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公开(公告)号：KR101333692B1
公开(公告)日：2013-11-27
申请号：KR1020090132212
申请日：2009-12-28
Applicant: 제일모직주식회사
IPC: G03F7/039
Abstract: 하기 화학식 1로 표시되는 반복단위를 갖는 폴리벤조옥사졸 전구체(polybenzoxazole precursor); 감광성 디아조퀴논 화합물; 용해 조절제; 및 용매를 포함하고, 상기 용해 조절제는 감광성 디아조퀴논 화합물의 광분해물인 것인 포지티브형 감광성 수지 조성물.
[화학식 1]
(상기 화학식 1에서, X 및 Y는 상세한 설명에 기재된 바와 같다.)
비스-벤조시클로부텐 화합물, 용해 조절제, 디아조퀴논 화합물, 포지티브형, 감광성 수지 조성물Abstract translation: 具有下式（1）所示的重复单元的聚苯并恶唑前体; 光敏重氮醌化合物; 溶解改性剂; 和溶剂，其中，所述溶解控制剂具有正型感光性树脂组合物是光敏重氮醌化合物的光解的水。
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公开(公告)号：KR1020120069293A
公开(公告)日：2012-06-28
申请号：KR1020100130786
申请日：2010-12-20
IPC: G03F7/039 , G03F7/016 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/0233 , H01L23/293 , H01L2924/0002 , H01L21/0273 , G03F7/0163 , G03F7/0166 , G03F7/0395 , G03F7/0397 , H01L21/0274 , H01L2924/00
Abstract: PURPOSE: A positive type photo-sensitive resin composition is provided to improve patter shapes by including polybenzoxazole precursors, photo-sensitive diazoquinone compounds, silane compounds, phenol compounds, and a solvent. CONSTITUTION: A positive type photo-sensitive resin composition includes polybenzoxazole precursors, photo-sensitive diazoquinone compounds, silane compounds, phenol compounds, and a solvent. The polybenzoxazole precursors include repeating units represented by chemical formula 1. In chemical formula 1, X1 and X2 are respectively aromatic organic groups or tetravalent to hexavalent aliphatic organic groups; Y1 is an aromatic organic group or a divalent to hexavalent organic group; R1 and R2 are respectively C1 to C6 alkylene groups; and R3 is a C1 to C6 alkyl group.
Abstract translation: 目的：提供正型感光树脂组合物，通过包括聚苯并恶唑前体，光敏重氮醌化合物，硅烷化合物，酚化合物和溶剂来改善图案形状。 构成：正型感光树脂组合物包括聚苯并恶唑前体，光敏重氮醌化合物，硅烷化合物，酚化合物和溶剂。 聚苯并恶唑前体包括由化学式1表示的重复单元。在化学式1中，X 1和X 2分别是芳族有机基团或四价至六价的脂族有机基团; Y1是芳族有机基团或二价至六价有机基团; R1和R2分别为C1〜C6亚烷基; 且R 3为C 1至C 6烷基。
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公开(公告)号：KR1020110075692A
公开(公告)日：2011-07-06
申请号：KR1020090132213
申请日：2009-12-28
Applicant: 제일모직주식회사
IPC: G03F7/039
CPC classification number: G03F7/039 , C08L79/08 , G03C1/61 , G03F7/0045 , G03F7/0226 , G03F7/0233 , G03F7/0236 , G03F7/0392 , G03F7/105
Abstract: PURPOSE: A positive type photo-sensitive resin composition, a photo-sensitive resin film, and a semiconductor device using the same are provided to obtain the resin film with the superior heat resistance characteristic and maintain the mechanical characteristic of the resin film regardless of hardening temperature. CONSTITUTION: A positive type photo-sensitive resin composition includes polybenzoxazole precursor, a photo-sensitive diazoquinone compound, a bis-benzocyclobutene compound or a polymer obtained from a thermal cross-linking process with respect to the bis-benzocyclobutene compound, and a solvent. The polybenzoxazole precursor includes a repeating unit represented by chemical formula 1 and a repeating unit represented by chemical formula 2. The bis-benzocyclobutene compound is represented by chemical formula 3. In the chemical formulas 1 and 2, the X1 and the X2 are respectively aromatic organic groups. The Y1 is an alicyclic organic group with the double bond or an aliphatic organic group with the double bond. The Y2 is alicyclic organic group or an aliphatic organic group. In the chemical formula 3, the X3 is selected from a group including hetero atom substituted or non-substituted aromatic organic group, alicyclic organic group, aliphatic organic group, and the combination of the same.
Abstract translation: 目的：提供正型感光树脂组合物，感光树脂膜和使用其的半导体器件，以获得具有优异的耐热特性的树脂膜，并且保持树脂膜的机械特性，而与硬化无关 温度。 构成：正型光敏树脂组合物包括聚苯并恶唑前体，光敏重氮醌化合物，双苯并环丁烯化合物或由热交联方法获得的相对于双苯并环丁烯化合物的聚合物和溶剂。 聚苯并恶唑前体包括由化学式1表示的重复单元和由化学式2表示的重复单元。双苯并环丁烯化合物由化学式3表示。在化学式1和2中，X 1和X 2分别是芳族 有机组。 Y1是具有双键的脂环族有机基团或具有双键的脂肪族有机基团。 Y2是脂环族有机基团或脂族有机基团。 在化学式3中，X 3选自包括杂原子取代或未取代的芳族有机基团，脂环族有机基团，脂族有机基团及其组合的组合。
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公开(公告)号：KR1020110054465A
公开(公告)日：2011-05-25
申请号：KR1020090111107
申请日：2009-11-17
Applicant: 제일모직주식회사
CPC classification number: G03F7/039 , C08L79/08 , G03F7/0045 , G03F7/0226 , G03F7/0233 , G03F7/0236 , G03F7/105
Abstract: PURPOSE: A positive type photosensitive resin composition is provided to improve the pattern forming property and the sensitivity by including a polyimide precursor, a photo-sensitive diazoquinone compound, a silane compound, a phenol compound, and a solvent. CONSTITUTION: A positive type photosensitive resin composition includes a polyimide precursor, a photo-sensitive diazoquinone compound, a silane compound, a phenol compound, and a solvent. The polyimide precursor includes a repeating unit represented by chemical formula 1 and a repeating unit represented by chemical formula 2. In the polyimide precursor, the 5 to 50 mol% of the repeating unit represented by chemical formula 1 and 50 to 95 mol% of the repeating unit represented by chemical formula 2.
Abstract translation: 目的：提供一种正型感光性树脂组合物，其通过包含聚酰亚胺前体，感光性重氮醌化合物，硅烷化合物，酚化合物和溶剂来提高图案形成性和灵敏度。 构成：正型感光性树脂组合物包括聚酰亚胺前体，感光性重氮醌化合物，硅烷化合物，酚化合物和溶剂。 聚酰亚胺前体包括由化学式1表示的重复单元和由化学式2表示的重复单元。在聚酰亚胺前体中，由化学式1表示的5〜50摩尔％的重复单元和50〜95摩尔％ 由化学式2表示的重复单元。
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Patent Agency Ranking6.发明授权소수성기를 포함한 다중산 공중합체로 도핑된 전도성고분자 중합체, 전도성 고분자 공중합체 조성물, 전도성고분자 공중합체 조성물막, 및 이를 이용한 유기 광전 소자 有权掺有包含疏水部分的聚合酸的导电聚合物，导电聚合物组合物，薄膜和使用其的光电装置
公开(公告)号：KR100892987B1
公开(公告)日：2009-04-10
申请号：KR1020070017625
申请日：2007-02-21
Applicant: 제일모직주식회사
IPC: C08F297/00 , C08F299/00 , C08J3/22 , H01B1/12
Abstract: 수분흡수력을 억제할 수 있고, 분자 내 다중산의 농도를 줄일 수 있으며, 분자간의 응집현상을 줄여 박막 특성 및 저장안정성이 우수할 뿐만 아니라 유기 광전소자의 효율 특성 및 수명 특성을 향상시킬 수 있는 전도성 고분자 중합체가 제공된다. 본 발명에 따른 전도성 고분자 중합체는 전도성 고분자에 하기 화학식 1로 표시되는 다중산 공중합체가 도핑되어 있는 것을 특징으로 한다.
또한, 이를 이용한 전도성 고분자 공중합체 조성물, 유기광전소자도 함께 제공된다.
전도성, 고분자, 다중산, 도핑, 조성물-
公开(公告)号：KR101423539B1
公开(公告)日：2014-07-25
申请号：KR1020100130786
申请日：2010-12-20
IPC: G03F7/039 , G03F7/016 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/0233 , H01L23/293 , H01L2924/0002 , H01L2924/00
Abstract: (A) 하기 화학식 1의 반복단위를 포함하는 폴리벤조옥사졸 전구체; (B) 감광성 디아조퀴논 화합물; (C) 실란 화합물; (D) 페놀 화합물; 및 (E) 용매를 포함하는 것인 포지티브형 감광성 수지 조성물이 제공된다.
[화학식 1]
상기 식에서, 각 치환기의 정의는 명세서에 정의된 것과 동일하다.-
公开(公告)号：KR101400191B1
公开(公告)日：2014-05-27
申请号：KR1020100134927
申请日：2010-12-24
Applicant: 제일모직주식회사
Abstract: (A) 하기 화학식 1로 표시되는 폴리아마이드 고분자, (B) 에스테르화된 퀴논디아지드 화합물, (C) 페놀 노볼락 수지, 및 (D) 용매를 포함하는 포지티브형 감광성 수지 조성물, 및 이를 이용한 감광성 수지막을 제공한다.
[화학식 1]
(상기 화학식 1에서 각 치환기의 정의는 명세서에 정의된 것과 동일하다.)-
公开(公告)号：KR101333698B1
公开(公告)日：2013-11-27
申请号：KR1020090108273
申请日：2009-11-10
Applicant: 제일모직주식회사
CPC classification number: G03F7/0233 , G03F7/40
Abstract: (A) 하기 화학식 1로 표시되는 반복단위, 하기 화학식 2로 표시되는 반복단위, 또는 이들의 조합을 포함하고, 적어도 한 쪽의 말단 부분에 열중합성 관능기를 갖는 폴리벤조옥사졸 전구체, (B) 감광성 디아조퀴논 화합물, (C) 실란 화합물, (D) 가교성 관능기를 가지는 페놀 화합물 및 (E) 용매를 포함하는 포지티브형 감광성 수지 조성물을 제공한다.
[화학식 1]
[화학식 2]
상기 화학식 1 및 2에서,
X
1 , X
2 , Y
1 및 Y
2 는 명세서에서 정의한 바와 같다.
포지티브형, 폴리벤조옥사졸 전구체, 열중합성 관능기, 페놀 화합물, 가교성 관능기, 감도, 반도체 소자-
公开(公告)号：KR101333690B1
公开(公告)日：2013-11-27
申请号：KR1020090132213
申请日：2009-12-28
Applicant: 제일모직주식회사
IPC: G03F7/039
Abstract: 하기 화학식 1로 표시되는 반복 단위 및 하기 화학식 2로 표시되는 반복 단위를 포함하는 폴리벤조옥사졸 전구체(polybenzoxazole precursor); 감광성 디아조퀴논 화합물; 하기 화학식 3으로 표시되는 비스-벤조시클로부텐 화합물 또는 비스-벤조시클로부텐 화합물을 열가교한 중합체; 및 용매를 포함하는 포지티브형 감광성 수지 조성물을 제공한다.
[화학식 1]
[화학식 2]
[화학식 3]
(상기 화학식 1 내지 3에서, X
1 , X
2 , X
3 , Y
1 및 Y
2 는 상세한 설명에 기재된 바와 같다.)
비스-벤조시클로부텐 화합물, 페놀 화합물, 실란 화합물, 디아조퀴논 화합물, 포지티브형, 감광성 수지 조성물Abstract translation: 向和由式表示的重复单元（1）聚苯并恶唑前包括由式2（聚苯并恶唑前体）表示的重复单元; 光敏重氮醌化合物; 一种热交联的聚合物由通式（3）至双 - 苯并环丁烯化合物或服务表示的苯并环丁烯化合物; 和包含溶剂的正型光敏树脂组合物。
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