公开(公告)号：KR100681766B1

公开(公告)日：2007-02-12

申请号：KR1020050049230

申请日：2005-06-09

Applicant: 한국과학기술연구원

Inventor： 주오심 ,  김지만 ,  김우영 ,  김동찬

IPC: B82B1/00 ,  B82Y30/00

Abstract: 본 발명은 직접 나노기공 복제법(direct nano-replication method)을 이용한 나노기공 금속 산화물 촉매의 제조 방법에 관한 것으로, 주형으로서 나노기공성 실리카물질에 금속 산화물의 전구체 용액을 함침 및 건조시킨 후 실리카 주형을 습식-에칭시키는 본 발명의 방법에 따라 제조된 금속 산화물은 규칙적인 나노기공 구조, 높은 비표면적을 가지므로, 기존의 광촉매에 비해 우수한 활성을 가져 유기 및 무기 유해물질의 흡착 및 제거용 촉매로 매우 유용하다.

公开(公告)号：KR1020060130901A

公开(公告)日：2006-12-20

申请号：KR1020050049230

申请日：2005-06-09

Applicant: 한국과학기술연구원

Inventor： 주오심 ,  김지만 ,  김우영 ,  김동찬

IPC: B82B1/00 ,  B82Y30/00

CPC classification number: C01B13/14 ,  B82Y30/00 ,  B82Y40/00 ,  C01P2006/16

Abstract: A manufacturing method of metal oxide by using a direct nano-replication method is provided to easily manufacture the metal oxide with excellent photo-catalyst activity and be used as catalyst for absorbing and removing organic and inorganic materials . A precursor solution of metal oxide is impregnated into a nano-air hole silica material as a mold and dried, and thereafter the silica mold is wet-etched. Thereafter the silica mold is removed. The dry process is performed at the room temperature or 150 deg.C in centigrade. The impregnation and dry processes are performed twice or more repeatedly. After the impregnation and dry processes, a calcination process is performed at 500 to 700 deg.C in centigrade before the wet-etching.

Abstract translation: 提供了通过使用直接纳米复制方法的金属氧化物的制造方法，以容易地制造具有优异的光催化剂活性的金属氧化物，并用作吸收和去除有机和无机材料的催化剂。 将金属氧化物的前体溶液浸渍在作为模具的纳米空气孔二氧化硅材料中并干燥，然后湿法蚀刻二氧化硅模具。 然后除去二氧化硅模具。 干燥过程在室温或150摄氏度进行。 浸渍和干燥过程重复进行两次或更多次。 在浸渍和干法处理之后，在湿蚀刻之前，以500-700摄氏度进行焙烧处理。