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公开(公告)号：KR101766778B1
公开(公告)日：2017-08-09
申请号：KR1020150113403
申请日：2015-08-11
Applicant: 성균관대학교산학협력단
IPC: H01L21/205 , H01L21/683 , H01L21/324
Abstract: 화학기상증착장치는챔버, 상기챔버내부에위치하며, 상부면에기판이놓이는스테이지부, 일단이스테이지부의하부면에연결되어스테이지부를지지하는지지대, 및스테이지부의하부면과지지대의일단사이에위치하며, 스테이지부의기울기를조절하는틸팅부를포함하고, 틸팅부는기판에대한증착공정시 스테이지부를가스가주입되는방향을향해기울이되, 스테이지부를가스가주입되는부분으로부터먼 영역은상승시키고가까운영역은하강시킨다.
Abstract translation: 的化学气相沉积装置被定位在所述腔室内，该腔室被放置阶段基板顶端表面上，连接到支撑用于支撑台的下表面部分中的阶段的一个端部，以及位于所述台部底表面和所述支撑体之间的一端 其中，倾斜部分在基板的沉积过程中朝向气体注入方向倾斜台部分，使台部分远离注入气体的部分升高， 它降低。
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公开(公告)号：KR1020170019244A
公开(公告)日：2017-02-21
申请号：KR1020150113403
申请日：2015-08-11
Applicant: 성균관대학교산학협력단
IPC: H01L21/205 , H01L21/683 , H01L21/324
Abstract: 화학기상증착장치는챔버, 상기챔버내부에위치하며, 상부면에기판이놓이는스테이지부, 일단이스테이지부의하부면에연결되어스테이지부를지지하는지지대, 및스테이지부의하부면과지지대의일단사이에위치하며, 스테이지부의기울기를조절하는틸팅부를포함하고, 틸팅부는기판에대한증착공정시 스테이지부를가스가주입되는방향을향해기울이되, 스테이지부를가스가주입되는부분으로부터먼 영역은상승시키고가까운영역은하강시킨다.
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