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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR101654946B1
公开(公告)日：2016-09-06
申请号：KR1020107023628
申请日：2009-03-24
Applicant: 토요잉크SC홀딩스주식회사
IPC: B01F17/16 , B01F17/52 , C09B67/20 , C09D11/326
CPC classification number: C09B67/009 , C08G18/285 , C08G18/3228 , C08G18/6229 , C08G18/755 , C09B67/0063 , C09D11/326
Abstract: 편말단영역에 2개의히드록실기를갖는비닐중합체(A)의히드록실기와, 디이소시아네이트(B)의이소시아네이트기를반응해서되는편말단영역에 2개의이소시아네이트기를갖는우레탄프리폴리머(E)의이소시아네이트기와, 폴리아민(C)을포함하는아민화합물의 1급및/또는 2급아미노기를 반응시켜서되는분산제로, 아민가가 1~100 ㎎KOH/g인것을특징으로하는분산제를기재한다. 본발명에의한분산제는, 저사용량으로분산성, 유동성, 및보존안정성이우수하며, 바인더수지나용제의종류에제한되지않는안료분산체를제공할수 있다. 또한, 본발명은오프셋잉크, 그라비아잉크, 컬러필터용레지스트잉크, 잉크젯잉크, 도료, 및착색수지조성물등에적합하다.
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公开(公告)号：KR1020140032479A
公开(公告)日：2014-03-14
申请号：KR1020147000575
申请日：2012-06-11
Applicant: 토요잉크SC홀딩스주식회사
CPC classification number: H01M4/62 , H01M4/13 , H01M4/622 , H01M4/625 , H01M10/0525 , H01M2220/20 , H01M2220/30 , Y02E60/122
Abstract: 충방전 사이클 특성이 우수한 이차전지를 형성하기 위한 전극 형성용 조성물로서, 활물질이나 도전 보조제의 분산성이 우수한 전극 형성용 조성물을 제공하는 것을 과제로 한다. 이 과제는 전극 활물질(A) 또는 도전 보조제인 탄소재료(B)의 적어도 한쪽, 방향족 고리, 카르복실기 및 아미노기를 갖는 공중합체 중의 카르복실기의 적어도 일부를 염기성 화합물로 중화하여 이루어지는 양성 수지형 분산제(C) 및 수성 액상 매체(C)를 함유하는 이차전지 전극 형성용 조성물에 의해 해결한다.
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公开(公告)号：KR101588985B1
公开(公告)日：2016-01-26
申请号：KR1020147000575
申请日：2012-06-11
Applicant: 토요잉크SC홀딩스주식회사
CPC classification number: H01M4/62 , H01M4/13 , H01M4/622 , H01M4/625 , H01M10/0525 , H01M2220/20 , H01M2220/30 , Y02E60/122
Abstract: 충방전사이클특성이우수한이차전지를형성하기위한전극형성용조성물로서, 활물질이나도전보조제의분산성이우수한전극형성용조성물을제공하는것을과제로한다. 이과제는전극활물질(A) 또는도전보조제인탄소재료(B)의적어도한쪽, 방향족고리, 카르복실기및 아미노기를갖는공중합체중의카르복실기의적어도일부를염기성화합물로중화하여이루어지는양성수지형분산제(C) 및수성액상매체(C)를함유하는이차전지전극형성용조성물에의해해결한다.
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公开(公告)号：KR1020100127844A
公开(公告)日：2010-12-06
申请号：KR1020107023628
申请日：2009-03-24
Applicant: 토요잉크SC홀딩스주식회사
IPC: B01F17/16 , B01F17/52 , C09B67/20 , C09D11/326
CPC classification number: C09B67/009 , C08G18/285 , C08G18/3228 , C08G18/6229 , C08G18/755 , C09B67/0063 , C09D11/326
Abstract: 편말단영역에 2개의 히드록실기를 갖는 비닐 중합체(A)의 히드록실기와, 디이소시아네이트(B)의 이소시아네이트기를 반응해서 되는 편말단영역에 2개의 이소시아네이트기를 갖는 우레탄 프리폴리머(E)의 이소시아네이트기와,
폴리아민(C)을 포함하는 아민화합물의 1급 및/또는 2급 아미노기
를 반응시켜서 되는 분산제로,
아민가가 1~100 ㎎KOH/g인 것을 특징으로 하는 분산제를 기재한다.
본 발명에 의한 분산제는, 저사용량으로 분산성, 유동성, 및 보존 안정성이 우수하며, 바인더 수지나 용제의 종류에 제한되지 않는 안료 분산체를 제공할 수 있다. 또한, 본 발명은 오프셋 잉크, 그라비아 잉크, 컬러필터용 레지스트 잉크, 잉크젯 잉크, 도료, 및 착색 수지 조성물 등에 적합하다.-
公开(公告)号：KR1020070001184A
公开(公告)日：2007-01-03
申请号：KR1020067018655
申请日：2005-04-28
Applicant: 토요잉크SC홀딩스주식회사
CPC classification number: C08F2/50 , B32B27/00 , C09D5/00 , C09D133/06
Abstract: Disclosed is a photocurable composition containing a photocurable material including at least one compound (A) represented by the general formula (1) below and a filler (B) having a refractive index of not less than 1.60. (1) (In the formula, R1- R3 independently represent a hydrogen atom or a methyl group; R4- R6 independently represent an unsubstituted or substituted, straight or branched chain alkylene group; R7 represents hydrogen or a monovalent organic group; and R8 represents a tetravalent aromatic group. In this connection, at least one of R7 and R8 contains a biphenyl skeleton.) Also disclosed is an antireflective film wherein a high-refractive-index hard coat layer composed of such a photocurable composition and a low-refractive-index layer having a refractive index of 1.20-1.50 are sequentially arranged on one side of a plastic base. ® KIPO & WIPO 2007
Abstract translation: 公开了一种含有光固化性材料的光固化性组合物，其含有至少一种下述通式（1）表示的化合物（A）和折射率不小于1.60的填料（B）。 （1）（式中，R 1〜R 3分别独立地表示氢原子或甲基; R 4 -R 6分别表示未取代或取代的直链或支链亚烷基，R7表示氢或一价有机基团，R8表示 在这方面，R7和R8中的至少一个含有联苯骨架。）还公开了一种抗反射膜，其中由这种光固化性组合物构成的高折射率硬涂层和低折射率硬涂层， 折射率为1.20-1.50的折射率层依次布置在塑料基底的一侧上。 ®KIPO＆WIPO 2007
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