식각 장치
    3.
    发明公开
    평판 표시 소자 제조에 사용되는 상압 플라즈마 식각 장치 失效
    用于制造平板显示装置的大气压等离子体蚀刻装置

    公开(公告)号:KR1020050076108A

    公开(公告)日:2005-07-26

    申请号:KR1020040003917

    申请日:2004-01-19

    Abstract: 본 발명은 TFT-LCD와 같은 평판 표시 소자 제조에 사용되는 기판을 플라즈마를 이용하여 식각하는 장치이다. 본 발명에 의하면, 식각 공정이 다른 공정과 인라인으로 진행될 수 있도록 기판이송부가 제공되며, 상압에서 플라즈마가 안정하고 균일하게 발생될 수 있도록 글로우 방전을 유도하기 위해 상부전극의 아래에 절연판이 제공되고, 공정진행시 가스의 온도를 낮추기 위해 비반응성 가스가 공급된다.

    MgO층에 대한 세정방법 및 이를 이용한 플라즈마디스플레이 패널의 제조방법
    4.
    发明公开
    MgO층에 대한 세정방법 및 이를 이용한 플라즈마디스플레이 패널의 제조방법 失效
    清洗MgO层的方法及使用其制造等离子体显示面板的方法

    公开(公告)号:KR1020040040906A

    公开(公告)日:2004-05-13

    申请号:KR1020020069254

    申请日:2002-11-08

    Abstract: PURPOSE: A method for cleaning an MgO layer and a method for manufacturing a plasma display panel are provided to achieve improved characteristics of PDP by reducing the impurity attached on the MgO layer through an atmospheric plasma cleaning and/or heat treatment cleaning process. CONSTITUTION: A method for cleaning an MgO layer comprises a step of loading a substrate with an MgO layer into a plasma reaction chamber; and a step of performing a plasma cleaning process at an atmospheric pressure so as to remove impurities from the MgO layer. A method for manufacturing a plasma display panel comprises a step(S10) of producing an upper panel by forming an MgO layer on the inner surface of the upper panel of a plasma display panel; a step(S20) of producing a lower panel of the plasma display panel; a step(S30) of performing a plasma cleaning process at an atmospheric pressure so as to remove impurities from the MgO layer of the upper panel; a step(S40) of sealing the upper panel and the lower panel and evacuating gases from the space formed between the upper panel and the lower panel; a step(S50) of injecting a discharge gas into the space formed between the upper panel and the lower panel; and a step(S60) of producing a module of the plasma display panel from the assembly of the upper and lower panels.

    Abstract translation: 目的:提供一种用于清洗MgO层的方法和等离子体显示面板的制造方法,以通过通过大气等离子体清洗和/或热处理清洗工艺减少附着在MgO层上的杂质来实现PDP的改进的特性。 构成:用于清洗MgO层的方法包括将具有MgO层的衬底加载到等离子体反应室中的步骤; 以及在大气压下进行等离子体清洗处理以从MgO层除去杂质的步骤。 一种等离子体显示面板的制造方法,其特征在于,包括通过在等离子体显示面板的上板的内表面形成MgO层来制造上板的工序(S10) 制造等离子体显示面板的下面板的步骤(S20); 在大气压下进行等离子体清洗处理以从上层的MgO层除去杂质的工序(S30) 密封上板和下板并从形成在上板和下板之间的空间排出气体的步骤(S40); 将放电气体注入到形成在上板和下板之间的空间中的步骤(S50) 以及从上板和下板的组装制造等离子体显示面板的模块的步骤(S60)。

Patent Agency Ranking