Abstract:
(과제) 전극 피치가 매우 좁은 반도체 IC 를 매립하는데 적합한 반도체 IC 내장 기판을 제공한다. (해결 수단) 주면 (120a) 에 스터드 범프 (121) 가 설치된 반도체 IC (120) 와, 반도체 IC (120) 의 주면 (120a) 을 덮는 제 1 수지층 (111) 과, 반도체 IC (120) 의 이면 (120b) 을 덮는 제 2 수지층 (112) 을 구비한다. 반도체 IC (120) 의 스터드 범프 (121) 는, 제 1 수지층 (111) 의 표면으로부터 돌출되어 있다. 스터드 범프 (121) 를 제 1 수지층 (111) 의 표면으로부터 돌출시키는 방법으로는, 웨트 블라스트법 등을 이용하여 제 1 수지층 (111) 의 두께를 전체적으로 감소시키면 된다. 이로써, 반도체 IC (120) 의 전극 피치가 좁은 경우여도, 정확하게 스터드 범프 (121) 의 두출을 실시할 수 있다. 반도체 IC 내장기판, 반도체 IC 내장기판의 제조 방법, 전극 피치
Abstract:
(과제) 전극 피치가 매우 좁은 반도체 IC 를 매립하는 것에 바람직한 반도체 IC 내장 기판을 제공한다. (해결 수단) 주면 (120a) 에 스터드 범프 (121) 가 설치된 반도체 IC (120) 와 , 반도체 IC (120) 의 주면 (120a) 을 덮는 제 1 수지층 (111) 과, 반도체 IC (120) 의 이면 (120b) 을 덮는 제 2 수지층 (112) 을 구비한다. 반도체 IC (120) 의 스터드 범프 (121) 는, 제 1 수지층 (111) 의 표면으로부터 돌출되어 있다. 스터드 범프 (121) 를 제 1 수지층 (111) 의 표면으로부터 돌출시키는 방법으로는, 웨트 블라스트법 등을 이용하여 제 1 수지층 (111) 의 두께를 전체적으로 감소시키면 된다. 이로써, 반도체 IC (120) 의 전극 피치가 좁은 경우이어도, 정확하게 스터드 범프 (121) 의 두출을 실시할 수 있다. 반도체 IC 내장기판, 반도체 IC 내장기판의 제조 방법, 전극 피치
Abstract:
A semiconductor embedded substrate and a method for manufacturing the same are provided to improve heat-radiating characteristics by reducing thermal stress of a first heat-radiating part. A semiconductor embedded substrate includes an insulating layer and a semiconductor device arranged in the inside of the insulating layer. The semiconductor embedded substrate includes a first heat-radiating member. The first heat-radiating member is positioned at least one side of the semiconductor device in order to face the semiconductor device. An opening part(P) having at least one opening(H) is formed at a facing surface of the first heat-radiating member. The first heat-radiating member has heat transfer coefficient or thermal conductivity greater than the heat transfer coefficient or the thermal conductivity of the insulating layer.
Abstract:
(과제) 제조시에 있어서나 사용시에 있어서도 열응력을 완화시킴으로써, 충분한 방열 특성 및 신뢰성을 갖는 반도체 내장 기판을 제공한다. (해결수단) 본 발명에 따른 반도체 내장 기판 (100) 은, 수지층 (1, 2, 3) 이 적층된 3 층 구조를 갖는 다층 기판으로, 수지층 (2) 의 내부에, 범프 (32) 가 내부 배선 (13) 및 접속 플러그 (12) 를 통해서 단자 전극 (11) 에 접속된 반도체 장치 (30) 가 매립되어 있다. 이 반도체 장치 (30)의 이면 (30b) 에 바로 위에는, 개구 (H) 가 형성된 개구부 (P) 를 갖는 방열부 (20) 가 대향 배치되어 있어, 반도체 장치 (30) 에서 발생한 열이 그 방열부 (20) 로 전도되어 거기서부터 방열된다. 반도체 내장 기판, 반도체 장치, 방열부
Abstract:
A collective mounting method of electronic components and a manufacturing method of an electronic component-embedded substrate are provided to uniformly fix the electronic components to an insulating layer in a short time by isotropically pressing the electronic components on uncured resin through a pressure medium. A manufacturing method of an electronic component-embedded substrate includes a semiconductor collective fixing step of mounting a plurality of electronic components(220) on an uncured resin layer(212) for forming an insulating layer, simultaneously pressing the plurality of electronic components inside a vessel(31) of a pressing and heating device(3) through a pressure medium, and forming the insulating layer by heating and curing the resin; an insulating layer forming step of forming an additional insulating layer on the plurality of fixed electronic components; and a wiring layer forming step of forming a wiring layer on the additional insulating layer to be electrically connected to the plurality of electronic components.
Abstract:
A mounting method of electronic components, an electronic component-embedded substrate and a manufacturing method thereof are provided to prevent deterioration of adhesion between the electronic component and an insulating layer by suppressing a rise of resin due to sinking of a circumferential edge of the electronic component. A manufacturing method of an electronic component-embedded substrate includes a semiconductor fixing step of mounting an electronic component(220) on an uncured resin layer(212) for forming an insulating layer, isotropically pressing the electronic component through a pressure medium, and forming the insulating layer by heating the resin; an insulating layer forming step of forming an additional insulating layer on the fixed electronic component; and a wiring layer forming step of forming a wiring layer on the additional insulating layer to be electrically connected to the electronic component.