公开(公告)号：KR1020160143667A

公开(公告)日：2016-12-14

申请号：KR1020167027646

申请日：2015-04-07

Applicant: 아토테크더치랜드게엠베하

Inventor： 주헨트룬크크리슈토프 ,  그룸트카타리나 ,  크라머율리아

IPC: C23C18/44 ,  C23C18/16 ,  C23C18/54 ,  H05K3/24

CPC classification number: C23C18/44 ,  C23C18/1637 ,  C23C18/1651 ,  C23C18/54 ,  H01L21/288 ,  H05K3/187 ,  H05K3/24 ,  H05K3/244 ,  C23C18/1676

Abstract: 본발명은도금조조성물및 기판상의무전해도금에의한팔라듐층의침착방법에관한것이다. 본발명에따른수성산성도금조는팔라듐이온을위한공급원, 환원제, 팔라듐이온을위한질소화착물화제및 하나이상의잔기가친수성잔기이고하나이상의잔기가음성메소메리효과를갖는, 2 개이상의잔기를포함하는방향족화합물로이루어진군으로부터선택되는수용성안정화제를포함한다. 도금조는목적하지않는분해에대한증가된안정성을가지면서, 충분한도금율을유지한다.

Abstract translation: 本发明涉及电镀浴组合物和通过无电镀法沉积到基底上的方法。 根据本发明的酸性电镀浴包含钯离子源，还原剂，钯离子的氮化络合剂和选自包含至少两个残基的芳族化合物的水溶性稳定剂，其中在 至少一个残基是亲水残基，并且至少一个残基具有负的介子效应。 电镀浴具有提高的稳定性，防止不希望的分解，同时保持足够的电镀速率。