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公开(公告)号：KR101658757B1
公开(公告)日：2016-09-21
申请号：KR1020167001230
申请日：2014-06-17
Applicant: 아토테크더치랜드게엠베하
Abstract: 본발명은, 크롬표면을가지는기재, 및니켈, 니켈합금들, 구리및 구리합금들을포함하는군에서선택된, 기재와크롬표면사이적어도하나의중간층의캐소딕부식방지방법에관한것으로, 상기크롬표면은, 상기기재, 적어도하나의애노드및 수용액으로전류를통과시키면서인을함유한적어도하나의화합물을포함하는수용액과접촉되고상기기재는캐소드로서역할을한다. 인화합물은바람직하게 RR2R3P03 유형의포스폰산이고, R 은 n-옥틸, n-노닐, n-데실, n-운데실, n-도데실, n-트리데실, n-테트라데실, n-펜타데실, n-헥사데실, n-헵타데실, n-옥타데실, 비치환된분지형 C8 ~ C18 알킬잔기들로구성된군에서선택되고, R2 및 R3 은 H 또는 Li+, Na+, K+ 및 NH4+ 에서선택된적합한카운터이온이다. 수용액은또한포스폰산의용해도를높이는적어도하나의첨가제를포함한다.
Abstract translation: 本发明中，具有铬表面的衬底，和镍，涉及镍合金，选择的铜和铜合金中包含haneungun，基材和防止铬的阴极腐蚀过程中，铬表面的表面之间的至少一个中间层 所述基材，至少一个阳极和包含至少一种含磷的化合物的水溶液通过所述水溶液，所述基材用作所述阴极。 该化合物是优选RR2R3P03类型的膦酸，R是正辛基，正壬基，正癸基，正十一烷基，正十二烷基，正十三烷基，正十四烷基，正十五烷基 基，正十六烷基，正十七烷基，正十八烷基，沙滩选自未取代的支链C8〜C18烷基残基的组中选择，R 2和R 3是H或Li +，钠+，K +和NH 4从选择了合适的+ 这是一个反面离子。 水溶液还包含至少一种增强膦酸溶解度的添加剂。
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公开(公告)号：KR102161944B1
公开(公告)日：2020-10-06
申请号：KR1020207008219
申请日：2018-10-16
Applicant: 아토테크더치랜드게엠베하
IPC: C25D3/38
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公开(公告)号：KR1020160017093A
公开(公告)日：2016-02-15
申请号：KR1020167001230
申请日：2014-06-17
Applicant: 아토테크더치랜드게엠베하
Abstract: 본발명은, 크롬표면을가지는기재, 및니켈, 니켈합금들, 구리및 구리합금들을포함하는군에서선택된, 기재와크롬표면사이적어도하나의중간층의캐소딕부식방지방법에관한것으로, 상기크롬표면은, 상기기재, 적어도하나의애노드및 수용액으로전류를통과시키면서인을함유한적어도하나의화합물을포함하는수용액과접촉되고상기기재는캐소드로서역할을한다. 인화합물은바람직하게 RR2R3P03 유형의포스폰산이고, R 은 n-옥틸, n-노닐, n-데실, n-운데실, n-도데실, n-트리데실, n-테트라데실, n-펜타데실, n-헥사데실, n-헵타데실, n-옥타데실, 비치환된분지형 C8 ~ C18 알킬잔기들로구성된군에서선택되고, R2 및 R3 은 H 또는 Li+, Na+, K+ 및 NH4+ 에서선택된적합한카운터이온이다. 수용액은또한포스폰산의용해도를높이는적어도하나의첨가제를포함한다.
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公开(公告)号：KR1020140119123A
公开(公告)日：2014-10-08
申请号：KR1020147022888
申请日：2012-11-27
Applicant: 아토테크더치랜드게엠베하
Abstract: 본 발명은, 2가 황을 포함하는 유기 화합물을 포함하지 않는 수성 구리 전해질로부터 제 1 구리 층이 성막되는 무광 구리 코팅의 성막 방법에 관한 것이다. 그 후에, 제 2 구리 층이, 제 1 및 제 2 수용성 황 함유 첨가물을 포함하는 수성 구리 전해질로부터 제 1 구리 층 상에 성막되고, 제 1 수용성 황 함유 화합물은 알킬 술폰산 유도체이고 제 2 수용성 황 함유 첨가물은 방향족 술폰산 유도체이다. 본 방법은, 장식 용도를 위한 균일하고 조정가능한 무광 외관을 갖는 구리 층들을 제공한다.
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