公开(公告)号：KR3006546620001S

公开(公告)日：2012-08-14

申请号：KR3020110009903

申请日：2011-03-11

Applicant: 코리아테크노(주)

Designer： 최진국 ,  주영민

公开(公告)号：KR1020120056484A

公开(公告)日：2012-06-04

申请号：KR1020100118052

申请日：2010-11-25

Applicant: 코리아테크노(주)

Inventor： 김현호 ,  최진국 ,  주영민

IPC: H01L21/677 ,  H01L21/68 ,  B65G49/07

CPC classification number: H01L21/67733 ,  H01L21/6773 ,  H01L21/67772

Abstract: PURPOSE: A front opening unified pod(FOUP) transfer apparatus of a purge system is provided to automatically supply a FOUP transferred along a wafer transfer line to the purge system, thereby improving equipment operation efficiency. CONSTITUTION: A horizontal driving part(110) is arranged in a direction which crosses a stage of a purging system and a transfer line of a FOUP(Front Opening Unified Pod). A first moving body is horizontally transferred using the horizontal driving part. A vertical driving part(130) is arranged on the first moving body in a horizontal direction. A second moving body(140) is vertically transferred using the vertical driving part. A gripper(150) selectively grips the FOUP by being installed on the second moving body.

Abstract translation: 目的：提供清洗系统的前开口统一吊舱（FOUP）传送装置，以自动提供沿着晶片传送线传送到吹扫系统的FOUP，从而提高设备运行效率。 构成：水平驱动部（110）沿与FOUP（前开口统一荚）的清洗系统的台阶和输送线交叉的方向排列。 使用水平驱动部水平地移动第一移动体。 垂直驱动部（130）沿水平方向布置在第一移动体上。 第二移动体（140）使用垂直驱动部垂直传递。 夹具（150）通过安装在第二移动体上选择性地夹紧FOUP。

公开(公告)号：KR1020120056483A

公开(公告)日：2012-06-04

申请号：KR1020100118051

申请日：2010-11-25

Applicant: 코리아테크노(주)

Inventor： 김현호 ,  최진국 ,  주영민

IPC: H01L21/677 ,  H01L21/68 ,  F16H25/20 ,  H01L21/673

CPC classification number: H01L21/67766 ,  F16H25/2018 ,  H01L21/67781 ,  Y10S414/137

Abstract: PURPOSE: A wafer transfer device of a purge system is provided to improve cleaning performance by washing inside a front opening unified pod without loading a wafer. CONSTITUTION: A base(110) is installed inside a chamber of a purge system. A first moving body(130) is installed in order to be horizontally transferred on a base. A horizontal driving part(120) transfers the first moving body in a horizontal direction. A second moving body is installed on the first moving body in order to be transferred in a vertical direction. A vertical drive part(150) transfers the second moving body in the vertical direction. A wafer load part(160) loads wafer by being formed on the front side of the second moving body.

Abstract translation: 目的：提供清洗系统的晶片转移装置，以通过在前开口统一的容器内洗涤而不加载晶片来提高清洁性能。 构成：底座（110）安装在清洗系统的腔室内。 安装第一移动体（130）以水平地转移到基座上。 水平驱动部（120）在第一移动体的水平方向上移动。 第二移动体安装在第一移动体上以沿垂直方向传送。 垂直驱动部（150）在第二移动体的上下方向移动。 晶片负载部件（160）通过形成在第二移动体的前侧上来加载晶片。

公开(公告)号：KR101684288B1

公开(公告)日：2016-12-08

申请号：KR1020150187126

申请日：2015-12-28

Applicant: 코리아테크노(주)

Inventor： 송낙현 ,  이상천 ,  주영민

IPC: H01L21/78 ,  H01L21/683 ,  H01L21/687

Abstract: 개시된내용은웨이퍼를탑재하여전,후진이송시키는스테이지이송부와, 상기스테이지이송부와별개로스테이지이동궤적의후방에설치되는제1승강부및 상기제1승강부의하강상태에서웨이퍼보호용필름에흡착되는흡착부재를구비한제2승강부를포함하는웨이퍼보호용필름의분리장치로서, 웨이퍼를탑재하여전,후진이송시키는스테이지이송부와, 상기스테이지이송부와별개로스테이지이동궤적의후방에설치되는제1승강부와, 상기제1승강부의하강상태에서웨이퍼보호용필름에흡착되는흡착부재를구비한제2승강부를포함하여원형웨이퍼의표면에부착된보호용필름을웨이퍼로부터흡착하여분리하는웨이퍼보호용필름의분리장치를제공한다.

公开(公告)号：KR3006546620000S

公开(公告)日：2012-08-03

申请号：KR3020110009902

申请日：2011-03-11

Applicant: 코리아테크노(주)

Designer： 최진국 ,  주영민

公开(公告)号：KR101244900B1

公开(公告)日：2013-03-18

申请号：KR1020100118054

申请日：2010-11-25

Applicant: 코리아테크노(주)

Inventor： 김현호 ,  최진국 ,  주영민

IPC: H01L21/673 ,  H01L21/02

Abstract: 본 발명은 풉 세정용 퍼지시스템에 관한 것으로서, 본 발명에 따른 풉 세정용 퍼지시스템은 내부에 밀폐공간이 형성되고, 밀폐공간과 연통하는 개구부에 밀착되는 풉의 도어를 개폐하는 도어개폐유닛과, 풉의 내부와 챔버의 밀폐공간 사이에서 웨이퍼를 반송하는 웨이퍼반송유닛이 형성된 챔버;에 설치되어 웨이퍼 및 풉을 세정하는 풉 세정용 퍼지시스템에 있어서, 챔버의 개구부 내측에 이동가능하게 배치되는 커버와, 상기 커버가 선택적으로 개구부를 마감하도록 상기 커버를 개구부 또는 개구부의 인접위치로 이동시키는 제1구동부와, 개구부에 위치한 커버를 개구부에 밀착 또는 이격되는 방향으로 이동시키는 제2구동부와, 상기 커버의 내측 상단부에 횡방향으로 배치되어 하측방향을 향해 질소가스를 분사하는 커튼노즐과, 상기 커버의 내부 일 측에 수직방향으로 설치되어 풉의 내부공간을 향해 질소가스를 공급하는 제1세척노즐이 형성된 풉세척부; 및, 상기 챔버 내에서 웨이퍼반송유닛의 이동영역의 적어도 일측에 웨이퍼의 이동방향을 따라 이격 배치되어 웨이퍼반송유닛에 의해 반송되는 웨이퍼를 향해 질소가스를 분사하는 다수의 제2세척노즐이 형성된 웨이퍼세척부;를 포함하는 것을 특징으로 한다.

公开(公告)号：KR1020120056485A

公开(公告)日：2012-06-04

申请号：KR1020100118054

申请日：2010-11-25

Applicant: 코리아테크노(주)

Inventor： 김현호 ,  최진국 ,  주영민

IPC: H01L21/673 ,  H01L21/02

Abstract: PURPOSE: A purge system for cleaning a front opening unified pod(FOUP) is provided to wash a wafer loaded on a closed space of a chamber while cleaning inside the FOUP, thereby maintaining a clean environment inside the FOUP. CONSTITUTION: A front open unified pod(FOUP) cleaning part(100) cleans inside a FOUP(F) through an opening part(11) of a chamber(10). The chamber includes a closed space. A wafer transfer unit(13) transfers a wafer between the closed space of the chamber and the FOUP. A wafer washing part(200) washes the wafer transferred through the opening part of the chamber. The wafer washing part comprises a plurality of second washer nozzles(210) arranged along a transfer direction of the wafer with a fixed interval.

Abstract translation: 目的：清洁前开口统一容器（FOUP）的清洗系统用于在FOUP内部清洁时清洗装载在腔室封闭空间中的晶片，从而保持FOUP内的清洁环境。 构成：通过室（10）的开口部分（11），前开口的统一容器（FOUP）清洁部件（100）在FOUP（F）内清洁。 该室包括一个封闭的空间。 晶片传送单元（13）在晶片的封闭空间与FOUP之间传送晶片。 晶片洗涤部件（200）洗涤通过室的开口部分转移的晶片。 晶片洗涤部件包括沿着晶片的传送方向以固定间隔布置的多个第二清洗喷嘴（210）。