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公开(公告)号:KR100703007B1
公开(公告)日:2007-04-06
申请号:KR1020050110044
申请日:2005-11-17
Applicant: 삼성전자주식회사 , 재단법인서울대학교산학협력재단
IPC: G03F7/027
Abstract: 감광성 유기 반사 방지막 형성용 조성물 및 이를 이용한 패턴 형성방법에서, 폴리머막 형성용 조성물은 에폭시기와 산 발생제(PGA)에 의해 분해가 일어나는 산 분해형 열 가교제 0.5 내지 5중량%와 안트라센을 함유하는 아크릴레이트 단량체 또는 안트라센을 함유하는 메타 아크릴레이트 단량체를 포함하는 공중합체 수지 10 내지 22중량%와 광산 발생제 0.1 내지 1중량% 및 여분의 용매를 포함하는 조성을 갖는다. 상기 폴리머막을 식각하여 폴리머막 패턴을 형성한다. 상기한 조성물은 포토레지스트 패턴을 형성하기 위한 현상공정을 수행할 때 함께 현상되는 감광성 유기 반사 방지막을 형성할 수 있다.
Abstract translation: 在组合物中的光敏有机防反射膜,并使用相同的用于形成聚合物层的形成,它包含0.5%至5%的酸可分解的热交联剂(重量)蒽的发生通过与环氧基如权利要求所产生的酸分解的丙烯酸类的组合物的图案形成方法(PGA) 它具有包括单体或甲基丙烯酸酯单体的共聚物树脂10〜22%(重量),0.1至1%(重量)的光酸产生剂和包含含有蒽多余的溶剂的组合物。 聚合物膜被蚀刻以形成聚合物膜图案。 上述组合物可形成光敏有机防反射膜,当进行形成光致抗蚀剂图案的显影工艺时,光敏有机防反射膜与光致抗蚀剂图案一起显影。
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公开(公告)号:KR100960287B1
公开(公告)日:2010-06-07
申请号:KR1020070137500
申请日:2007-12-26
Applicant: 재단법인서울대학교산학협력재단
Abstract: 본 발명은 금 마이크로 입자의 제조 방법에 관한 것으로, 본 발명에 따르면 금 전구체와 폴리옥시에틸렌계 고분자의 혼합물에 할로겐 이온을 첨가한 후 광화학적 방법으로 금 전구체를 환원시킴으로써 마이크로 크기의 금 입자를 균일하게 제조할 수 있다.
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公开(公告)号:KR1020090069731A
公开(公告)日:2009-07-01
申请号:KR1020070137500
申请日:2007-12-26
Applicant: 재단법인서울대학교산학협력재단
Abstract: A method for photochemically preparing gold microparticles using halide ions is provided to manufacture gold microparticles uniformly through simple processes by using a photochemical method. A method for photochemically preparing gold microparticles using halide ions comprises: a step of mixing gold precursor and polyoxyethylene series polymer with the organic solvent; a step of adding the halogen ion in the solution formed in the said step; a step of removing solvent from the solution in which the halogen ion is added; and a step of forming the gold microparticles by optical-chemically processing mixture in which solvent is removed and reducing the gold precursor. The photochemical process is performed by applying the light having the wave length of 200~800nm.
Abstract translation: 提供使用卤离子光学制备金微粒的方法,通过使用光化学方法通过简单的方法均匀地制造金微粒。 使用卤离子光学制备金微粒的方法包括:将金前体和聚氧乙烯系聚合物与有机溶剂混合的步骤; 在所述步骤中形成的溶液中加入卤素离子的步骤; 从其中加入卤素离子的溶液中除去溶剂的步骤; 以及通过光学化学处理混合物形成金微粒的步骤,其中除去溶剂并还原金前体。 通过应用波长为200〜800nm的光进行光化学处理。
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