-
公开(公告)号：KR101846474B1
公开(公告)日：2018-04-06
申请号：KR1020137033789
申请日：2012-05-30
Applicant: 토요잉크SC홀딩스주식회사 , 토요켐주식회사
CPC classification number: H05K9/0083 , B32B5/16 , B32B7/06 , B32B2264/105 , B32B2307/302 , B32B2307/304 , B32B2307/748 , B32B2457/00 , C08K7/00 , C09J7/10 , C09J9/02 , C09J2203/326 , C09J2205/102
Abstract: 프린트배선판 등의피착체에도전성시트를첩착하는가열프레스공정에서, 도전층의얼룩을최소한으로줄일수 있는, 가공성이양호한도전성시트및 그제조방법등을제공한다. 본발명의도전성시트는열 경화성수지(A)와덴드라이트모양전도성입자(B)를적어도포함하는도전층을구비한다. 도전층의두께가 (i) 150℃, 2MPa, 30분간의조건에서가열프레스한 후의두께가가열프레스전의해당도전층의두께를 100으로했을때에 30~95의범위가될 것, 및 (ii) 덴드라이트모양전도성입자(B)의평균입자지름 D가해당도전층의두께에대해 0.5배이상, 3배이하의범위가될 것, 중적어도한쪽을충족시키고, 상기덴드라이트모양도전성미립자(B)의평균입자지름 D가 3㎛이상, 50㎛이하이며, 또한, 상기덴드라이트모양도전성미립자(B)를상기도전층중에 50중량% 이상, 90중량% 이하의범위로함유하는것이다.
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR101931274B1
公开(公告)日：2018-12-20
申请号：KR1020187009342
申请日：2012-05-30
Applicant: 토요잉크SC홀딩스주식회사 , 토요켐주식회사
IPC: H01B5/16 , B32B27/18 , C09J7/00 , C09J9/02 , C09J11/04 , C09J201/10 , H05K9/00 , H01B5/00 , C09J9/00
Abstract: 프린트 배선 판 등의 피착체에 도전성 시트를 첩착하는 가열 프레스 공정에서, 도전층의 얼룩을 최소한으로 줄일 수 있는, 가공성이 양호한 도전성 시트 및 그 제조 방법 등을 제공한다. 본 발명의 도전성 시트는 열 경화성 수지(A)와 덴드라이트 모양 전도성 입자(B)를 적어도 포함하는 도전층을 구비한다. 도전층의 두께가 (i) 150℃, 2MPa, 30분간의 조건에서 가열 프레스 한 후의 두께가 가열 프레스 전의 해당 도전층의 두께를 100으로 했을 때에 30~95의 범위가 될 것, 및 (ii) 덴드라이트 모양 전도성 입자(B)의 평균 입자 지름 D
90 가 해당 도전층의 두께에 대해 0.5배 이상, 3배 이하의 범위가 될 것, 중 적어도 한쪽을 충족시키고, 상기 덴드라이트 모양 도전성 미립자(B)의 평균 입자 지름 D
50 가 3㎛ 이상, 50㎛ 이하이며, 또한, 상기 덴드라이트 모양 도전성 미립자(B)를 상기 도전층 중에 50중량% 이상, 90중량% 이하의 범위로 함유하는 것이다.-
公开(公告)号：KR20180036806A
公开(公告)日：2018-04-09
申请号：KR20187009342
申请日：2012-05-30
Applicant: 토요잉크SC홀딩스주식회사 , 토요켐주식회사
IPC: H01B5/16 , B32B27/18 , C09J7/00 , C09J9/00 , C09J9/02 , C09J11/04 , C09J201/10 , H01B5/00 , H05K9/00
CPC classification number: H05K9/0083 , B32B5/16 , B32B7/06 , B32B2264/105 , B32B2307/302 , B32B2307/304 , B32B2307/748 , B32B2457/00 , C08K7/00 , C09J7/10 , C09J9/02 , C09J2203/326 , C09J2205/102
Abstract: 프린트배선판 등의피착체에도전성시트를첩착하는가열프레스공정에서, 도전층의얼룩을최소한으로줄일수 있는, 가공성이양호한도전성시트및 그제조방법등을제공한다. 본발명의도전성시트는열 경화성수지(A)와덴드라이트모양전도성입자(B)를적어도포함하는도전층을구비한다. 도전층의두께가 (i) 150℃, 2MPa, 30분간의조건에서가열프레스한 후의두께가가열프레스전의해당도전층의두께를 100으로했을때에 30~95의범위가될 것, 및 (ii) 덴드라이트모양전도성입자(B)의평균입자지름 D가해당도전층의두께에대해 0.5배이상, 3배이하의범위가될 것, 중적어도한쪽을충족시키고, 상기덴드라이트모양도전성미립자(B)의평균입자지름 D가 3㎛이상, 50㎛이하이며, 또한, 상기덴드라이트모양도전성미립자(B)를상기도전층중에 50중량% 이상, 90중량% 이하의범위로함유하는것이다.
Abstract translation: 提供一种具有良好加工性的导电片，由此可以最小化在用于将导电片粘附到感兴趣的物体（例如印刷线路板）上的热压步骤中的导电层的浸出; 制造导电片的工艺; 和别的。 该导电片包括至少包含热固性树脂（A）和树枝状导电微粒（B）的导电层。 导电层的厚度满足以下要求（i）和/或（ii）：（i）在150℃，2MPa和30℃的条件下热压后导电层的厚度变为30-95 分钟，当热压之前的导电层的厚度定义为100时; （ii）树枝状导电微粒（B）的平均粒径（D90）为导电层的厚度的0.5〜3倍。 树枝状导电性微粒（B）的平均粒径（D50）为3〜50μm，且包含50〜90重量％的导电层。
-
公开(公告)号：KR1020140031325A
公开(公告)日：2014-03-12
申请号：KR1020137033789
申请日：2012-05-30
Applicant: 토요잉크SC홀딩스주식회사 , 토요켐주식회사
CPC classification number: H05K9/0083 , B32B5/16 , B32B7/06 , B32B2264/105 , B32B2307/302 , B32B2307/304 , B32B2307/748 , B32B2457/00 , C08K7/00 , C09J7/10 , C09J9/02 , C09J2203/326 , C09J2205/102 , H01B5/16 , B32B27/18 , C09J7/00 , C09J9/00 , C09J11/04 , C09J201/10 , H01B5/00 , H05K9/00
Abstract: 프린트 배선 판 등의 피착체에 도전성 시트를 첩착하는 가열 프레스 공정에서, 도전층의 얼룩을 최소한으로 줄일 수 있는, 가공성이 양호한 도전성 시트 및 그 제조 방법 등을 제공한다. 본 발명의 도전성 시트는 열 경화성 수지(A)와 덴드라이트 모양 전도성 입자(B)를 적어도 포함하는 도전층을 구비한다. 도전층의 두께가 (i) 150℃, 2MPa, 30분간의 조건에서 가열 프레스 한 후의 두께가 가열 프레스 전의 해당 도전층의 두께를 100으로 했을 때에 30~95의 범위가 될 것, 및 (ii) 덴드라이트 모양 전도성 입자(B)의 평균 입자 지름 D
90 가 해당 도전층의 두께에 대해 0.5배 이상, 3배 이하의 범위가 될 것, 중 적어도 한쪽을 충족시키고, 상기 덴드라이트 모양 도전성 미립자(B)의 평균 입자 지름 D
50 가 3㎛ 이상, 50㎛ 이하이며, 또한, 상기 덴드라이트 모양 도전성 미립자(B)를 상기 도전층 중에 50중량% 이상, 90중량% 이하의 범위로 함유하는 것이다.-
公开(公告)号：KR1020080032190A
公开(公告)日：2008-04-14
申请号：KR1020087003658
申请日：2006-07-14
Applicant: 토요잉크SC홀딩스주식회사
CPC classification number: C08F222/1006
Abstract: Disclosed is a curable composition containing a metal oxide having an average primary particle diameter of 5-100 nm, and an amino group-containing photocurable compound. The amino group-containing photocurable compound has a functional group obtained by reacting an ethylenically unsaturated double bond with a primary or secondary amine, and an unreacted ethylenically unsaturated double bond.
Abstract translation: 公开了含有平均一次粒径为5〜100nm的金属氧化物和含氨基的光固化性化合物的固化性组合物。 含有氨基的光固化性化合物具有通过烯属不饱和双键与伯胺或仲胺反应得到的官能团和未反应的烯属不饱和双键。
-
公开(公告)号：KR101276736B1
公开(公告)日：2013-06-19
申请号：KR1020087003658
申请日：2006-07-14
Applicant: 토요잉크SC홀딩스주식회사
CPC classification number: C08F222/1006
Abstract: 본 발명은 평균 일차 입자지름이 5~100nm인 금속산화물;과, 에틸렌성 불포화 이중결합과 제1급 또는 제2급 아민을 반응시킨 관능기 및 미반응의 에틸렌성 불포화 이중결합을 가지는 아미노기 함유 광경화성 화합물;을 함유하는 경화성 조성물을 개시한다.
경화성 조성물, 금속 산화물, 광경화성 화합물, 경화막, 적층체
-
-
-
-
-
Search Results
6
records
(took 0.04 seconds)
