비수 전해질 전지 및, 그 제조 방법
    2.
    发明公开
    비수 전해질 전지 및, 그 제조 방법 无效
    非电解电解质电池及其制造方法

    公开(公告)号:KR1020130108244A

    公开(公告)日:2013-10-02

    申请号:KR1020137001747

    申请日:2011-08-24

    Abstract: 확실하게 정·부극층 간의 단락(short circuit)을 방지할 수 있는 비수 전해질 전지 및, 그 제조 방법을 제공한다. Li 함유 산화물을 포함하는 정극 활물질층(12), Li 금속의 석출이 발생할 수 있는 부극 활물질층(22) 및, 이들 활물질층(12, 22)의 사이에 배치되는 황화물 고체 전해질층(SE층)(3)을 구비하는 비수 전해질 전지(100)이다. 이 비수 전해질 전지(100)의 SE층(3)은, 분말 성형층(31)과, 그 분말 성형층(31)의 표면에 기상법에 의해 형성되는 치밀막층(32)을 갖는다. 이 비수 전해질 전지(100)는, 정극 활물질층(12)을 갖는 정극체 위에, 가압 성형법에 의해 분말 성형층(31)을 형성하고, 이어서 분말 성형층(31)을 갖는 정극체를 기반으로 하여 기상법에 의해 치밀막층(32)을 형성한다.

    Abstract translation: 提供一种可以确定地抑制正电极层和负电极层之间的短路的非水电解质电池及其制造方法。 非水电解质电池100包括:含有Li的氧化物的正极活性物质层12; 可以发生Li金属沉积的负极活性物质层22; 以及设置在这些活性物质层12和22之间的硫化物 - 固体电解质层(SE层)3。非水电解质电池100的SE层3包括粉末形成层31和形成的致密膜层32 通过气相法在粉末形成层31的表面上。 在非水电解质电池100中,粉末形成层31通过在包含正极活性物质层12的正极体上的压缩成型工艺形成,然后通过以下方式形成致密膜层32: 在设置有粉末形成层31并作为基板的正极体上进行气相处理。

    리튬 이온 커패시터
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:KR1020150027085A

    公开(公告)日:2015-03-11

    申请号:KR1020147034810

    申请日:2013-07-01

    Abstract: 활물질의 집전체로부터의 탈락을 억제하면서, 고(高)용량화된 리튬 이온 커패시터를 제공한다. 정극(positive electrode) 활물질 및 이것을 보유지지(holding)하는 정극 집전체를 갖는 정극과, 부극(negative electrode) 활물질 및 이것을 보유지지하는 부극 집전체를 갖는 부극과, 리튬 이온 전도성을 갖는 비수 전해액을 구비하는 리튬 이온 커패시터로서, 정극 집전체 및 부극 집전체로부터 선택되는 적어도 한쪽의 집전체가, 연통구멍을 갖는 다공체이고, 다공체의 기공률은 30%를 초과하고 98% 이하이고, 연통구멍에 정극 활물질 또는 부극 활물질이 충전되고, 정극 활물질 또는 부극 활물질은, 리튬을 가역적으로 담지(擔持) 가능하고, 정극 활물질 및 부극 활물질로부터 선택되는 적어도 한쪽에는, 리튬이 프리 도핑되어 있고, 부극 활물질에 프리 도핑된 리튬의 전부 또는 일부는, 부극과 전기적 화학적으로 접속된 리튬으로부터 직접, 또는 적어도 1층 이상의 정극을 투과시켜 프리 도핑되어 있다.

    알루미늄 도금액, 알루미늄막의 제조 방법 및, 알루미늄 다공체
    5.
    发明公开
    알루미늄 도금액, 알루미늄막의 제조 방법 및, 알루미늄 다공체 审中-实审
    用于制造铝膜和多孔铝体的铝镀层溶液方法

    公开(公告)号:KR1020170021252A

    公开(公告)日:2017-02-27

    申请号:KR1020167035569

    申请日:2015-06-04

    CPC classification number: C25D1/08 C25D3/66 C25D3/665 C25D17/10 C25D3/44

    Abstract: 표면이평활성이고, 또한신장이우수한알루미늄막을연속적으로제조가능한알루미늄도금액을제공한다. 기재표면에알루미늄을전착시키는것이가능한알루미늄도금액으로서, 상기알루미늄도금액은 (A) 알루미늄할로겐화물과, (B) 알킬이미다졸륨할로겐화물, 알킬피리디늄할로겐화물및 요소화합물로이루어지는군으로부터선택되는어느 1종이상의화합물과, (C1) 암모늄염, 포스포늄염, 술포늄염, 아민화합물, 포스핀화합물및 술피드화합물로이루어지는군으로부터선택되는어느 1종이상을성분으로서포함하고, 상기 (C1)성분은, 탄소수가 8 이상 36 이하인직쇄상혹은분기를갖는알킬기를적어도하나의측쇄로서갖고, 상기 (A)성분과상기 (B)성분의혼합비는몰비로 1:1∼3:1의범위에있고, 상기 (C1)성분의농도가 1.0g/L 이상 45g/L 이하인알루미늄도금액이다.

    Abstract translation: 提供一种能够连续制造铝膜的铝电镀液,其表面光滑,伸长率优异。 能够在基材表面上电沉积铝的铝电镀溶液包含(A)卤化铝作为组分,(B)至少一种选自烷基咪唑鎓卤化物,烷基吡啶鎓卤化物和脲化合物的化合物, 和(C1)选自铵盐,鏻盐,锍盐,胺化合物,磷化合物和硫化物化合物中的至少一种; 组分(C1)具有用于至少一个侧链的C 8-16直链或支链烷基; 组分(A)与组分(B)的混合比在1:1-3:1摩尔比的范围内; 成分(C1)的浓度为1.0g / L〜45g / L。

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