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公开(公告)号：KR101771362B1
公开(公告)日：2017-08-24
申请号：KR1020160088902
申请日：2016-07-13
Applicant: 연세대학교 산학협력단 , 성균관대학교산학협력단
IPC: G01N7/04 , G01N27/414 , G01N33/00 , G01N1/14
CPC classification number: G01N7/04 , G01N1/14 , G01N27/4141 , G01N33/005
Abstract: 본발명은가스감응형나노엑츄에이터및 그제조방법을개시한다. 본발명의일 실시예에따른가스감응형나노엑츄에이터는복수개의나노필러어레이를포함하는폴리머기판및 상기복수개의나노필러어레이의일면에비대칭으로형성된금속막을포함하고, 상기금속막은외부가스와반응하며, 상기반응에따른부피변화를기반으로상기나노필러어레이의형태가변화하는것을통해가스를검지하는것을특징으로한다.
Abstract translation: 本发明公开了一种气敏纳米致动器及其制造方法。 气体敏感的纳米促动器根据本发明的一个实施例包括多个所述聚合物衬底的非对称地在一侧上与所述多个纳米柱阵列的，其包括纳米柱阵列，形成金属膜，并且与金属膜的气体的外部的反应，并 并基于由反应引起的体积变化通过改变纳米柱阵列的形态来检测气体。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR1020140079591A
公开(公告)日：2014-06-27
申请号：KR1020120147475
申请日：2012-12-17
Applicant: 연세대학교 산학협력단
Abstract: The present invention relates to a device and a method for controlling surface wetting properties of materials and a lab-on-a-chip using the same. The lab-on-a-chip includes a substrate, a channel which is formed on the substrate and forms a movement path for a sample, and a reactive gas supply unit which supplies reactive gas to the channel. The channel is includes a rough surface material which is formed on the substrate and has roughness larger than the substrate and a reactive material which is formed on the rough surface material and changes its volume by reacting with reactive gas.
Abstract translation: 本发明涉及一种用于控制材料的表面润湿性能的装置和方法，以及使用其的芯片实验室。 芯片实验室包括基板，形成在基板上并形成用于样品的运动路径的通道，以及向通道提供反应性气体的反应气体供应单元。 该通道包括粗糙表面材料，其形成在基底上并具有大于基底的粗糙度和形成在粗糙表面材料上的反应性材料，并通过与反应性气体反应而改变其体积。
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公开(公告)号：KR101774709B1
公开(公告)日：2017-09-04
申请号：KR1020160136464
申请日：2016-10-20
Applicant: 연세대학교 산학협력단
Abstract: 본발명은세포자극장치를개시한다. 본발명의일 실시예에의한세포자극장치는, 세포를수용하는세포수용홈이적어도하나이상형성되고, 상기세포수용홈의저면이신축성있는재질로형성되는세포수용부; 및상기세포수용부를지지하고, 상기세포수용부에압력을인가하여상기세포수용홈을변형시키는압력조절부;를포함한다.
Abstract translation: 本发明公开了一种细胞刺激装置。 根据本发明的一个实施例中，和一个单元容纳凹部，用于接收所述至少一个小区，以形成含有部分中的小区的小区刺激由一种材料与小区接收槽弹性的下表面形成; 以及用于修改所述小区接收部分上的压力控制单元，和支撑，并且施加到所述压力单元接收单元接收到所述家庭小区;以及。
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公开(公告)号：KR101411441B1
公开(公告)日：2014-07-01
申请号：KR1020120147475
申请日：2012-12-17
Applicant: 연세대학교 산학협력단
Abstract: 본 발명은 물질의 표면 젖음 특성 조절 장치와 방법, 및 이를 이용한 랩온어칩에 관한 것으로, 기판과, 기판상에 형성되며 시료의 이동 경로를 형성하는 채널, 및 채널에 반응 기체를 공급하는 반응기체 공급부를 포함하며, 상기 채널은, 기판상에 형성되며 기판보다 큰 표면 거칠기를 갖는 거친 표면 물질, 및 거친 표면 물질에 형성되며, 상기 반응 기체와 반응하여 부피가 변화하는 반응 물질을 포함하는 랩온어칩을 제공한다.
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公开(公告)号：KR101335714B1
公开(公告)日：2013-12-05
申请号：KR1020120064344
申请日：2012-06-15
Applicant: 연세대학교 산학협력단
IPC: H01L21/31
CPC classification number: H01L29/1606 , H01L21/02527 , H01L21/0262
Abstract: The present invention relates to a graphene diffusion preventing layer and an electronic device using the same. The electronic device includes a silicon layer, a metal layer, and a graphene layer. The graphene layer is located between the silicon layer and the metal layer. The graphene layer is formed with a CVD method.
Abstract translation: 本发明涉及一种石墨烯扩散防止层及使用其的电子装置。 电子器件包括硅层，金属层和石墨烯层。 石墨烯层位于硅层和金属层之间。 石墨烯层由CVD法形成。
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