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公开(公告)号：KR101943175B1
公开(公告)日：2019-01-28
申请号：KR1020167027333
申请日：2014-03-20
Applicant: 아토테크더치랜드게엠베하
IPC: C07D213/82 , C07D401/06 , C07D413/06 , C25D3/12 , C25D3/18 , C25D3/56
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Patent Agency Ranking2.发明公开반-광택 니켈 또는 니켈 합금의 증착을 위한 갈바닉 니켈 또는 니켈 합금 전기도금 배스, 전기도금 방법 및 이를 위한 상기 배스 및 화합물의 용도 有权用于沉积半亮镍或镍合金的电镀镍或镍合金电镀浴，用于电镀的方法和使用这样的浴和其化合物
公开(公告)号：KR1020150109492A
公开(公告)日：2015-10-01
申请号：KR1020157024417
申请日：2014-03-20
Applicant: 아토테크더치랜드게엠베하
IPC: C07D213/82 , C07D401/06 , C07D413/06
CPC classification number: C25D3/562 , C07D213/74 , C07D295/192 , C25D3/18
Abstract: 본발명은전기도금배스가하기와같은화학식 (I) 을갖는하나이상의화합물을포함하는것을특징으로하는, 반-광택니켈또는니켈합금코팅을증착하기위한갈바닉니켈또는니켈합금전기도금배스에관한것이다:(I) (식중, R= SO기로치환된 C- C탄화수소부분, 카르복실기로치환된 C- C탄화수소부분또는방향족기및/또는헤테로방향족기하나이상으로치환된 C- C탄화수소부분이고; R= NRR부분, OR부분, 또는시클릭 NR부분이며, 이때 R, R, R= 수소또는 C- C탄화수소부분또는방향족기및/또는헤테로방향족기하나이상으로치환된 C- C탄화수소부분이고, 상기 R, R및 R는동일하거나상이하고; R= C- C탄화수소부분또는 C- C탄화수소부분이며, 상기하나이상의탄소원자는헤테로원자에의해치환되고; n = 1 - 3 임).
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3.发明授权반-광택 니켈 또는 니켈 합금의 증착을 위한 갈바닉 니켈 또는 니켈 합금 전기도금 배스, 전기도금 방법 및 이를 위한 상기 배스 및 화합물의 용도 有权用于沉积半光亮镍或镍合金的电镀镍或镍合金电镀浴，所述浴及其化合物的电镀方法和用途
公开(公告)号：KR101665905B1
公开(公告)日：2016-10-12
申请号：KR1020157024417
申请日：2014-03-20
Applicant: 아토테크더치랜드게엠베하
IPC: C07D213/82 , C07D401/06 , C07D413/06
CPC classification number: C25D3/562 , C07D213/74 , C07D295/192 , C25D3/18
Abstract: 본발명은전기도금배스가하기와같은화학식 (I) 을갖는하나이상의화합물을포함하는것을특징으로하는, 반-광택니켈또는니켈합금코팅을증착하기위한갈바닉니켈또는니켈합금전기도금배스에관한것이다:(I) (식중, R= SO기로치환된 C- C탄화수소부분, 카르복실기로치환된 C- C탄화수소부분또는방향족기및/또는헤테로방향족기하나이상으로치환된 C- C탄화수소부분이고; R= NRR부분, OR부분, 또는시클릭 NR부분이며, 이때 R, R, R= 수소또는 C- C탄화수소부분또는방향족기및/또는헤테로방향족기하나이상으로치환된 C- C탄화수소부분이고, 상기 R, R및 R는동일하거나상이하고; R= C- C탄화수소부분또는 C- C탄화수소부분이며, 상기하나이상의탄소원자는헤테로원자에의해치환되고; n = 1 - 3 임).
Abstract translation: 本发明涉及用于沉积半光亮镍或镍合金涂层的电镀镍或镍合金电镀浴，其特征在于电镀浴包含至少一种具有式（I）的化合物， ：（I）（式中，R = SO基团和取代的C C-烃部分，取代的烃部分C- C，或芳族基团和/或取代的杂芳基或与一个或一个羧基基团更C-ç烃部分; R = NRR部分，或区段，或当点击部NR，其中R，R，R =氢或C C-烃部分或芳族基团和/或通过一个或杂芳基，其中取代的C-ç烃部分 R，R和R相同或不同; R = C-C烃部分或C-C烃部分，其中所述至少一个碳原子被杂原子替代;
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4.发明公开반-광택 니켈 또는 니켈 합금의 증착을 위한 갈바닉 니켈 또는 니켈 합금 전기도금 배스, 전기도금 방법 및 이를 위한 상기 배스 및 화합물의 용도 有权用于沉积半亮镍或镍合金的电镀镍或镍合金电镀浴，用于电镀的方法和使用这样的浴和其化合物
公开(公告)号：KR1020140145608A
公开(公告)日：2014-12-23
申请号：KR1020147030433
申请日：2014-03-20
Applicant: 아토테크더치랜드게엠베하
CPC classification number: C25D3/562 , C07D213/74 , C07D295/192 , C25D3/18 , C25D3/12 , C25D3/56
Abstract: 본 발명은 전기도금 배스가 하기와 같은 화학식 (I) 을 갖는 하나 이상의 화합물을 포함하는 것을 특징으로 하는, 반-광택 니켈 또는 니켈 합금 코팅을 증착하기 위한 갈바닉 니켈 또는 니켈 합금 전기도금 배스에 관한 것이다:
(I)
(식 중, R
1 = SO
3
- 기로 치환된 C
1 - C
18 탄화수소 부분, 카르복실기로 치환된 C
1 - C
18 탄화수소 부분 또는 방향족기 및/또는 헤테로방향족기 하나 이상으로 치환된 C
1 - C
18 탄화수소 부분이고;
R
2 = NR
3 R
4 부분, OR
5 부분, 또는 시클릭 NR
6 부분이며, 이 때
R
3 , R
4 , R
5 = 수소 또는 C
1 - C
18 탄화수소 부분 또는 방향족기 및/또는 헤테로방향족기 하나 이상으로 치환된 C
1 - C
18 탄화수소 부분이고, 상기 R
3 , R
4 및 R
5 는 동일하거나 상이하고;
R
6 = C
3 - C
8 탄화수소 부분 또는 C
3 - C
8 탄화수소 부분이며, 상기 하나 이상의 탄소 원자는 헤테로원자에 의해 치환되고;
n = 1 - 3 임).-
5.发明公开반-광택 니켈 또는 니켈 합금의 증착을 위한 갈바닉 니켈 또는 니켈 합금 전기도금 배스, 전기도금 방법 및 이를 위한 상기 배스 및 화합물의 용도 审中-实审- 用于沉积用于电镀的半亮镍或镍合金方法的金银镍或镍合金电镀浴以及用于其的这种浴和化合物的使用
公开(公告)号：KR1020160120350A
公开(公告)日：2016-10-17
申请号：KR1020167027333
申请日：2014-03-20
Applicant: 아토테크더치랜드게엠베하
IPC: C07D213/82 , C07D401/06 , C07D413/06 , C25D3/12 , C25D3/18 , C25D3/56
CPC classification number: C25D3/562 , C07D213/74 , C07D295/192 , C25D3/18 , C07D213/82 , C07D401/06 , C07D413/06 , C25D3/12 , C25D3/56
Abstract: 본발명은전기도금배스가하기와같은화학식 (I) 을갖는하나이상의화합물을포함하는것을특징으로하는, 반-광택니켈또는니켈합금코팅을증착하기위한갈바닉니켈또는니켈합금전기도금배스에관한것이다:(I) (식중, R= SO기로치환된 C- C탄화수소부분, 카르복실기로치환된 C- C탄화수소부분또는방향족기및/또는헤테로방향족기하나이상으로치환된 C- C탄화수소부분이고; R= NRR부분, OR부분, 또는시클릭 NR부분이며, 이때 R, R, R= 수소또는 C- C탄화수소부분또는방향족기및/또는헤테로방향족기하나이상으로치환된 C- C탄화수소부분이고, 상기 R, R및 R는동일하거나상이하고; R= C- C탄화수소부분또는 C- C탄화수소부분이며, 상기하나이상의탄소원자는헤테로원자에의해치환되고; n = 1 - 3 임).
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公开(公告)号：KR101650647B1
公开(公告)日：2016-08-23
申请号：KR1020147030433
申请日：2014-03-20
Applicant: 아토테크더치랜드게엠베하
CPC classification number: C25D3/562 , C07D213/74 , C07D295/192 , C25D3/18
Abstract: 본발명은전기도금배스가하기와같은화학식 (I) 을갖는하나이상의화합물을포함하는것을특징으로하는, 반-광택니켈또는니켈합금코팅을증착하기위한갈바닉니켈또는니켈합금전기도금배스에관한것이다:(I) (식중, R= SO기로치환된 C- C탄화수소부분, 카르복실기로치환된 C- C탄화수소부분또는방향족기및/또는헤테로방향족기하나이상으로치환된 C- C탄화수소부분이고; R= NRR부분, OR부분, 또는시클릭 NR부분이며, 이때 R, R, R= 수소또는 C- C탄화수소부분또는방향족기및/또는헤테로방향족기하나이상으로치환된 C- C탄화수소부분이고, 상기 R, R및 R는동일하거나상이하고; R= C- C탄화수소부분또는 C- C탄화수소부분이며, 상기하나이상의탄소원자는헤테로원자에의해치환되고; n = 1 - 3 임).
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