진공 플라즈마 챔버용 열용사 코팅막 및 그 제조방법
    1.
    发明公开
    진공 플라즈마 챔버용 열용사 코팅막 및 그 제조방법 无效
    用于真空等离子体室的热喷涂涂层及其制造方法

    公开(公告)号:KR1020060031136A

    公开(公告)日:2006-04-12

    申请号:KR1020040080035

    申请日:2004-10-07

    Abstract: 본 발명은 반도체/LCD 제조 시 사용되는 진공 플라즈마 챔버 및 그 내부 부품의 보호막으로서 열용사에 의한 금속 및 세라믹 혼합 코팅막을 제공한다. 상기 혼합층은 열용사에 의해 형성되는 코팅막의 균열발생, 기공 발생, 코팅막의 박리 현상 등이 방지되어 진공 플라즈마 챔버 및 그 내부 부품의 내식성을 향상시키고, 수명을 연장시켜 제품 신뢰성을 더욱 확보할 수 있게 한다.
    열용사, 혼합 코팅층, 균열, 박리

    진공 플라즈마 챔버용 코팅막 및 그 제조방법
    2.
    发明公开
    진공 플라즈마 챔버용 코팅막 및 그 제조방법 无效
    真空等离子体室的涂层及其制造方法

    公开(公告)号:KR1020060031135A

    公开(公告)日:2006-04-12

    申请号:KR1020040080034

    申请日:2004-10-07

    CPC classification number: H01J37/32486

    Abstract: 본 발명은 진공 플라즈마 챔버 또는 그 내부에 장착되는 부품을 모재로 하여, 상기 모재를 전해액에 침지하고, 상기 모재에 고전압의 직류 전류를 가하여 모재 표면에 지속적으로 마이크로 아크 또는 플라즈마를 형성하면서 산화물 코팅막을 형성하는 것을 특징으로 하는 진공 플라즈마 챔버용 코팅막 제조방법 및 이에 따른 코팅막을 제공한다. 본 발명에 따르면, 기존의 아노다이징 표면 코팅에 비해 경도가 2-3배 이상 향상되고 내부 기공이 감소되며, 내구성이 향상된 코팅막을 형성할 수 있다.
    마이크로 방전, 아노다이징, 플라즈마 챔버

Patent Agency Ranking