이중사출을 이용한 인체 친화형 마우스
    1.
    发明授权
    이중사출을 이용한 인체 친화형 마우스 有权
    双重注射类型人类友好的小鼠

    公开(公告)号:KR101189106B1

    公开(公告)日:2012-10-10

    申请号:KR1020110047050

    申请日:2011-05-18

    CPC classification number: G06F3/03543 G06F2203/0334

    Abstract: PURPOSE: A friendly human body mouse using double injection is provided to form a hard main body and a soft auxiliary injection unit by using double injection. CONSTITUTION: A main body(110) includes a floor side, bodies(120,130), and a button unit(121). The floor side is connected to a supporting side. The button unit pressurizes internal operating elements of the bodies. An auxiliary injection unit(150) is formed on a pressurization location pressurizing the button unit. The auxiliary injection unit is doubly jetted with soft synthetic resin. Unevenness is formed on a connected side of the main body for increasing coherence with the auxiliary injection unit.

    Abstract translation: 目的:使用双重注射的友好的人体鼠标,通过双重注射形成硬的主体和软的辅助注射单元。 构成:主体(110)包括地板侧,主体(120,130)和按钮单元(121)。 地板侧连接到支撑侧。 按钮单元对身体的内部操作元件加压。 辅助注射单元(150)形成在对按钮单元加压的加压位置上。 辅助注射单元用软质合成树脂双重喷射。 在主体的连接侧形成有不均匀性,以增加与辅助注射单元的相干性。

    고강성 다중반사구조의 평판형 광생물 반응기용 케이스
    2.
    发明申请
    고강성 다중반사구조의 평판형 광생물 반응기용 케이스 审中-公开
    具有高刚性多重反射结构的平板光电晶体的情况

    公开(公告)号:WO2013187553A1

    公开(公告)日:2013-12-19

    申请号:PCT/KR2012/005813

    申请日:2012-07-20

    CPC classification number: C12M21/02 C12M23/04 C12M31/08

    Abstract: 본 발명은 고강성 다중반사구조의 평판형 광생물 반응기용 케이스는 합성수지로 이루어지며 상호 결합되어 광생물을 배양하기 위한 배양공간과 상기 배양공간과 연결되는 연결구들을 형성하는 제 1,2케이스부재를 구비하며, 상기 제1,2케이스부재는 상부로부터 하부로 갈수록 간격이 좁아지며, 외광을 다중반사시켜 내부로의 광유입량을 증가시킬 수 있는 복수개의 수평 및 수직고강성부를 구비한다. 본 발명에 따른 광생물 반응기용 케이스는 수평 및 수직고강성부와 류발생부에 의해 미세조류로의 광조사효율을 높일 수 있으며, 구조적 강도를 향상시켜 배양액의 하중에 의한 변형을 최소화 할 수 있다.

    Abstract translation: 根据本发明的具有高度刚性的多重反射结构的平板状光生物反应器的情况包括由合成树脂形成的培养空间,并且彼此结合以培养光感受器,第一和第二壳体 形成连接到培养空间的连接。 第一和第二壳体构件之间的间隙向下变窄,并且第一和第二壳体构件具有多个水平和垂直的高刚性部分,以便能够增加通过外部光的多次反射的光学流入量。 根据本发明的光生物反应器能够通过使用水平和垂直的高度刚性部分和涡流产生单元来提高微藻的光照射的效率,并且能够通过增加结构来最小化由于培养基的负荷引起的变形 刚性。

    와류를 형성하는 호형 격벽 구조를 가지는 미세조류 배양용 광생물 반응기
    3.
    发明申请
    와류를 형성하는 호형 격벽 구조를 가지는 미세조류 배양용 광생물 반응기 审中-公开
    具有形成VORIC的ARC型分隔结构的微晶玻璃制作光电感应器

    公开(公告)号:WO2013191324A1

    公开(公告)日:2013-12-27

    申请号:PCT/KR2012/006442

    申请日:2012-08-13

    CPC classification number: C12M21/02 C12M23/04 C12M27/20 C12M29/06 C12N1/12

    Abstract: 본 발명은 배양공간 내로 유입되는 기체가 와류를 발생하여 미세조류를 순환시킴으로써 미세조류의 배양효율을 향상시킨 버블 순환구조를 갖는 미세조류 배양용 광생물 반응기에 관한 것이다. 본 발명의 일 실시예에 따른 미세조류 배양용 광생물 반응기는 내부에 미세 조류가 주입되어 배양될 수 있도록 배양공간이 마련된 배양패널 본체; 상기 배양패 널 본체의 하부에 상기 배양공간을 횡방향으로 관통되게 설치되어 유입된 기체를 토출하는 기체 공급관; 상기 배양패널 본체의 내측 벽에 횡방향으로 연장되며, 상 기 기체 공급관을 통해 공급된 기체의 상승 기류에 대해 와류를 일으킬 수 있도록 호형으로 형성된 적어도 하나 이상의 와류형성 격벽;을 구비하는 것을 특징으로 한 다.

    Abstract translation: 本发明涉及一种用于微藻培养的光生物反应器,其具有气泡循环结构,其中导入培养空间的气体产生涡流,从而循环微藻并提高培养微藻的效率。 根据本发明的一个实施方案的用于微藻培养的光生物反应器包括:培养面板体,其中具有培养空间,使得可以在其中饲养和培养微藻; 气体供给管,其设置在栽培面板主体的下部,以横向通过培养空间,从而排出引入的气体; 以及至少一个从栽培面板主体的内壁横向延伸的产生涡流的分隔壁,其中所述至少一个产生涡流的隔板具有用于产生相对于通过气体供给的气体的上升流的涡流的弧形 供应管。

    비데용 노즐 가공을 위한 전기화학 폴리싱 장치
    5.
    发明授权
    비데용 노즐 가공을 위한 전기화학 폴리싱 장치 有权
    电子喷雾装置

    公开(公告)号:KR101520950B1

    公开(公告)日:2015-05-15

    申请号:KR1020130168714

    申请日:2013-12-31

    Inventor: 박정우 김욱수

    CPC classification number: C25F3/16 C25F1/00 E03D9/00 E03D9/08

    Abstract: 본발명은비데용노즐가공을위한전기화학폴리싱장치에관한것으로서, 내부에전해액이수용되는수용공간이마련된전해조와, 내부에중공이마련된금속재질의노즐본체가수용공간에수용된전해액에잠기도록전해조에대해노즐본체를지지하는노즐파지부와, 전해조내부에설치되며, 전해액이노즐본체의중공을통과할수 있도록전해액을강제유동시키는강제유동부와, 전해조의수용공간으로상기전해액을공급하는전해액공급부와, 노즐본체의내측면및 외측면이전기화학폴리싱되도록강제유동부및 노즐본체에각각서로다른전류를인가하는전원인가부를구비한다. 본발명에따른비데용노즐가공을위한전기화학폴리싱장치는전기화학폴리싱방법에의해비데용노즐의표면을미세하고평활하게연마할수 있으며, 전기화학폴리싱의특징인친수성에의해노즐표면에대한오염물의부착력을떨어트리는장점이있다.

    Abstract translation: 本发明涉及一种用于坐浴盆喷嘴的电化学抛光装置,包括:电解槽,其具有存储电解液的空间; 喷嘴夹持部,其将喷嘴体支撑在电解槽上,将由金属制成的喷嘴体浸入其中有空的空间,进入电解槽内的电解液; 安装在电解槽内的强制流动部分,其强制地允许电解质流动使电解液通过喷嘴体的空的空间; 电解质供给单元,其将所述电解质供给到所述电解槽内的空间; 以及供电单元,其对强制流动部分和喷嘴体施加不同量的电流,以对喷嘴体的内表面和外表面进行电化学抛光。 根据本发明,用于坐浴盆喷嘴的电化学抛光装置能够通过电化学抛光来对坐浴盆喷嘴的表面进行微细和平坦的抛光,并且防止具有亲水性的电化学抛光附着在喷嘴表面上的污染。

    크롤러용 바퀴, 상기 바퀴를 구비한 크롤러의 주행 자세 보정장치, 및 이들을 구비한 크롤러
    6.
    发明公开
    크롤러용 바퀴, 상기 바퀴를 구비한 크롤러의 주행 자세 보정장치, 및 이들을 구비한 크롤러 有权
    修理车轮,修理装有铲车的驱动装置的装置,具有它们的铲车

    公开(公告)号:KR1020130134978A

    公开(公告)日:2013-12-10

    申请号:KR1020120058920

    申请日:2012-05-31

    Inventor: 최병기 박정우

    Abstract: The present invention relates to a wheel for a crawler which prevents the crawler from falling down when the crawler moves in a pipeline and for easily changing tires, and the crawler having the same. The invention comprises a body (2002); a shaft (1002) installed on the bottom of the body (2002) at a specific distance; a wheel (1000) which is installed in the shaft (1002) and moves the body (2002), a control unit (2008) installed in one side of the body (2002) which controls the crawler according to a set program; a left gyroscope (2012) which is installed at the left upper side of the body (2002) and electrically connected to the control unit (2008) in order to sense the left angle of the body (2002) according to control signals from the control unit (2008) when the body moves in the pipeline; and a right gyroscope (2014) which is installed at the right upper side of the body and electrically connected to the control unit (2008) in order to sense the right angle of the body (200) according to the control signals from the control unit (2008) when the body (2002) moves in the pipeline.

    Abstract translation: 本发明涉及一种用于履带的履带轮,当履带在管道中移动并且易于更换轮胎时,防止履带落下,履带式履带也相同。 本发明包括身体(2002); 轴(1002),其以特定距离安装在所述主体(2002)的底部上; 安装在所述轴(1002)中并移动所述主体(2002)的轮(1000);安装在所述主体(2002)的一侧的控制单元(2008),所述控制单元根据设定的程序控制所述履带; 左侧陀螺仪(2012),其安装在身体的左上侧(2002)并电连接到控制单元(2008),以便根据来自控制器的控制信号感测身体(2002)的左角度 单位(2008)当身体在管道中移动时; 和右陀螺仪(2014),其安装在身体的右上侧并电连接到控制单元(2008),以便根据来自控制单元(200)的控制信号感测身体(200)的直角 (2008)当机构(2002)正在进行中。

    전해 연마장치
    7.
    发明公开
    전해 연마장치 有权
    电解抛光装置

    公开(公告)号:KR1020130091069A

    公开(公告)日:2013-08-16

    申请号:KR1020120012317

    申请日:2012-02-07

    CPC classification number: C25F7/00 C25F3/16

    Abstract: PURPOSE: An electrolytic polishing apparatus is provided to efficiently fix an object to be polished and to easily polish the inside surface of the object to be polished. CONSTITUTION: An electrolytic polishing apparatus comprises an electrolytic bath (110), a water tank (120), a pump (150), an electrode member, and a current controller (180). The electrolytic bath has one side which has an inlet into which an electrolyte flows and the other side through which the electrolyte is discharged. The water tank stores the electrolyte which is discharged from the electrolytic bath. The pump pumps the electrolyte which is stored in the water tank to be injected through the inlet into the electrolytic bath. The electrode member is faced with the object to be polished. The current controller applies a pulse current to the object to be polished. [Reference numerals] (170) Controller; (180) Current controller; (AA) Power supply unit

    Abstract translation: 目的:提供一种电解抛光装置,用于有效地固定被抛光物体并容易地抛光待抛光物体的内表面。 构成:电解抛光装置包括电解槽(110),水箱(120),泵(150),电极构件和电流控制器(180)。 电解槽的一侧具有电解质流入的入口,电解液通过该入口排出。 水箱储存从电解槽排出的电解液。 泵将储存在水箱中的电解液泵入入口进入电解池。 电极构件面对要被抛光的物体。 电流控制器向待抛光对象施加脉冲电流。 (附图标记)(170)控制器; (180)电流控制器; (AA)电源单元

    와류를 형성하는 호형 격벽 구조를 가지는 미세조류 배양용 광생물 반응기
    8.
    发明授权
    와류를 형성하는 호형 격벽 구조를 가지는 미세조류 배양용 광생물 반응기 有权
    用于形成VORTEX的包含ARC型分隔结构的微藻激光的光电子器件

    公开(公告)号:KR101222696B1

    公开(公告)日:2013-01-17

    申请号:KR1020120065687

    申请日:2012-06-19

    CPC classification number: C12M21/02 C12M23/04 C12M27/20 C12M29/06 C12N1/12

    Abstract: PURPOSE: A photo-bioreactor with a bubble circulating structure for culturing microalgae is provided to enhance gas retention time in a culturing space and to uniformize optical absorption condition of the microalgae. CONSTITUTION: A photo-bioreactor(100) comprises a culture panel main body(110), a gas supply tube(120), and first and second vortex forming partitions. The culture panel main body is formed in a square shape and has a culturing space for culturing the microalgae. The culture panel main body comprises a rectangular main body(112), and front(113) and rear(114) covers which form a closed culturing space. A support rib is coupled between connection parts and prevents the main body from being twisted.

    Abstract translation: 目的:提供一种具有用于培养微藻的气泡循环结构的光生物反应器,以增强培养空间中的气体停留时间,并使微藻的光吸收条件均匀化。 构成:光生物反应器(100)包括培养皿主体(110),气体供应管(120)以及第一和第二涡流形成分隔物。 培养皿主体形成为正方形,具有培养微藻的培养空间。 培养面板主体包括矩形主体(112)和形成封闭培养空间的前部(113)和后部(114)盖。 支撑肋连接在连接部分之间并防止主体扭曲。

    초소형 PCD 절삭공구 및 이의 제조방법
    9.
    发明公开
    초소형 PCD 절삭공구 및 이의 제조방법 有权
    其工具和制造方法

    公开(公告)号:KR1020160000974A

    公开(公告)日:2016-01-06

    申请号:KR1020140078334

    申请日:2014-06-25

    CPC classification number: B23P15/28 B23B27/14 B23B27/20

    Abstract: 본발명은초정밀절삭공구및 이의제조방법에관한것으로, 제조방법은 PCD 디스크로부터 PCD층과기저부로이루어절삭팁을준비하는절삭팁준비단계와, 절삭팁이접합되는단부를가지는생크부재를준비하는생크부재준비단계와, 상기절삭팁과대응되는생크부재단부에상호결합되는접합면에상호결합되는각각요부와철부를형성하는가공단계와, 상기가공이완료된생크부의단부가베이스지그로부터돌출되도록지지하는생크부재지지단계와, 상기커버지그에상기절삭팁과접합금속이지지홈에상호인입된상태로지지되도록하고, 상기베이스지그와커버지그를결합하여지지홈에생크부의단부가삽입되도록함으로써생크부와접합금속및 절삭팁의정렬단계와, 상기정렬이완료된생크부, 접합금속, 절삭팁및 베이스지그와커버지그를진공분위기에서설정압력과설정온도를가하여확산접합하는확산접합단계와, 확산접합이완료된절삭팁과생크부재를설정온도로열처리하는열처리단계를포함한다.

    Abstract translation: 超高精度切削刀具及其制造方法技术领域本发明涉及超高精度切削刀具及其制造方法。 超高精度切削刀具的制造方法包括:切削刀头准备步骤,从PCD盘准备由多晶金刚石(PCD)层和基底单元构成的切削刀片; 一个柄构件制备步骤,其制备具有结合切割尖端的端部的柄构件; 在与所述切削刀片相对应的所述切削刀片和所述刀柄部件的端部的接合面上形成有槽部和所述突出部的加工工序; 柄构件支撑台阶,其支撑柄构件以允许柄构件的加工端部从基座夹具突出; 将切割尖端和粘合金属插入并支撑在盖夹具的支撑槽中的对准步骤,并且将基座夹具和盖夹具彼此安装以将柄构件的端部插入支撑槽中,以使 柄构件,接合金属和切割尖端; 通过将设定的压力和设定温度施加到所述柄部件,所述接合金属,所述切削尖端,所述接合金属,所述切削刀片,所述接合金属,所述切削刀片, 基座夹具和盖夹具在真空气氛中; 以及在设定温度下对扩散结合的柄部件和切削刀头进行热处理的热处理工序。

    미세 가공장치
    10.
    发明公开
    미세 가공장치 无效
    微生物装置

    公开(公告)号:KR1020150141284A

    公开(公告)日:2015-12-18

    申请号:KR1020140069661

    申请日:2014-06-09

    CPC classification number: H01L21/67248 H01L21/67098 H01L21/68714

    Abstract: 본발명은미세가공장치에관한것으로서, 프레임에수평상으로설치된베이스스테이지와, 베이스스테이지위에설치되며상면의표면온도를조정할수 있도록된 온도조정스테이지와, 온도조정스테이지의표면온도를제어하는온도조정부와, 온도조정스테이지의상면에안착된가공대상물의표면을가공하는가공기와, 설정된가공프로세스에의해온도조정스테이지의표면온도가설정된온도를유지하도록온도조정부의구동을제어하고, 가공기의구동을제어하는제어부를구비한다. 이러한미세가공장치에의하면, 가공대상물이안착되는스테이지의온도를조정하여가공대상물의물성을조정하여원하는가공조건에서가공을수행할수 있는장점을제공한다.

    Abstract translation: 本发明涉及一种用于微加工的装置,包括:水平安装在框架上的底座; 温度调节台,安装在基台上,并且被配置为调节其上表面的表面温度; 用于控制温度调节级的表面温度的温度调节单元; 处理装置,用于处理设置在温度调节级的上表面上的待处理物体的表面; 以及控制单元,用于控制温度调节单元的操作,使得温度调节级的表面温度通过设定的处理过程保持设定温度,并且控制处理设备的操作。 因此,用于微加工的装置调节设置有待处理物体的台的温度,以便调节待处理物体的物理特性,从而可以在期望的加工条件下对物体进行加工。

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