公开(公告)号：KR1020030079610A

公开(公告)日：2003-10-10

申请号：KR1020020018785

申请日：2002-04-06

Applicant: 재단법인서울대학교산학협력재단

Inventor： 이정중 ,  임주완 ,  이승훈

IPC: C23C16/455 ,  B82Y40/00

CPC classification number: C23C16/45523 ,  C23C16/34

Abstract: PURPOSE: A plasma chemical vapor deposition equipment for manufacturing nano-scale multilayer film having ultra-high hardness and multiple functions using plasma chemical deposition and chemical vapor deposition is provided, and an automatic valve control system of the chemical vapor deposition equipment is provided. CONSTITUTION: In a system for manufacturing a multilayer thin film using plasma chemical vapor deposition and chemical vapor deposition, the automatic valve control system(20) of plasma chemical vapor deposition equipment and chemical vapor deposition equipment for manufacturing nano-scale multilayer film comprises a chamber(10) in which at least two or more components are formed into a multilayer thin film by plasma chemical deposition and chemical vapor deposition; at least two source supply parts(25,26) for supplying a reaction material including components composing any one layer in the multilayer thin film; at least two paths(22,23) the middle part of which is connected to the respective source supply parts, one end of which is connected to the chamber, and the other end of which is connected to bypass pipe for controlling flux; a vacuum pump connected to the bypass pipe; and at least four valves(27 to 30) opened and closed with being installed at both sides of the respective paths centering around a connection region of the respective source supply parts.

Abstract translation: 目的：提供一种用于制造具有超高硬度和多功能的纳米级多层膜的等离子体化学气相沉积设备，其使用等离子体化学沉积和化学气相沉积，并提供了化学气相沉积设备的自动阀控制系统。 构成：在使用等离子体化学气相沉积和化学气相沉积制造多层薄膜的系统中，用于制造纳米级多层膜的等离子体化学气相沉积设备和化学气相沉积设备的自动阀控制系统（20）包括室 （10），其中通过等离子体化学沉积和化学气相沉积将至少两种或更多种组分形成为多层薄膜; 至少两个源供应部件（25,26），用于在多层薄膜中提供包括构成任何一层的组分的反应材料; 至少两个路径（22,23），其中间部分连接到相应的源供应部分，其一端连接到所述室，并且其另一端连接到用于控制焊剂的旁路管道; 连接到旁通管的真空泵; 并且至少四个阀（27至30）以围绕各个源供应部分的连接区域的相应路径的两侧开启和关闭。

公开(公告)号：KR100779245B1

公开(公告)日：2007-11-29

申请号：KR1020060077199

申请日：2006-08-16

Applicant: 재단법인서울대학교산학협력재단

Inventor： 성영은 ,  유성종 ,  임주완

IPC: C01B25/30 ,  C01D15/10 ,  G02F1/15

Abstract: 본 발명은 고체 무기전해질 보호막을 이용한 전기변색소자 및 그 제조방법에 관한 것으로, 본 발명의 전기 변색 소자는 전기변색층(electrochromic layer), 전해질층(electrolyte layer), 상대전극층(counterelectrod layer)을 포함하고, 상기 전기변색층 및 상대전극층 중 적어도 어느 한 층과 상기 전해질층과의 계면에 고체 무기전해질막을 보호막으로 포함하는데 그 특징이 있다. 본 발명의 전기변색소자는 기존의 전기변색소자보다 내구성이 뛰어나며, 탈색·변색 응답 속도가 빠르고, 시간에 따른 기억성 효과가 뛰어나 상업적으로 전기변색소자를 구현하는 공정에 유용하게 적용될 수 있다.
전기변색소자, 보호막, 내구성, 투과도, 기억성, 고체 무기 전해질막

公开(公告)号：KR1020070034431A

公开(公告)日：2007-03-28

申请号：KR1020060077199

申请日：2006-08-16

Applicant: 재단법인서울대학교산학협력재단

Inventor： 성영은 ,  유성종 ,  임주완

IPC: C01B25/30 ,  C01D15/10 ,  G02F1/15

CPC classification number: G02F1/1506 ,  C01B25/30 ,  C01D15/10

Abstract: 본 발명은 고체 무기전해질 보호막을 이용한 전기변색소자 및 그 제조방법에 관한 것으로, 본 발명의 전기 변색 소자는 전기변색층(electrochromic layer), 전해질층(electrolyte layer), 상대전극층(counterelectrod layer)을 포함하고, 상기 전기변색층 및 상대전극층 중 적어도 어느 한 층과 상기 전해질층과의 계면에 고체 무기전해질막을 보호막으로 포함하는데 그 특징이 있다. 본 발명의 전기변색소자는 기존의 전기변색소자보다 내구성이 뛰어나며, 탈색·변색 응답 속도가 빠르고, 시간에 따른 기억성 효과가 뛰어나 상업적으로 전기변색소자를 구현하는 공정에 유용하게 적용될 수 있다.
전기변색소자, 보호막, 내구성, 투과도, 기억성, 고체 무기 전해질막

Abstract translation: 本发明涉及一种电致变色器件和使用该固体无机电解质保护膜的制造方法，本发明的电致变色器件包括电致变色层（电致变色层），电解质层（电解质层），外部电极层（counterelectrod层） 并且在电致变色层和对电极层中的至少一个与电解质层之间的界面上作为保护膜的固体无机电解质膜。 本发明的电致变色器件具有优异的耐久性相比于常规电致变色器件，变色＆middot;可以应用到在响应速度和优异的随时间​​的存储型效果的颜色变化为商业上实现电致变色装置的步骤是有用的。

公开(公告)号：KR100479639B1

公开(公告)日：2005-03-30

申请号：KR1020020018785

申请日：2002-04-06

Applicant: 재단법인서울대학교산학협력재단

Inventor： 이정중 ,  임주완 ,  이승훈

IPC: C23C16/455 ,  B82Y40/00

CPC classification number: C23C16/45523 ,  C23C16/34

Abstract: 본 발명은 초고경도 및 다기능을 가지는 나노 스케일(nano-scale)의 다층 박막의 제조를 위한 화학 기상 증착 장치 및 이를 이용한 다층 박막 증착 방법에 관한 것이다.
본 발명은 플라즈마 화학 기상 증착법 및 화학 기상 증착 장비를 이용하여 다층 박막을 제조하기 위한 시스템에 있어서, 플라즈마 화학 증착 방식 및 화학 기상 증착 방식으로 적어도 2개 이상의 성분으로 다층 박막 형성이 가능한 챔버와; 다층 박막 중 각각 어느 한 층을 구성하는 성분을 포함하는 반응 물질을 공급해 주는 적어도 2개의 소스 공급부와; 상기 각 소스 공급부에 그 중간이 연결되고, 각각의 일단은 상기 챔버에 연결되고, 각각의 타단은 유량 조절을 위한 우회관에 연결되는 적어도 2개의 경로와; 상기 우회관에 연결되는 진공 펌프와; 상기 각 소스 공급부 연결 부위를 중심으로 상기 각 경로의 양쪽에 설치되어 개폐되는 적어도 4개의 밸브를 포함하는 것을 특징으로 하는 나노스케일 다층 필름 제조를 위한 플라즈마 화학 기상 증착 장비 및 화학 기상 증착 장비의 자동 밸브 조절 시스템을 제공한다.