구리의 전해 성막을 위한 수성 산욕 및 방법
    2.
    发明授权
    구리의 전해 성막을 위한 수성 산욕 및 방법 有权
    铜的电解沉积的水性,酸浴和方法

    公开(公告)号:KR101536029B1

    公开(公告)日:2015-07-10

    申请号:KR1020107019751

    申请日:2009-04-27

    CPC classification number: C25D3/38 C25D5/18 H05K3/421 H05K3/423

    Abstract: 특히, 블라인드마이크로비아 (BMV) 및트렌치에서매우균일한구리성막물을형성시키기위해, 구리의전해성막을위한수성산욕이제공되고, 상기욕은적어도 1 종의구리이온공급원, 적어도 1 종의산 이온공급원, 적어도 1 종의광택제화합물및 적어도 1 종의레벨러화합물을함유하고, 적어도 1 종의레벨러화합물은합성적으로생성된비기능화된펩티드및 합성적으로생성된기능화된펩티드및 합성적으로생성된기능화된아미노산을포함하는그룹으로부터선택된다.

    Abstract translation: 水性酸浴至少包含铜离子源,至少一种酸离子源,至少一种增亮化合物和至少一种包含未官能化肽的水平化合物,或合成产生的和官能化的氨基酸和肽。 包括用于在工件上电解铜沉积工艺的独立权利要求,包括提供用于电解沉积铜和至少阳极的水性酸浴,所述阳极与所述工件和所述阳极接触所述含水酸浴,并产生 工件和阳极之间的电流流动,铜沉积在工件上。

    무광 구리 성막물의 제조 방법
    4.
    发明公开
    무광 구리 성막물의 제조 방법 审中-实审
    生产铜铜沉积物的方法

    公开(公告)号:KR1020140119123A

    公开(公告)日:2014-10-08

    申请号:KR1020147022888

    申请日:2012-11-27

    CPC classification number: C25D3/38 C25D5/10

    Abstract: 본 발명은, 2가 황을 포함하는 유기 화합물을 포함하지 않는 수성 구리 전해질로부터 제 1 구리 층이 성막되는 무광 구리 코팅의 성막 방법에 관한 것이다. 그 후에, 제 2 구리 층이, 제 1 및 제 2 수용성 황 함유 첨가물을 포함하는 수성 구리 전해질로부터 제 1 구리 층 상에 성막되고, 제 1 수용성 황 함유 화합물은 알킬 술폰산 유도체이고 제 2 수용성 황 함유 첨가물은 방향족 술폰산 유도체이다. 본 방법은, 장식 용도를 위한 균일하고 조정가능한 무광 외관을 갖는 구리 층들을 제공한다.

    구리의 전해 성막을 위한 수성 산욕 및 방법
    7.
    发明公开
    구리의 전해 성막을 위한 수성 산욕 및 방법 有权
    铜的电解沉积的水性,酸浴和方法

    公开(公告)号:KR1020100135736A

    公开(公告)日:2010-12-27

    申请号:KR1020107019751

    申请日:2009-04-27

    CPC classification number: C25D3/38 C25D5/18 H05K3/421 H05K3/423 C25D1/02

    Abstract: 특히, 블라인드 마이크로 비아 (BMV) 및 트렌치에서 매우 균일한 구리 성막물을 형성시키기 위해, 구리의 전해 성막을 위한 수성 산욕이 제공되고, 상기 욕은 적어도 1 종의 구리 이온 공급원, 적어도 1 종의 산 이온 공급원, 적어도 1 종의 광택제 화합물 및 적어도 1 종의 레벨러 화합물을 함유하고, 적어도 1 종의 레벨러 화합물은 합성적으로 생성된 비기능화된 펩티드 및 합성적으로 생성된 기능화된 펩티드 및 합성적으로 생성된 기능화된 아미노산을 포함하는 그룹으로부터 선택된다.

    Abstract translation: 水性酸浴至少包含铜离子源,至少一种酸离子源,至少一种增亮化合物和至少一种包含未官能化肽的水平化合物,或合成产生的和官能化的氨基酸和肽。 包括用于在工件上电解铜沉积工艺的独立权利要求,包括提供用于电解沉积铜和至少阳极的水性酸浴,所述阳极与所述工件和所述阳极接触所述含水酸浴,并产生 工件和阳极之间的电流流动,铜沉积在工件上。

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