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公开(公告)号：KR101943175B1
公开(公告)日：2019-01-28
申请号：KR1020167027333
申请日：2014-03-20
Applicant: 아토테크더치랜드게엠베하
IPC: C07D213/82 , C07D401/06 , C07D413/06 , C25D3/12 , C25D3/18 , C25D3/56
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公开(公告)号：KR1020170093870A
公开(公告)日：2017-08-16
申请号：KR1020177017899
申请日：2015-12-04
Applicant: 아토테크더치랜드게엠베하
CPC classification number: C23C18/50 , C23C18/34 , C23C18/36 , C23C18/40 , C23C18/405 , C23C18/48 , C23C18/1641
Abstract: 본발명은무전해금속및 금속합금도금조들에채용될수 있는첨가제들및 상기도금조들의사용방법에관한것이다. 이러한첨가제는도금속도를감소시키고무전해도금조의안정성을증가시키므로, 이러한무전해도금조는인쇄회로기판, IC 기판및 반도체기판의트렌치및 비아와같은리세스구조로의상기금속또는금속합금의데포지션에특히적합하다. 무전해도금조는디스플레이용도의금속화에더욱유용하다.
Abstract translation: 本发明涉及可用于无电镀金属和金属合金镀浴中的添加剂以及使用这些镀层的方法。 这种添加剂降低了电镀速率并增加了无电镀浴的稳定性，从而可以使用无电电镀将金属或金属合金沉积到凹陷结构如印刷电路板中， 是特别合适的。 无电镀铜对于显示用途的金属化更有用。
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3.发明公开반-광택 니켈 또는 니켈 합금의 증착을 위한 갈바닉 니켈 또는 니켈 합금 전기도금 배스, 전기도금 방법 및 이를 위한 상기 배스 및 화합물의 용도 有权用于沉积半亮镍或镍合金的电镀镍或镍合金电镀浴，用于电镀的方法和使用这样的浴和其化合物
公开(公告)号：KR1020150109492A
公开(公告)日：2015-10-01
申请号：KR1020157024417
申请日：2014-03-20
Applicant: 아토테크더치랜드게엠베하
IPC: C07D213/82 , C07D401/06 , C07D413/06
CPC classification number: C25D3/562 , C07D213/74 , C07D295/192 , C25D3/18
Abstract: 본발명은전기도금배스가하기와같은화학식 (I) 을갖는하나이상의화합물을포함하는것을특징으로하는, 반-광택니켈또는니켈합금코팅을증착하기위한갈바닉니켈또는니켈합금전기도금배스에관한것이다:(I) (식중, R= SO기로치환된 C- C탄화수소부분, 카르복실기로치환된 C- C탄화수소부분또는방향족기및/또는헤테로방향족기하나이상으로치환된 C- C탄화수소부분이고; R= NRR부분, OR부분, 또는시클릭 NR부분이며, 이때 R, R, R= 수소또는 C- C탄화수소부분또는방향족기및/또는헤테로방향족기하나이상으로치환된 C- C탄화수소부분이고, 상기 R, R및 R는동일하거나상이하고; R= C- C탄화수소부분또는 C- C탄화수소부분이며, 상기하나이상의탄소원자는헤테로원자에의해치환되고; n = 1 - 3 임).
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5.发明授权반-광택 니켈 또는 니켈 합금의 증착을 위한 갈바닉 니켈 또는 니켈 합금 전기도금 배스, 전기도금 방법 및 이를 위한 상기 배스 및 화합물의 용도 有权用于沉积半光亮镍或镍合金的电镀镍或镍合金电镀浴，所述浴及其化合物的电镀方法和用途
公开(公告)号：KR101665905B1
公开(公告)日：2016-10-12
申请号：KR1020157024417
申请日：2014-03-20
Applicant: 아토테크더치랜드게엠베하
IPC: C07D213/82 , C07D401/06 , C07D413/06
CPC classification number: C25D3/562 , C07D213/74 , C07D295/192 , C25D3/18
Abstract: 본발명은전기도금배스가하기와같은화학식 (I) 을갖는하나이상의화합물을포함하는것을특징으로하는, 반-광택니켈또는니켈합금코팅을증착하기위한갈바닉니켈또는니켈합금전기도금배스에관한것이다:(I) (식중, R= SO기로치환된 C- C탄화수소부분, 카르복실기로치환된 C- C탄화수소부분또는방향족기및/또는헤테로방향족기하나이상으로치환된 C- C탄화수소부분이고; R= NRR부분, OR부분, 또는시클릭 NR부분이며, 이때 R, R, R= 수소또는 C- C탄화수소부분또는방향족기및/또는헤테로방향족기하나이상으로치환된 C- C탄화수소부분이고, 상기 R, R및 R는동일하거나상이하고; R= C- C탄화수소부분또는 C- C탄화수소부분이며, 상기하나이상의탄소원자는헤테로원자에의해치환되고; n = 1 - 3 임).
Abstract translation: 本发明涉及用于沉积半光亮镍或镍合金涂层的电镀镍或镍合金电镀浴，其特征在于电镀浴包含至少一种具有式（I）的化合物， ：（I）（式中，R = SO基团和取代的C C-烃部分，取代的烃部分C- C，或芳族基团和/或取代的杂芳基或与一个或一个羧基基团更C-ç烃部分; R = NRR部分，或区段，或当点击部NR，其中R，R，R =氢或C C-烃部分或芳族基团和/或通过一个或杂芳基，其中取代的C-ç烃部分 R，R和R相同或不同; R = C-C烃部分或C-C烃部分，其中所述至少一个碳原子被杂原子替代;
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Patent Agency Ranking6.发明公开반-광택 니켈 또는 니켈 합금의 증착을 위한 갈바닉 니켈 또는 니켈 합금 전기도금 배스, 전기도금 방법 및 이를 위한 상기 배스 및 화합물의 용도 有权用于沉积半亮镍或镍合金的电镀镍或镍合金电镀浴，用于电镀的方法和使用这样的浴和其化合物
公开(公告)号：KR1020140145608A
公开(公告)日：2014-12-23
申请号：KR1020147030433
申请日：2014-03-20
Applicant: 아토테크더치랜드게엠베하
CPC classification number: C25D3/562 , C07D213/74 , C07D295/192 , C25D3/18 , C25D3/12 , C25D3/56
Abstract: 본 발명은 전기도금 배스가 하기와 같은 화학식 (I) 을 갖는 하나 이상의 화합물을 포함하는 것을 특징으로 하는, 반-광택 니켈 또는 니켈 합금 코팅을 증착하기 위한 갈바닉 니켈 또는 니켈 합금 전기도금 배스에 관한 것이다:
(I)
(식 중, R
1 = SO
3
- 기로 치환된 C
1 - C
18 탄화수소 부분, 카르복실기로 치환된 C
1 - C
18 탄화수소 부분 또는 방향족기 및/또는 헤테로방향족기 하나 이상으로 치환된 C
1 - C
18 탄화수소 부분이고;
R
2 = NR
3 R
4 부분, OR
5 부분, 또는 시클릭 NR
6 부분이며, 이 때
R
3 , R
4 , R
5 = 수소 또는 C
1 - C
18 탄화수소 부분 또는 방향족기 및/또는 헤테로방향족기 하나 이상으로 치환된 C
1 - C
18 탄화수소 부분이고, 상기 R
3 , R
4 및 R
5 는 동일하거나 상이하고;
R
6 = C
3 - C
8 탄화수소 부분 또는 C
3 - C
8 탄화수소 부분이며, 상기 하나 이상의 탄소 원자는 헤테로원자에 의해 치환되고;
n = 1 - 3 임).-
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8.发明公开반-광택 니켈 또는 니켈 합금의 증착을 위한 갈바닉 니켈 또는 니켈 합금 전기도금 배스, 전기도금 방법 및 이를 위한 상기 배스 및 화합물의 용도 审中-实审- 用于沉积用于电镀的半亮镍或镍合金方法的金银镍或镍合金电镀浴以及用于其的这种浴和化合物的使用
公开(公告)号：KR1020160120350A
公开(公告)日：2016-10-17
申请号：KR1020167027333
申请日：2014-03-20
Applicant: 아토테크더치랜드게엠베하
IPC: C07D213/82 , C07D401/06 , C07D413/06 , C25D3/12 , C25D3/18 , C25D3/56
CPC classification number: C25D3/562 , C07D213/74 , C07D295/192 , C25D3/18 , C07D213/82 , C07D401/06 , C07D413/06 , C25D3/12 , C25D3/56
Abstract: 본발명은전기도금배스가하기와같은화학식 (I) 을갖는하나이상의화합물을포함하는것을특징으로하는, 반-광택니켈또는니켈합금코팅을증착하기위한갈바닉니켈또는니켈합금전기도금배스에관한것이다:(I) (식중, R= SO기로치환된 C- C탄화수소부분, 카르복실기로치환된 C- C탄화수소부분또는방향족기및/또는헤테로방향족기하나이상으로치환된 C- C탄화수소부분이고; R= NRR부분, OR부분, 또는시클릭 NR부분이며, 이때 R, R, R= 수소또는 C- C탄화수소부분또는방향족기및/또는헤테로방향족기하나이상으로치환된 C- C탄화수소부분이고, 상기 R, R및 R는동일하거나상이하고; R= C- C탄화수소부분또는 C- C탄화수소부분이며, 상기하나이상의탄소원자는헤테로원자에의해치환되고; n = 1 - 3 임).
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公开(公告)号：KR101650647B1
公开(公告)日：2016-08-23
申请号：KR1020147030433
申请日：2014-03-20
Applicant: 아토테크더치랜드게엠베하
CPC classification number: C25D3/562 , C07D213/74 , C07D295/192 , C25D3/18
Abstract: 본발명은전기도금배스가하기와같은화학식 (I) 을갖는하나이상의화합물을포함하는것을특징으로하는, 반-광택니켈또는니켈합금코팅을증착하기위한갈바닉니켈또는니켈합금전기도금배스에관한것이다:(I) (식중, R= SO기로치환된 C- C탄화수소부분, 카르복실기로치환된 C- C탄화수소부분또는방향족기및/또는헤테로방향족기하나이상으로치환된 C- C탄화수소부분이고; R= NRR부분, OR부분, 또는시클릭 NR부분이며, 이때 R, R, R= 수소또는 C- C탄화수소부분또는방향족기및/또는헤테로방향족기하나이상으로치환된 C- C탄화수소부분이고, 상기 R, R및 R는동일하거나상이하고; R= C- C탄화수소부분또는 C- C탄화수소부분이며, 상기하나이상의탄소원자는헤테로원자에의해치환되고; n = 1 - 3 임).
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公开(公告)号：KR1020150088307A
公开(公告)日：2015-07-31
申请号：KR1020157016894
申请日：2013-11-12
Applicant: 아토테크더치랜드게엠베하
Inventor： 브루너하이코 , 뢸프스베른트 , 비트착아그니에시카 , 콜만라르스 , 만올리비에 , 오데크리슈티안 , 방게르터티모 , 페로안젤로 , 키르브스안드레아스 , 슈뫼켈안드레 , 로데디르크 , 악커만슈테파니
IPC: C25D3/38 , C25D3/58 , H01L21/288
CPC classification number: C25D3/38 , C25D3/58 , C25D5/02 , H01L21/2885 , H01L21/76898
Abstract: 본발명은전자응용들을위한인쇄회로판, IC 기판, 반도성및 유리디바이스들의제조에서의구리및 구리합금성막을위한수성산성도금욕들에관한것이다. 본발명에따른도금욕은구리이온들, 적어도하나의산, 및양 말단에아미노잔기들을포함하고유기결합할로겐을함유하지않는우레일렌폴리머를포함한다. 그도금욕은, 홈구조들을구리로충전하고필러범프구조들의빌드업에특히유용하다.
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