公开(公告)号：KR101136258B1

公开(公告)日：2012-04-20

申请号：KR1020110008937

申请日：2011-01-28

Applicant: 연세대학교 산학협력단

Inventor： 민병권 ,  조항은 ,  한진 ,  강성묵 ,  박경수 ,  박노철 ,  이상조

IPC: G02B6/13 ,  G11B7/12

CPC classification number: G02B6/132 ,  B82Y30/00 ,  G02B5/008 ,  G02B6/107 ,  G02B6/1226

Abstract: PURPOSE: A method for manufacturing an element formed with a metal film having a nano opening inside, a nano element manufactured by the same, an optical lens, and a plasmonic optical head are provided to enable the formation of a nano-sized geometric base plate and a nano opening into the desired shape to the desired depth. CONSTITUTION: A sacrificial layer is formed on the surface of an object(S2). A first metal thin film layer is laminated on the sacrificial layer(S3). A focused ion beam passes through the first metal thin film layer and the sacrificial layer, and a groove is formed in the object(S4). A metal layer is reformed on one side of the object, and a second metal thin film layer is formed inside the groove(S5). The sacrificial layer is removed from the surface of the object(S6).

Abstract translation: 目的：制造由内部具有纳米孔的金属膜形成的元件，由其制造的纳米元件，光学透镜和等离子体激元光学头的方法，以形成纳米尺寸的几何基板 以及将所需形状的纳米开口切成希望的深度。 构成：在物体的表面上形成牺牲层（S2）。 在牺牲层上层叠第一金属薄膜层（S3）。 聚焦离子束通过第一金属薄膜层和牺牲层，并且在物体中形成凹槽（S4）。 在物体的一侧重新形成金属层，在槽内形成第二金属薄膜层（S5）。 牺牲层从物体表面去除（S6）。

公开(公告)号：KR1020110043038A

公开(公告)日：2011-04-27

申请号：KR1020090099961

申请日：2009-10-20

Applicant: 연세대학교 산학협력단

Inventor： 민병권 ,  이상조 ,  한진

IPC: G02B26/08

CPC classification number: G02B26/0858 ,  G02B7/182 ,  G02B26/0808 ,  G02B27/4205 ,  G09G3/346

Abstract: PURPOSE: A reflection light control unit and a control method by pattern control or incident light control, and optical display device and reflection light control system using the same are provided to control a pattern including a radiation unit radiating an incident having a specific wavelength and incident angle on the surface of medium. CONSTITUTION: In a reflection light control unit and a control method by pattern control or incident light control, and optical display device and reflection light control system using the same, medium has a certain pattern on the surface of the medium and has the pitch and shape of the pattern which are changed from outer stimulus. The stimulus unit applies stimulus to the medium to control the pitch and shape of the pattern which is formed on the surface of the medium. A radiation unit radiates a light having a specific wavelength and an incident on the surface of the medium.

Abstract translation: 目的：提供一种反射光控制单元和通过图案控制或入射光控制的控制方法，以及使用其的光学显示装置和反射光控制系统，以控制包括辐射具有特定波长和事件的事件的辐射单元的图案 介质表面的角度。 构成：在反射光控制单元和通过图案控制或入射光控制的控制方法以及使用其的光学显示装置和反射光控制系统中，介质在介质表面上具有一定的图案，并具有间距和形状 从外部刺激变化的模式。 刺激单元对介质施加刺激以控制形成在介质表面上的图案的间距和形状。 辐射单元辐射具有特定波长并入射在介质表面上的光。

公开(公告)号：KR1020110027289A

公开(公告)日：2011-03-16

申请号：KR1020090085307

申请日：2009-09-10

Applicant: 연세대학교 산학협력단

Inventor： 민병권 ,  이상조 ,  한진

IPC: B82B3/00

CPC classification number: B82B3/0061 ,  B01J19/08 ,  B82Y30/00 ,  B82Y40/00

Abstract: PURPOSE: A dot-size controlling method for a nano metal structure, a manufacturing method for the nano metal structure using the same, and an ion irradiation system for fin metal processing are provided to form nano-dots with desired shapes and sizes by implementing an ion irradiation process based on a threshold ion dose. CONSTITUTION: A threshold ion dose for target metal is determined based on the linear function of data with respect to the nano-dot size values of metal structures on a substrate. The nano-dot size values are varied according to the interval and the amount of ion irradiation. The amount of ion irradiation with respect to a metal layer is controlled in order to control the nano dot sizes of the metal structures on the substrate. The metal layer is eliminated.

Abstract translation: 目的：提供一种用于纳米金属结构的点尺寸控制方法，使用该纳米金属结构的纳米金属结构体的制造方法和用于翅片金属加工的离子辐射系统，以通过实施所需的形状和尺寸形成纳米点 基于阈值离子剂量的离子照射过程。 构成：基于相对于衬底上的金属结构的纳米点尺寸值的数据的线性函数来确定靶金属的阈值离子剂量。 纳米点尺寸值根据间隔和离子照射量而变化。 控制相对于金属层的离子照射量，以便控制衬底上的金属结构的纳米点尺寸。 消除金属层。

公开(公告)号：KR100788796B1

公开(公告)日：2007-12-27

申请号：KR1020060114415

申请日：2006-11-20

Applicant: 연세대학교 산학협력단

Inventor： 민병권 ,  이상조 ,  한진 ,  김욱배

IPC: H01L21/027 ,  B82Y40/00

CPC classification number: B82B3/0014 ,  B82B3/0004

Abstract: A method for manufacturing a nano structure using a focused ion beam and an MRF(Magneto-Rheological Fluid) is provided to reduce a manufacturing process procedure by performing two stage nano structure manufacturing processes. A focused ion beam is irradiated on a part of the surface of a test piece(2) to implant ion into an ion implantation portion(4) of the test piece during a first stage nano structure manufacturing structure. Mechanical and physical properties of the ion implantation portion increases than those of an ion non-implantation portion(6) where the ion implantation is not performed. A fine structure of the test piece is processed by using an MRF during a second stage nano structure manufacturing process.

Abstract translation: 提供使用聚焦离子束和MRF（磁流变流体）制造纳米结构的方法，以通过进行两阶段纳米结构制造工艺来减少制造工艺过程。 在第一阶段纳米结构制造结构中，将聚焦离子束照射在测试片（2）的表面的一部分上以将离子注入到试片的离子注入部分（4）中。 离子注入部分的机械和物理性能比不进行离子注入的离子非注入部分（6）的机械和物理性质增加。 通过在第二阶段纳米结构制造工艺中使用MRF来处理试样的精细结构。

公开(公告)号：KR101163638B1

公开(公告)日：2012-07-06

申请号：KR1020090085307

申请日：2009-09-10

Applicant: 연세대학교 산학협력단

Inventor： 민병권 ,  이상조 ,  한진

IPC: B82B3/00

Abstract: 본 발명은 나노 금속 구조물의 도트(dot) 크기 조절 방법을 이용한 나노 금속 구조물의 제조 방법에 관한 것으로 더욱 상세하게는, 본 발명은 i) 이온의 조사 간격 및 조사량에 따른 기판상에 형성되는 금속 구조물의 나노 도트 크기 수치 데이터들의 선형 함수를 통하여 해당 금속의 문턱 이온 조사량을 결정하는 제1단계, 및 ii) 상기 문턱 이온 조사량을 초과하는 이온 주입량을 가지는 조사 범위가 기판상에 형성하고자 하는 금속 구조물의 나노 도트 크기와 일치하도록, 금속 층에 조사되는 이온 조사량을 조절하는 제2단계를 포함하는 나노 금속 구조물의 도트 크기 조절 방법을 이용한 나노 금속 구조물의 제조 방법에 대한 것이다.
나노, 금속, 이온 빔, 문턱 이온 조사량, 도트

公开(公告)号：KR101078895B1

公开(公告)日：2011-11-01

申请号：KR1020090099961

申请日：2009-10-20

Applicant: 연세대학교 산학협력단

Inventor： 민병권 ,  이상조 ,  한진

IPC: G02B26/08

Abstract: 본발명은패턴제어또는입사광제어를이용한반사광제어유닛및 반사광제어방법과, 이를이용한광학적디스플레이장치및 반사광제어시스템에관한것이다. 더욱상세하게는, 본발명은 i) 표면에일정한패턴이형성되며, 외부자극에의해상기패턴의피치및 형상이변화하는매질, ii) 상기매질에자극을가하는자극수단및 iii) 상기매질표면에특정파장및 입사각을가지는입사광을조사하는조사수단을포함하는패턴제어를이용한반사광제어유닛과, i) 표면에일정한피치및 형상을가지는패턴이형성된매질; ii) 상기매질표면에특정파장및 입사각을가지는입사광을조사하는조사수단및 iii) 상기조사수단에서상기매질표면으로조사되는입사광의파장및 입사각을조절하는제어수단을포함하는입사광제어를이용한반사광제어유닛, 및이를이용한반사광제어방법, 광학적디스플레이장치및 반사광제어시스템에대한것이다.

公开(公告)号：KR1020090082825A

公开(公告)日：2009-07-31

申请号：KR1020080008794

申请日：2008-01-28

Applicant: 연세대학교 산학협력단

Inventor： 이상조 ,  민병권 ,  한진 ,  한민희

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027 ,  B82B3/00 ,  B82Y40/00

CPC classification number: G03F7/2004 ,  B82B3/0009 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/2022 ,  G03F7/2063 ,  G03F9/703 ,  H01L21/0275 ,  H01L21/0337

Abstract: A nano-patterning method using focused ion beam is provided to form patterns with microsize and stable space in the same properties and processing condition of a focused ion beam device. A nano-patterning method using focused ion beam comprises the steps of: forming a resist layer on the surface of a processing object, wherein the resist layer is formed by coating at least one of HSQ(hydrogen silsesquioxane), Silicon oxide, PP(Polypropylane film), PMMA(polymethyl methacrylate), and SU-8 photoresist; irradiating focused ion beam on the surface of the object and milling it; and removing the resist layer left on the surface of the object.

Abstract translation: 提供了使用聚焦离子束的纳米图案化方法，以在聚焦离子束装置的相同特性和处理条件下形成具有微尺寸和稳定空间的图案。 使用聚焦离子束的纳米图案化方法包括以下步骤：在加工对象的表面上形成抗蚀剂层，其中通过涂覆HSQ（氢倍半硅氧烷），氧化硅，PP（聚丙烷）中的至少一种形成抗蚀剂层 膜），PMMA（聚甲基丙烯酸甲酯）和SU-8光致抗蚀剂; 将聚焦离子束照射在物体的表面上并对其进行研磨; 并且去除留在物体表面上的抗蚀剂层。

公开(公告)号：KR101082536B1

公开(公告)日：2011-11-10

申请号：KR1020090099661

申请日：2009-10-20

Applicant: 연세대학교 산학협력단

Inventor： 민병권 ,  이상조 ,  한진

IPC: H01L21/027 ,  H01L21/268

Abstract: 본발명은스텐실마스크조립체및 이를이용한빔 조사장치와빔 조사방법에관한것이다. 더욱상세하게는, 본발명은기판상의빔 조사공정에서사용되는스텐실마스크에있어서, i) 서로결합및 분리가가능한다수의마스크유닛; 및 ii) 상기다수의마스크유닛에각각연결되는미세액추에이터;로구성되는스텐실마스크조립체및 이를이용한빔 조사장치와빔 조사방법에대한것이다.

公开(公告)号：KR1020110042819A

公开(公告)日：2011-04-27

申请号：KR1020090099661

申请日：2009-10-20

Applicant: 연세대학교 산학협력단

Inventor： 민병권 ,  이상조 ,  한진

IPC: H01L21/027 ,  H01L21/268

CPC classification number: G03F1/70 ,  G03F1/42 ,  G03F1/78 ,  G03F7/12 ,  H01J37/3174

Abstract: PURPOSE: A stencil mask assembly, a beam irradiation device using the same, and a beam irradiation method thereof are provided to form various patterns stably even on the thin film using a plurality of mask units which can be combined or separated. CONSTITUTION: A plurality of mask units(10) are detachable. A micro actuator(20) is connected to the plurality of mask units, respectively. The plurality of mask units are combined or separated according to the driving of the micro actuators to form a beam transmitting area of a certain pattern. The contact surface where the plurality of mask units meshes with has the shape of line or curve.

Abstract translation: 目的：提供一种模板掩模组件，使用其的光束照射装置及其光束照射方法，以便使用可以组合或分离的多个掩模单元即使在薄膜上也能稳定地形成各种图案。 构成：多个掩模单元（10）可拆卸。 微致动器（20）分别连接到多个掩模单元。 多个掩模单元根据微型致动器的驱动而组合或分离，以形成某种图案的光束透射区域。 多个掩模单元啮合的接触表面具有线或曲线的形状。

公开(公告)号：KR100995407B1

公开(公告)日：2010-11-18

申请号：KR1020080008794

申请日：2008-01-28

Applicant: 연세대학교 산학협력단

Inventor： 이상조 ,  민병권 ,  한진 ,  한민희

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027 ,  B82B3/00 ,  B82Y40/00

Abstract: 본 발명은 집속이온빔을 이용한 나노패턴 형성방법에 관한 것으로, 가공대상물의 표면에 레지스트층을 형성하는 레지스트형성단계; 집속이온빔을 상기 레지스트층이 형성된 가공대상물의 표면에 조사하여 밀링하는 이온빔가공단계; 및 상기 가공대상물의 표면에 잔존된 레지스트층을 제거하는 레지스트제거단계;를 포함하여 구성됨을 기술적 요지로 하여, 집속이온빔을 이용하여 나노패턴을 형성함에 있어서, 지정면적 내에 보다 조밀하게 패턴을 형성가능하면서도 균일한 사이즈와 일정한 간격으로 형성시킬 수 있는 집속이온빔을 이용한 나노패턴 형성방법에 관한 것이다.
집속이온빔 나노패턴 레지스트 오버랩