公开(公告)号：KR101260401B1

公开(公告)日：2013-05-07

申请号：KR1020117001230

申请日：2010-02-19

Applicant: 아토테크더치랜드게엠베하

Inventor： 브루델러,알렉스 ,  헐버트,위르겐 ,  훈지커,막스 ,  프로스트,미셸

IPC: B05D1/38 ,  B05D1/12 ,  B05B7/14

CPC classification number: B05C19/04 ,  B05C9/12 ,  B05C9/14 ,  B05C19/02 ,  B05C19/06 ,  B05D1/30 ,  B05D3/007 ,  B05D3/0254 ,  B05D2401/32 ,  H05K3/022 ,  H05K2201/0358 ,  H05K2203/1355 ,  H05K2203/1545

Abstract: 다음단계를포함하는기판의상부면상에 200 ㎛보다작은층 두께를가지는플라스틱층을형성하기위한방법: -파우더스캐터링장치(powder scattering device)에의하여기판상부면으로플라스틱파우더를도포하는단계, -그후 상기기판하부면을세척하는(cleaning) 단계, -그후 상기기판상에플라스틱층이형성되도록화로(furnace)에서도포된플라스틱파우더를녹이는(melting) 단계, 및 -상기기판의냉각(cooling) 단계, 여기에서, 상기기판은끊임없이단계에서단계로운반됨.

公开(公告)号：KR1020110022680A

公开(公告)日：2011-03-07

申请号：KR1020117001230

申请日：2010-02-19

Applicant: 아토테크더치랜드게엠베하

Inventor： 브루델러,알렉스 ,  헐버트,위르겐 ,  훈지커,막스 ,  프로스트,미셸

IPC: B05D1/38 ,  B05D1/12 ,  B05B7/14

CPC classification number: B05C19/04 ,  B05C9/12 ,  B05C9/14 ,  B05C19/02 ,  B05C19/06 ,  B05D1/30 ,  B05D3/007 ,  B05D3/0254 ,  B05D2401/32 ,  H05K3/022 ,  H05K2201/0358 ,  H05K2203/1355 ,  H05K2203/1545

Abstract: 다음 단계를 포함하는 기판의 상부 면상에 200 ㎛보다 작은 층 두께를 가지는 플라스틱 층을 형성하기 위한 방법:
-파우더 스캐터링 장치(powder scattering device)에 의하여 기판 상부 면으로 플라스틱 파우더를 도포하는 단계,
-그 후 상기 기판 하부 면을 세척하는(cleaning) 단계,
-그 후 상기 기판 상에 플라스틱 층이 형성되도록 화로(furnace)에서 도포된 플라스틱 파우더를 녹이는(melting) 단계, 및
-상기 기판의 냉각(cooling) 단계,
여기에서, 상기 기판은 끊임없이 단계에서 단계로 운반됨.