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公开(公告)号：KR100928184B1
公开(公告)日：2009-11-25
申请号：KR1020090006902
申请日：2009-01-29
Applicant: 오사카 유니버시티 , 충남대학교산학협력단
CPC classification number: B29C33/3842 , B81C1/0046 , B82Y40/00
Abstract: PURPOSE: A high-durable replica mold for nano-imprint lithography and a manufacturing method thereof are provided to form the pattern whose size is less than 100nm by executing the pattern transfer within a short time. CONSTITUTION: A manufacturing method of a high-durable replica mold for nano-imprint lithography is composed of the steps of forming a resin layer of the chemical formula 1 by dropping organic-inorganic hybrid resin on a substrate(1), and hardening by irradiating UV(Ultraviolet) light(4) to the resin layer while a master mold(3) is pressed to the resin layer with a pressure less than 0.2MPa.
Abstract translation: 目的：提供用于纳米压印光刻的高耐久性复制模具及其制造方法，以通过在短时间内执行图案转印来形成尺寸小于100nm的图案。 构成：用于纳米压印光刻的高耐久性复制模具的制造方法由以下步骤构成：通过在基板（1）上滴加有机 - 无机杂化树脂形成化学式1的树脂层，并通过照射 UV（紫外）光（4）到树脂层，而母模（3）以低于0.2MPa的压力被压到树脂层上。
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公开(公告)号：KR100837830B1
公开(公告)日：2008-06-13
申请号：KR1020080016388
申请日：2008-02-22
Applicant: 충남대학교산학협력단
Abstract: 본 발명은 광가교형 무기고분자형 포토레지스트(photoresist)를 노광 공정(Photolithography), 마이크로 트랜스퍼몰딩(micro-transfer molding; μ-TM), 임프린트 리소그래피 (imprint lithography)공정, 스테레오리소그래피 (stereolithography) 등과 같은 방법으로 각종 기능성 패턴과 구조물을 제조하는 것이다. 성형된 패턴과 구조물은 후경화 혹은 고온 열처리 공정을 거침으로서 화학적, 열적 안정성 및 광투과성을 지닌 무기고분자 혹은 세라믹 조성의 미세유체 패턴과 소자를 제조한다. 또한 유사한 공정을 친수성 고분자에 적용하여 친수성 나노유체 패턴 및 소자를 제조함으로서 향후 각종 MEMS/NEMS소자에 사용한다.
소프트리소그래피, 무기고분자, 세라믹, 세라믹 전구체, MEMS, 미세유체소자, 초친수성 고분자, 나노채널-
公开(公告)号：KR1020080021102A
公开(公告)日：2008-03-06
申请号：KR1020080016388
申请日：2008-02-22
Applicant: 충남대학교산학협력단
Abstract: A method for manufacturing an inorganic fluidic pattern structure is provided to produce micro-fluidic patterns and structures having stable characteristics, and reduce production expense and time as compared with the conventional manufacturing method. A method for manufacturing an inorganic fluidic pattern structure includes the steps of: (a) coating a glass or silicon substrate with a light-crosslinkable or heat-crosslinkable inorganic polymer precursor to form a coating layer; (b) masking the inorganic polymer precursor, and then performing exposure using a long-wavelength exposure light source; and (c) developing uncrosslinked channels of the resultant with an organic solvent to obtain micro-fluidic channels and patterns.
Abstract translation: 提供一种制造无机流体图案结构的方法，以制造与常规制造方法相比具有稳定特性的微流体图案和结构，并且降低生产成本和时间。 一种制造无机流体图案结构的方法包括以下步骤：（a）用可光交联或热交联的无机聚合物前体涂覆玻璃或硅基底以形成涂层; （b）掩蔽无机聚合物前体，然后使用长波长曝光光源进行曝光; 和（c）用有机溶剂开发所得物的未交联通道以获得微流体通道和图案。
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公开(公告)号：KR100982185B1
公开(公告)日：2010-09-14
申请号：KR1020080091452
申请日：2008-09-18
Applicant: 충남대학교산학협력단
Abstract: 발명은 광 가교형 무기고분자형 네가티브 포토레지스트 중합체 및 이를 함유하는 포토레지스 조성물을 개발하고 이를 이용하여 최대 1cm, 최소 10nm 크기의 무기고분자 패턴과 구조물을 대량 제조할 수 있는 공정을 제공하는 것이다. 또한 연이은 열처리 공정에 의해 세라믹 조성의 패턴과 구조물을 제조할 수 있는 공정도 개발한다. 이로서 추후 미세 기계전자 소자 및 각종 미세 유체소자 장치에 활용될 수 있는 부품 제조에 활용할 수 있는 중합체, 조성물 및 그를 이용한 무기고분자 패턴을 제조할 수 있는 공정을 제공하는 것이다.
포토레지스트, 네가티브, 무기고분자, 폴리실라잔, 이광자흡수법, 비스(아크릴로일 옥시메틸)에틸 이소 시아네이트(1,1-bis(acryloyloxymethyl) ethyl isocyanate)-
公开(公告)号：KR100931825B1
公开(公告)日：2009-12-15
申请号：KR1020070092465
申请日：2007-09-12
Applicant: 충남대학교산학협력단
Abstract: 본 발명은 탄소주형체 희생체법을 이용한 리튬코발트산화물나노튜브 구조체 및 그 제조방법에 관한 것으로, 상세하게는 실리카 주형체를 제조하고, 제조된 실리카 주형체를 산성화된 자당(sucrose) 수용액으로 함침시킨 후, 열처리 및 실리카 주형체의 제거를 통하여 다공성 탄소나노로드 주형체를 제조하고, 다공성 탄소나노로드 주형체를 리튬이 코발트보다 과량으로 존재하는 리튬/코발트 혼합염 용액으로 함침시킨 후, 하소를 하여 다공성 탄소나노로드 주형체에 함침된 리튬/코발트 염을 산화시키고, 산소분위기의 소결 열처리를 통해 탄소 주형체를 제거하여 나노튜브(tube)형태의 리튬코발트산화물 나노 구조체를 제조하는 특징이 있다.
리튬코발트산화물 나노튜브 구조체의 표면적는 12.3 m
2 /g 이며, 0.2C 일 때 126.64 mAh/g이고 5C 일때 118.39 mAh/g으로 5C vs 0.2C의 충방전용량 유지 능력은 93.5%로 매우 우수한 충방전 특성을 가지고 있다.
탄소주형체 희생체법, 리튬 2차 전지, 양극 활물질, 리튬코발트산화물계 구조체, 리튬코발트산화물 나노튜브형 구조체, 탄소나노 주형체Abstract translation: 本发明提供一种使用碳纤维石牺牲法的钴酸锂纳米管结构体的制造方法，使用各种大小，各种形状的角状体制造锂钴氧化物海绵体和钴酸锂球体纳米结构体。 一种钴酸锂纳米管结构的制备方法，包括以下步骤：（a）制备多孔碳纳米载荷角铁石; （b）用锂/钴盐混合物溶液浸渍多孔碳纳米棒晶状体并制造锂/钴 - 碳复合物; （c）通过热处理锂/钴 - 碳复合物来制造钴酸锂 - 碳复合物; 以及通过在氧化气氛下对所述钴酸锂 - 碳复合物进行热处理来去除所述多孔碳纳米棒晶状体以制造钴酸锂纳米管结构。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR1020090027326A
公开(公告)日：2009-03-17
申请号：KR1020070092465
申请日：2007-09-12
Applicant: 충남대학교산학협력단
CPC classification number: C01G51/42 , B82Y30/00 , B82Y40/00 , C01P2004/13 , H01M4/131 , H01M4/525 , Y02E60/122
Abstract: A manufacturing method of lithium cobalt oxide nanotube structure using a carbon stylolite sacrifice method is provided to manufacture lithium cobalt oxide sponge and lithium cobalt oxide globe nanostructure using stylolite having various sizes and various shape. A manufacturing method of lithium cobalt oxide nanotube structure comprises steps of: (a) manufacturing porous carbon nano load stylolite; (b) dipping the porous carbon nanorods stylolite with a lithium/cobalt salt-mixture solution and manufacturing the lithium/cobalt-carbon complex; (c) manufacturing lithium cobalt oxide- carbon complex by heat-treating the lithium/cobalt-carbon complex; and manufacturing lithium cobalt oxide nanotube structure by removing the porous carbon nanorods stylolite by heat-treating the lithium cobalt oxide-carbon complex under oxidizing atmosphere.
Abstract translation: 提供一种使用碳尖晶石牺牲法的钴酸锂纳米管结构的制造方法，其使用具有各种尺寸和各种形状的柱状石墨制造锂钴氧化物海绵和钴酸锂氧化物纳米结构。 锂钴氧化物纳米管结构的制造方法包括以下步骤：（a）制造多孔碳纳米负载硬质合金; （b）用锂/钴盐混合物溶液浸渍多孔碳纳米棒，并制备锂/钴 - 碳络合物; （c）通过热处理锂/钴 - 碳络合物来制造钴酸锂 - 碳复合物; 并通过在氧化气氛下热处理钴酸锂 - 碳复合物来除去多孔碳纳米棒茎晶而制造氧化钴钴纳米管结构。
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公开(公告)号：KR100837829B1
公开(公告)日：2008-06-13
申请号：KR1020060045370
申请日：2006-05-19
Applicant: 충남대학교산학협력단
Abstract: 본 발명은 광가교형 무기고분자형 포토레지스트(photoresist)를 노광 공정(Photolithography), 마이크로 트랜스퍼몰딩(micro-transfer molding; μ-TM), 임프린트 리소그래피 (imprint lithography)공정, 스테레오리소그래피 (stereolithography) 등과 같은 방법으로 각종 기능성 패턴과 구조물을 제조하는 것이다. 성형된 패턴과 구조물은 후경화 혹은 고온 열처리 공정을 거침으로서 화학적, 열적 안정성 및 광투과성을 지닌 무기고분자 혹은 세라믹 조성의 미세유체 패턴과 소자를 제조한다. 또한 유사한 공정을 친수성 고분자에 적용하여 친수성 나노유체 패턴 및 소자를 제조함으로서 향후 각종 MEMS/NEMS소자에 사용한다.
소프트리소그래피, 무기고분자, 세라믹, 세라믹 전구체, MEMS, 미세유체소자, 초친수성 고분자, 나노채널,-
公开(公告)号：KR100900496B1
公开(公告)日：2009-06-03
申请号：KR1020080098952
申请日：2008-10-09
Applicant: 충남대학교산학협력단
IPC: H01L21/027 , B82Y40/00
CPC classification number: G03F7/0002 , B82Y40/00
Abstract: A highly durable silica hard mold for nano imprint lithography and a manufacturing method thereof are provided to perform demolding of the mold with high intensity and Young's modulus by hydrating inorganic polymer with ammonia steam. A thin film is formed by spin-coating polyvinylsilazane in a wafer(S100). A PDMS mold is pressed and stacked by facing a fine pattern of the PMS mold to the polyvinylsilazane thin film. The polyvinylsilazane thin film is cured by irradiating an ultraviolet ray in the upper part of the PDMS mold(S200). After the PDMS mold is removed, the polyvinylsilazane thin film is heated and cured(S300). A silica hard mold is made by performing hydration with the ammonia steam(S400).
Abstract translation: 提供用于纳米压印光刻的高度耐用的二氧化硅硬质模具及其制造方法，以通过用氨蒸汽水合无机聚合物来实现具有高强度和杨氏模量的模具的脱模。 通过在晶片中旋涂聚乙烯基硅氮烷来形成薄膜（S100）。 通过将PMS模具的精细图案面向聚乙烯基硅氮烷薄膜来压制和堆叠PDMS模具。 通过在PDMS模具的上部照射紫外线来固化聚硅氧烷薄膜（S200）。 在除去PDMS模具之后，将聚乙烯基硅氮烷薄膜加热固化（S300）。 通过与氨蒸汽进行水合（S400）制备二氧化硅硬质模具。
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公开(公告)号：KR100836872B1
公开(公告)日：2008-06-11
申请号：KR1020080016466
申请日：2008-02-22
Applicant: 충남대학교산학협력단
Abstract: 본 발명은 광가교형 무기고분자형 포토레지스트(photoresist)를 노광 공정(Photolithography), 마이크로 트랜스퍼몰딩(micro-transfer molding; μ-TM), 임프린트 리소그래피 (imprint lithography)공정, 스테레오리소그래피 (stereolithography) 등과 같은 방법으로 각종 기능성 패턴과 구조물을 제조하는 것이다. 성형된 패턴과 구조물은 후경화 혹은 고온 열처리 공정을 거침으로서 화학적, 열적 안정성 및 광투과성을 지닌 무기고분자 혹은 세라믹 조성의 미세유체 패턴과 소자를 제조한다. 또한 유사한 공정을 친수성 고분자에 적용하여 친수성 나노유체 패턴 및 소자를 제조함으로서 향후 각종 MEMS/NEMS소자에 사용한다.
소프트리소그래피, 무기고분자, 세라믹, 세라믹 전구체, MEMS, 미세유체소자, 초친수성 고분자, 나노채널Abstract translation: 本发明是一种光学交联的无机聚合物型光致抗蚀剂（光致抗蚀剂）的曝光工序（光刻法），微转印模塑（微转移模塑;μ-TM），如，压印光刻（压印光刻）工艺，立体光刻（立体光刻） 产生各种功能模式和结构。 模制图案和结构经过后固化或高温热处理工艺以产生具有化学，热稳定性和光透射性的无机聚合物或陶瓷组合物的微流体图案和装置。 类似的过程应用于亲水聚合物以产生亲水纳米流体图案和装置，将来将在各种MEMS / NEMS装置中使用。
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公开(公告)号：KR1020080021104A
公开(公告)日：2008-03-06
申请号：KR1020080016466
申请日：2008-02-22
Applicant: 충남대학교산학협력단
Abstract: A method for forming hydrophilic polymer layer-hybridized microchannels is provided to form a micropattern on a hydrophilic polymer through a curing process, and reduce expense and time as compared with the conventional manufacturing methods. A method for forming hydrophilic polymer layer-hybridized microchannels includes the steps of: preparing a silicon master having a micropattern; depositing a release agent on the pattern-formed side of the master; coating the deposited surface with hydrophilic polymer; laminating a crosslinkable polydimethylsiloxane solution on the hydrophilic polymer layer, and then performing light curing; and removing the silicon master after the curing.
Abstract translation: 提供了形成亲水性聚合物层 - 杂交的微通道的方法，以通过固化方法在亲水性聚合物上形成微图案，并且与常规制造方法相比降低了费用和时间。 形成亲水性聚合物层杂交的微通道的方法包括以下步骤：制备具有微图案的硅母料; 在所述主体的图案形成侧上沉积脱模剂; 用亲水聚合物涂覆沉积的表面; 在亲水性聚合物层上层叠可交联聚二甲基硅氧烷溶液，然后进行光固化; 并在固化后除去硅母料。
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