Abstract:
본 발명은 플라즈마 건식 식각으로 인해 태양전지에 생긴 표면 손상을 제거하는 방법에 관한 것이다. 본 발명의 태양전지 표면손상 제거방법은, 플라즈마 건식 식각 공정으로 인한 태양전지의 표면손상을 제거하는 방법으로서, 플라즈마 건식 식각 공정을 마친 태양전지 기판의 표면에 산화막을 형성하는 것을 특징으로 한다. 산화막을 형성하는 방법은 질산용액에 상기 태양전지 기판을 침지하여 이루어지는 것이 바람직하며, 질산용액이 50%농도의 질산용액이고 침지하는 시간이 10~20분일 수 있다. 본 발명에 따르면, 태양전지의 표면에 얇은 두께의 산화막을 형성하는 것만으로도 플라즈마 건식 식각으로 인한 표면 손상을 해소함으로써, 태양전지의 표면을 추가적으로 식각하여 발생하는 여러 가지 문제점들을 미연에 방지할 수 있다. 또한 본 발명은 질산용액에 태양전지 기판을 침지하는 간단한 공정으로 태양전지의 표면 손상을 해소함으로써, 공정효율이 크게 향상되는 효과가 있다. 태양전지, 플라즈마, 건식 식각, 건식에칭, 표면 손상, 표면 손상
Abstract:
PURPOSE: A silicon substrate for a solar battery on which a selective pattern with a nano-porous structure is formed and manufacturing method thereof are provided to form a nano-porous structure on the silicon substrate to reduce reflectivity, thereby increasing the lifetime of a carrier. CONSTITUTION: A desired pattern is formed on a silicon substrate by a photolithographic method. Nitric acid and hydrofluoric acid are mixed so that an acid mixture solution is manufactured. The acid mixture solution is mixed with water whose amount is 1~5 times larger than the acid mixture solution so that a diluted acid mixture solution is manufactured. The silicon substrate is dipped in the diluted acid mixture solution so that a nano-porous structure is formed in the pattern.
Abstract:
본 발명은 나노 다공성 구조를 가진 선택적 패턴이 형성된 실리콘 기판 및 이의 제조 방법에 관한 것으로, 보다 구체적으로 실리콘 태양전지에 사용될 수 있는 실리콘 기판으로, 포토리소그래피 방법을 사용하여 선택적 패턴이 형성된 실리콘 기판 표면에 나노 다공성 구조를 형성함으로써 반사도를 감소시키며, 캐리어의 수명을 향상시킬 수 있고 개방 전압을 향상시켜 광전변환 효율을 향상시킬 수 있는, 나노 다공성 구조를 가진 선택적 패턴이 형성된 실리콘 기판 및 이의 제조 방법에 관한 것이다. 태양전지, 실리콘 기판, 나노 다공성 구조, 선택적 패턴
Abstract:
PURPOSE: A solar cell surface damage removing method and a solar cell manufacturing method using the same are provided to improve the process efficiency remarkably by preventing the surface damage of the solar cell with simple method of dipping a solar cell substrate in the nitride solution. CONSTITUTION: An emitter layer(110) is formed by injecting the impurity material of second conductive type into a substrate(100). A front side reflection barrier layer(120) is formed on the emitter layer in order to lower the reflectivity of sunlight. A front electrode is formed to pass through the front side reflection barrier layer and contact the emitter layer.
Abstract:
PURPOSE: A silicon substrate containing a nano-porous structure for a solar cell and a method for manufacturing the same are provided to form the nano-porous structure on the surface of the silicon substrate without the shape transformation of the silicon substrate by immersing the silicon substrate into a diluted acidic mixture solution. CONSTITUTION: An acidic mixture solution is prepared by mixing nitric acid and hydrofluoric acid. A diluted acidic mixture solution is prepared by mixing the acidic mixture solution and water. A silicon substrate is immersed into the diluted acidic mixture solution to form a nano-porous structure on the surface of the silicon substrate. The silicon substrate is mono-crystalline silicon substrate, polycrystalline silicon substrate, or non-processed crystalline silicon substrate.
Abstract:
PURPOSE: A method for selectively forming an emitter of a solar cell and a manufacturing method thereof are provided to use a doping paste as a blocking layer of an etch-back, thereby simplifying a selective emitter structure of a solar cell. CONSTITUTION: High doping(n++) for forming an emitter layer(20) is performed on a silicon substrate(10). A doping paste is coated on a location of the substrate where an electrode is formed. A surface on which the doping paste is partially coated is etched back. The doping paste is removed. The surface of the substrate removing the doping paste is oxidized.